遮光膜以及遮光部件的制作方法

1.本公开涉及一种遮光膜以及遮光部件。


背景技术：

2.作为智能手机、数码摄像机等所具备的光学零件的快门、条纹部件、或配置于多个透镜间的间隙调整部件，例如使用如专利文献1中公开的那样的遮光部件。遮光部件例如使用下述遮光膜来制造，所述遮光膜具备：片状基材；以及遮光层，与基材的表面重叠配置。在遮光层的表面形成有微细的凹凸。遮光层防止使从外部入射到光学零件的入射光散射而反射，并且对入射光进行遮光。
3.现有技术文献
4.专利文献
5.专利文献1：日本特表2010-534342号公报


技术实现要素：

6.发明要解决的问题
7.伴随着光学零件的小型化，遮光部件例如要求即使厚度薄，也具有优异的遮光性。此外遮光膜例如在准备了多种材料后，将各材料重叠，对表面进行固化来形成。因此，期望高效地制造遮光性优异的遮光部件。
8.因此本公开的目的在于，能高效地制造遮光性优异的遮光部件。
9.技术方案
10.为了解决上述技术问题，本公开的一个方案的遮光膜具备：片状基材，具有遮光性；以及防光泽层，与所述基材重叠配置，在与所述基材相反侧的表面形成有凹凸，比所述基材透明。所述防光泽层包含：粘合剂树脂；填料粒子，分散于所述粘合剂树脂中；以及着色成分，分散于所述粘合剂树脂中。该遮光膜的在jis z 8518中规定的作为明度的黑色度(l
*
)设定为15以下的范围的值。
11.根据上述构成，能对遮光膜赋予使从外部入射的入射光通过防光泽层的表面的凹凸而散射的防眩光性。此外，能利用着色成分抑制入射到防光泽层中的入射光在填料粒子的表面反射而从防光泽层的表面射出。此外，遮光膜的在jis z 8518中规定的作为明度的黑色度(l
*
)设定为15以下的范围的值。此外防光泽层构成为比基材透明。因此，能穿过防光泽层，在外部发挥基材的遮光性。其结果是，能实现明度低并且具有优异的遮光性的遮光膜。
12.此外，防光泽层例如可以通过将包含粘合剂树脂前体、填料粒子以及着色成分的涂覆液涂敷于基材的表面，进行固化来形成。此外，通过将防光泽层中的着色成分的含量设定为上述范围，能抑制由于着色成分而防光泽层的遮光性变得过度。由此，即使在粘合剂树脂前体中例如使用紫外线固化性树脂等光固化性树脂，也能通过从外部对粘合剂树脂前体进行光照射，将粘合剂树脂固化。由此，能高效地形成防光泽层。由此，能使用遮光膜高效地
制造遮光部件。
13.也可以是，所述防光泽层的所述填料粒子的含量为10wt％以上且25wt％以下的范围的值。由此，能容易在防光泽层的表面形成凹凸。此外，也可以是，所述防光泽层的所述着色成分的含量为多于0wt％且5wt％以下的范围的值。由此，能容易利用着色成分抑制在填料粒子的表面反射的反射光。
14.也可以是，所述着色成分包含粒径小于所述填料粒子的颜料微粒。由此，通过在防光泽层中将许多颜料微粒配置于填料粒子的周围，能容易利用颜料微粒进一步抑制入射到防光泽层中的入射光在填料粒子的表面反射而从防光泽层的表面射出。
15.也可以是，波长380nm以上且780nm以下的范围的值内的od值为5以上的范围的值。由此，能得到更进一步良好的遮光膜的遮光性。
16.也可以是，总厚度为40μm以下的范围的值。若使用像这样将总厚度减薄的遮光膜，则例如能在抑制光学零件的大型化的同时，将具有优异的遮光性的遮光部件紧凑地配置于光学零件内。
17.也可以是，所述基材包括：膜构件；以及遮光层，与所述膜构件重叠配置，具有高于所述膜构件的遮光性，在所述膜构件与所述遮光层中，以所述遮光层成为所述防光泽层侧的方式得以配置。此外，也可以是，所述基材包括具有遮光性的膜构件。由此，能提高遮光膜的设计自由度。
18.本公开的一个方案的遮光部件具备：片状基材，具有遮光性；以及
19.防光泽层，与所述基材重叠配置，在与所述基材相反侧的表面形成有凹凸，比所述基材透明，所述防光泽层包含：
20.粘合剂树脂；填料粒子，分散于所述粘合剂树脂中；以及着色成分，分散于所述粘合剂树脂中，该遮光部件的利用显微分光测定而测定出的作为明度的黑色度(l
*
)设定为3.1以下的范围的值。
21.根据上述构成，能对遮光部件赋予使从外部入射的入射光通过防光泽层的表面的凹凸而散射的防眩光性。此外，能利用着色成分抑制入射到防光泽层中的入射光在填料粒子的表面反射而从防光泽层的表面射出。由此，能良好地降低防光泽层的表面的明度。利用显微分光测定而测定出的作为明度的黑色度(l
*
)设定为3.1以下的范围的值。此外防光泽层构成为比基材透明。因此，能穿过防光泽层，在外部发挥基材的遮光性。其结果是，能实现明度低并且具有优异的遮光性的遮光部件。
22.发明内容
23.根据本公开的各方案，能高效地制造遮光性优异的遮光膜。
附图说明
24.图1是第一实施方式的遮光膜的剖视图。
25.图2是图1的遮光膜的局部放大图。
26.图3是第二实施方式的遮光膜的剖视图。
27.图4是表示第二实施方式的遮光膜利用tem(透射型电子显微镜)拍摄到的剖面的图。
28.图5是第三实施方式的光学零件的分解图。
具体实施方式
29.以下，参照附图对各实施方式等进行说明。本公开中的wt％是指质量百分比。质量百分比也可以表示为重量百分比，简称为wt％，或重量-重量百分比。质量百分比是质量[g]/质量[g]的浓度的百分率的表记，与质量浓度(kg/m3)不同。
[0030]
(第一实施方式)
[0031]
[遮光膜]
[0032]
图1是第一实施方式的遮光膜的剖视图。图2是图1的遮光膜1的局部放大图。作为一例，图1和2所示的遮光膜1用于光学零件的遮光部件的制造。遮光膜1具备：片状基材2，具有遮光性；至少一个(在此为一对)防光泽层3，与基材2重叠配置。基材2具有高于一对防光泽层3的遮光性。换言之，防光泽层3比基材2透明。即防光泽层3的总透光率比基材2高。
[0033]
在本说明书中所述的总透光率是指，通过依据jis k 7375：2008的方法测定出的透光率。在遮光膜1中，穿过防光泽层3，发挥基材2的遮光性。作为一例，遮光膜1的总厚度为40μm以下的范围的值。在另一例子中，遮光膜1的总厚度为50μm以下的范围的值。在又一例子中，遮光膜1的总厚度为25μm以下的范围的值。
[0034]
基材2支承防光泽层3，并且对遮光膜1赋予遮光性。本实施方式的基材2包括具有遮光性的膜构件。作为一例，基材2是包含着色成分(在此为黑色成分)和树脂成分的树脂膜。作为黑色成分，可举例示出炭黑，但不限定于此。作为树脂成分，可举例示出聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)、聚酰亚胺(pi)、聚氯乙烯(pvc)、聚丙烯(pp)、聚苯乙烯(ps)、聚碳酸酯(pc)、乙烯-甲基丙烯酸共聚物(emaa)中的一种以上，但不限定于此。基材2的厚度可以在考虑到遮光膜1的总厚度的基础上适当设定。作为一例，基材2的厚度为4.5μm以上且小于25μm的范围的值。在另一例子中，基材2的厚度为50μm以下的范围的值。作为一例，基材2的波长380nm以上且780nm以下的范围的值内的od(光学浓度)值为4以上的范围的值。
[0035]
防光泽层3与基材2重叠配置。防光泽层3在与基材2相反侧的表面形成有凹凸。该凹凸将从外部入射到防光泽层3的入射光散射。遮光膜1具备防光泽层3，由此遮光膜1具有防眩光性。
[0036]
防光泽层3包含：粘合剂树脂30，总透光率为70％以上且小于100％的范围的值；填料粒子31，分散于粘合剂树脂30中；以及着色成分32，分散于粘合剂树脂30中。防光泽层3的表面的凹凸通过如下形成：许多填料粒子31分散于粘合剂树脂30中而配置，并且填料粒子31向防光泽层3的基材2的相反侧突出，使粘合剂树脂30的表面隆起。作为一例，填料粒子31是无机粒子。在该情况下，作为填料粒子31可举例示出二氧化硅粒子。填料粒子31不限定于包含无机材料的构成，也可以是包含有机材料的构成。
[0037]
填料粒子31的平均粒径可以适当设定。本实施方式的填料粒子31的平均粒径为2.0μm以上且5.0μm以下的范围的值。填料粒子31的平均粒径更优选为2.5μm以上且4.5μm以下的范围的值。此外，填料粒子31的平均粒径进一步优选为2.7μm以上且3.5μm以下的范围的值。
[0038]
本实施方式的着色成分32具有高于填料粒子31的光吸收性。作为一例，如图2所示，着色成分32包含颜料微粒。该颜料微粒的粒径小于填料粒子31。在防光泽层3中，许多颜料微粒分散于填料粒子31的周围配置。由此在防光泽层3中，即使在来自外部的光入射到防光泽层3中的情况下，也能利用颜料微粒来抑制在填料粒子31的表面反射的反射光再次从
防光泽层3的表面射出至外部。许多颜料微粒可以配置为各自分离的一次粒子状，也可以配置为以一定程度的数量凝聚的二次粒子状。
[0039]
作为着色成分32，例如可举例示出颜料、染料，但不限定于此。此外，作为着色成分32，例如，可举例示出如下物质中的至少一种：炭黑、灯黑、葡萄藤黑、桃黑、骨炭、碳纳米管、氧化银、氧化锌、磁铁型四氧化三铁、铜与铬的复合氧化物、铜、铬以及锌的复合氧化物、黑色玻璃等。本实施方式的着色成分32包含炭黑(碳微粒)作为颜料微粒。
[0040]
防光泽层3的填料粒子31的含量为10wt％以上且25wt％以下的范围的值。通过将防光泽层3的填料粒子31的含量的下限值设为10wt％，能抑制防光泽层3的表面的光泽而容易对防光泽层3赋予黑色度。通过将防光泽层3的填料粒子31的含量的上限值设为25wt％，能利用填料粒子31抑制防光泽层3的明度(l
*
)上升。
[0041]
防光泽层3的着色成分32的含量为多于0wt％且5wt％以下的范围的值。防光泽层3的着色成分32的含量的下限值可以为1wt％或2wt％中的任意。通过将防光泽层3的着色成分32的含量的下限值设为1wt％，能容易对防光泽层3赋予适度的黑色度。此外，通过将防光泽层3的着色成分32的含量的上限值设为5wt％，能适当保持防光泽层3的表面粗糙度(ra)，容易利用着色成分32来防止防光泽层3的黑色度降低。
[0042]
考虑到向防光泽层3的用途，作为一例，本实施方式的粘合剂树脂30总透光率为70％以上且100％以下的范围的值。此外作为一例，粘合剂树脂30包含热塑性树脂、热固性树脂、或光固化性树脂中的至少任一种。因此，作为粘合剂树脂30，可以选择广泛的树脂。由此在遮光膜1中，能发挥在粘合剂树脂30中使用的树脂的各功能。
[0043]
作为热塑性树脂，例如，可举例示出如下物质中的一种以上：聚烯烃、苯乙烯系树脂、丙烯酸系树脂、氯乙烯系树脂、聚乙烯醇系树脂、聚缩醛、聚酯、聚碳酸酯、聚酰胺、聚酰亚胺、聚砜系树脂、聚苯醚系树脂、聚苯硫醚系树脂、氟树脂、纤维素衍生物、聚氨酯系树脂等。其中，就强度的观点而言，例如，优选环状聚烯烃、聚亚烷基二醇芳酸酯(聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)、聚萘二甲酸乙二醇酯(pen)等)、聚甲基丙烯酸甲酯类树脂、双酚a型聚碳酸酯、纤维素酯。
[0044]
作为热固性树脂，可举例示出如下物质中的一种以上：酚醛树脂、密胺树脂、尿素树脂、苯并胍胺树脂、有机硅树脂、环氧树脂、不饱和聚酯、乙烯基酯树脂、聚氨酯等。其中就强度的观点而言，优选环氧树脂、不饱和聚酯、有机硅树脂、聚氨酯。
[0045]
作为光固化性树脂，例如，可举例示出如下物质中的一种以上：光固化性聚酯、光固化性丙烯酸类树脂、光固化性环氧(甲基)丙烯酸酯、光固化性氨基甲酸(甲基)丙烯酸酯等。其中就强度的观点而言，优选光固化性丙烯酸类树脂、光固化性氨基甲酸(甲基)丙烯酸酯。需要说明的是，在此所述的“光固化性”是指，通过特定波长的光进行聚合和固化的特性。
[0046]
防光泽层3的波长380nm以上且780nm以下的范围的值内的od值为2以下的范围的值。由此，能容易对防光泽层3赋予适度的黑色度，并且能容易穿过防光泽层3，在外部发挥基材2的遮光性。
[0047]
遮光膜1的在jis z 8518：1998中规定的明度(l
*
)为15以下(作为一例为14以下，在另一例子中为13.7以下、或13.2以下)的范围的值。此外遮光膜1的与防光泽层3的基材2相反侧的表面的算术平均粗糙度(ra)为0.2以上且0.8μm以下的范围的值。作为该表面的算
术平均粗糙度(ra)，更优选为0.4以上且0.6μm以下的范围的值。此外遮光膜1的与防光泽层3的基材2相反侧的表面的入射角60度下的光泽度为0.5以下的范围的值。
[0048]
在此，在对在jis z 8518中规定的作为明度的黑色度(l
*
)进行测定的情况下，例如对试样照射光，通过测定来自试样的反射光来进行反射测定。根据积分球方式，可以利用从试样表面反射的光将积分球的内部照亮，使用检测器对其光量进行测定。在该情况下，测定值成为将反射基准(标准白板)的反射率设为为100％的情况下的反射率(相对反射率)。测定方式需要根据测定的试样的种类、形状、测定的目的、用途来区分使用。在积分球方式中，为了对试样表面的黑色度(l
*
)进行定量化，适合对全部正反射光和漫反射光进行测定的sci(包括正反射光)方法。在本说明书中，使用分光光度计((株)日立hightech science制“u-3900h”)，基于sci方式，基于波长380nm以上且780nm以下的范围内的反射率计算出黑色度(l
*
)。
[0049]
此外od值可以通过下述方式测定：使用光学浓度计(videojet x-rite(株)制“x-rite341c”)，对试样照射垂直透射光束，以log(对数)表示与无试样的状态之比。在此情况下的光束宽度可以测定为直径2mm的圆形。此外，防光泽层3的od值例如可以通过将从遮光膜1的整体的od值减去基材2的od值而得到的值，除以防光泽层3的数量来计算出。
[0050]
此外就平均粒径而言，例如利用场发射扫描电子显微镜(日本电子(株)制“jsm-6700f”)拍摄放大至10万倍的粒子表面的照片。根据需要进一步放大其放大照片，对于50个以上的粒子，使用尺子、游标卡尺等，除以放大倍率来计算出。可以将平均粒径计算为该计算出的各值的平均值。
[0051]
此外入射角60度下的光泽度(基于依据jis z 8741：1997的测定方法的镜面光泽度)可以使用光泽计来测定。此外算术平均粗糙度(ra)是中心线平均表面粗糙度，根据jis b 0601：1994的定义来计算出。总透光率可以基于依据jis k 7361：1997的测定方法来测定。
[0052]
接着对遮光膜1的制造方法进行例示。本实施方式的遮光膜1的制造方法具有：形成步骤，形成与基材2重叠配置的防光泽层3。在该形成步骤中，在将包含粘合剂树脂前体、填料粒子31、以及着色成分32的涂覆液涂布于片状基材2的表面使其附着的状态下，由粘合剂树脂前体生成粘合剂树脂30。由此，填料粒子31和着色成分32分散于粘合剂树脂30中，形成与基材2重叠配置的防光泽层3。
[0053]
在形成步骤中，使用粘合剂树脂30的总透光率为70％以上且小于100％的范围的值的粘合剂树脂前体，在防光泽层3中，使用以防光泽层3的填料粒子31的含量为10wt％以上且25wt％以下的范围的值，防光泽层3的着色成分32的含量成为多于0wt％且5wt％以下的范围的值的方式利用溶剂稀释制备出的所述涂覆液。
[0054]
作为具体例子，操作者制备成为防光泽层3的材料的所述涂覆液。接下来，操作者将该涂覆液涂布于基材2的表面。然后，操作者也可以使涂覆液中的粘合剂树脂前体发生反应，生成粘合剂树脂30。在此，在粘合剂树脂30包含光固化性树脂的情况下，操作者对涂覆液进行光照射，生成粘合剂树脂30。在粘合剂树脂30包含热固性树脂的情况下，操作者对从涂覆液去除了溶剂的剩余的树脂前体进行加热，生成粘合剂树脂30。
[0055]
像这样在本实施方式的制造方法中，通过光照或加热生成粘合剂树脂30。防光泽层3的表面形状由填料粒子31形成。由此，可制造遮光膜1。根据该方法，以涂覆液涂布于基
材2表面的状态形成防光泽层3。因此，能降低遮光膜1的制造工序数量。此外，例如无需在防光泽层3的表面转印凹凸形状的转印构件。因此，能连续且高效地制造遮光膜1。
[0056]
如以上说明的那样，根据遮光膜1，能对遮光膜1赋予使从外部入射的入射光通过防光泽层3的表面的凹凸而散射的防眩光性。此外，能利用着色成分32抑制入射到防光泽层3中的入射光在填料粒子31的表面反射而从防光泽层3的表面射出。此外遮光膜1的在jis z 8518中规定的作为明度的黑色度(l
*
)设定为15以下的范围的值。此外防光泽层3构成为比基材2透明。因此，能穿过防光泽层3，在外部发挥基材2的遮光性。其结果是，能实现明度低并且具有优异的遮光性的遮光膜1。
[0057]
此外，这样的防光泽层3例如可以通过将包含粘合剂树脂30的前体、填料粒子31、以及着色成分32的涂覆液，涂敷于基材2的表面，进行固化来形成。此外，通过将防光泽层3中的着色成分32的含量设定为上述范围，能由于抑制着色成分32而防光泽层3的遮光性变得过度。由此，即使在粘合剂树脂前体中例如使用紫外线固化性树脂等光固化性树脂，也能通过从外部对粘合剂树脂前体进行光照，将粘合剂树脂30固化。由此，能高效地形成防光泽层3。由此，能使用遮光膜1高效地制造遮光部件。
[0058]
此外，就本实施方式的防光泽层3而言，填料粒子31的含量为10wt％以上且25wt％以下的范围的值。由此，能容易在防光泽层3的表面形成凹凸。此外，防光泽层3的着色成分32的含量为多于0wt％且5wt％以下的范围的值。由此，能容易利用着色成分32来抑制在填料粒子31的表面反射的反射光。
[0059]
此外，防光泽层3的总透光率为10％以上且40％以下的范围的值。由此，能容易对防光泽层3赋予适度的黑色度，并且能容易穿过防光泽层3，在外部发挥基材2的遮光性。此外，即使在粘合剂树脂前体中例如使用紫外线固化性树脂等光固化性树脂，也能进一步高效地形成防光泽层3。
[0060]
此外就遮光膜1而言，作为一例，填料粒子31的平均粒径为2.0μm以上且5.0μm以下的范围的值。由此，能适当形成防光泽层3的表面的凹凸，得到更优异的光分散性。
[0061]
此外，本实施方式的着色成分32包含粒径小于填料粒子31的颜料微粒。由此，通过在防光泽层3中将许多颜料微粒配置于填料粒子31的周围，能容易利用颜料微粒进一步抑制入射到防光泽层3中的入射光在填料粒子31的表面反射而从防光泽层3的表面射出。
[0062]
此外就遮光膜1而言，作为一例，防光泽层3的波长380nm以上且780nm以下的范围的值内的od值为2以下的范围的值。由此，能更容易穿过防光泽层3，在外部发挥基材2的遮光性。
[0063]
此外就遮光膜1而言，作为一例，基材2的波长380nm以上且780nm以下的范围的值内的od值为4以上的范围的值。由此，能更进一步提高基材2的遮光性。
[0064]
此外就遮光膜1而言，作为一例，波长380nm以上且780nm以下的范围的值内的od值为5以上的范围的值。由此，能得到更进一步良好的遮光膜1的遮光性。
[0065]
此外就本实施方式的遮光膜1而言，作为一例，总厚度为40μm以下的范围的值。若使用像这样将遮光膜1的总厚度减薄的遮光膜1，则例如能在抑制光学零件的大型化的同时，将具有优异的遮光性的遮光部件紧凑地配置于光学零件内。
[0066]
此外就遮光膜1而言，填料粒子31为无机粒子。此外粘合剂树脂30包含光固化性树脂或热固性树脂中的至少任一种。此外基材2包括具有遮光性的膜构件。由此，能提高遮光
膜1的设计自由度。以下，以与第一实施方式的差异为中心，对其他实施方式进行说明。
[0067]
(第二实施方式)
[0068]
图3是第二实施方式的遮光膜101的剖视图。如图3所示，遮光膜101的基材20包括：膜构件21；以及遮光层22、23，与膜构件21重叠配置。膜构件21的例如总透光率为80％以上且小于100％的范围的值。作为一例，膜构件21是包含pet、pi等的树脂成分的树脂膜。遮光层22、23包含粘合剂树脂和着色成分。该着色成分例如与第一实施方式同样地包含颜料微粒。遮光层22、23具有高于膜构件21的遮光性。膜构件21可以薄于遮光层22、23，也可以厚于遮光层22、23。
[0069]
在遮光膜101中，在膜构件21与遮光层22、23中，以遮光层22、23成为防光泽层3侧的方式得以配置。遮光膜101的基材20只要具有至少一个遮光层即可。作为具体例子，作为一例，本实施方式的遮光膜101具备一对遮光层22、23和一对防光泽层3。就遮光膜101而言，在膜构件21的两面侧中，膜构件21的表面由遮光层22、23覆盖，与遮光层23的膜构件21相反侧的表面被防光泽层3覆盖。基材20的整体的遮光性与基材2同等地设定。
[0070]
具有上述构成的遮光膜101也能得到与遮光膜1同样的效果。此外，可以对膜构件21和遮光层22、23进行功能分离。由此，能提高遮光膜101的设计自由度。
[0071]
图4是表示第二实施方式的遮光膜101利用tem(透射电子显微镜)拍摄到的剖面的图。如图4所示，通过使用tem，能将遮光膜101的基材20中的膜构件21和遮光层23明确区分而确认。作为一例，膜构件21和遮光层23能通过遮光层23所含的炭黑等颜料微粒带来的比较浓的着色而明确确认。此外遮光层23和防光泽层3能通过各自所含的炭黑等颜料微粒带来的着色浓度的不同而明确确认。需要说明的是，虽未图示，但对于第一实施方式的基材2，也能与防光泽层3同样地通过各自所含的炭黑等颜料微粒带来的着色浓度的不同而明确确认。
[0072]
(第三实施方式)
[0073]
图5是第三实施方式的光学零件40的分解图。如图5所示，光学零件40具备：多个遮光部件f1～f6；多个光学构件(在此为透镜l1～l6)；以及壳体(镜筒)41，容纳遮光部件f1～f6和光学构件。作为一例，遮光部件f1～f6配置为在相邻的光学构件间包围光学构件的光轴r。光学零件40所具备的遮光部件的片数和光学构件的个数不受限定。
[0074]
遮光部件f1～f6具有与第一实施方式的遮光膜1相同的剖面结构。即遮光部件f1～f6具备：具有遮光性的片状基材2(或基材20)和防光泽层3。防光泽层3包含：粘合剂树脂30；填料粒子31，分散于粘合剂树脂30中；以及着色成分32，分散于粘合剂树脂30中。遮光部件f1～f6的利用显微分光测定而测定出的作为明度的黑色度(l
*
)设定为3.1以下的范围的值。
[0075]
根据第三实施方式，能对遮光部件f1～f6赋予使从外部入射的入射光通过防光泽层3的表面的凹凸而散射的防眩光性。此外，能利用着色成分抑制入射到防光泽层3中的入射光在填料粒子31的表面反射而从防光泽层3的表面射出。由此，能良好地降低防光泽层3的表面的明度。利用显微分光测定而测定出的作为明度的黑色度(l
*
)设定为3.1以下的范围的值。此外防光泽层3构成为比基材2(或基材20)透明。因此，能穿过防光泽层3，在外部发挥基材2(或基材20)的遮光性。其结果是，能实现明度低并且具有优异的遮光性的遮光部件f1～f6。
[0076]
作为该黑色度(l
*
)的测定方法，例如可以使用奥林巴斯(株)制近红外显微分光测定机“uspm-ru-w”作为显微分光测定机，在设为物透镜倍率40倍、光源d65、测定na0.24、测定范围17.5μm、以及测定波长380nm以上且1050nm以下的范围的设定条件下进行测定。
[0077]
此外，遮光膜1和遮光部件f1～f6的所具备的防光泽层3中的着色成分32的含量例如可以通过以下方法来确认。首先，使用tem(透射电子显微镜)得到作为对象的遮光膜1和遮光部件f1～f6的剖面的拍摄图像。接着，对该拍摄图像中的各着色成分32的面积进行测定。然后，基于该面积值，计算出在将着色成分32判断为球体粒子的情况下的、防光泽层3中的着色成分32的总体积。基于该体积值和已知的着色成分32的密度，计算出所述含量。
[0078]
(确认试验)
[0079]
接着，对确认试验进行说明，但本公开不限定于如下所示的实施例。制作出遮光膜101作为实施例1。使用了厚度为4.5μm且总透光率为87.6％的pet膜(toray(株)制pet膜)作为膜构件21。将包含聚氨酯类粘合剂树脂(东洋纺(株)制“vylon 40ss”)、相对于遮光层23的重量比例为12wt％的炭黑(御国色素(株)制“mhi black#273”)的材料涂覆于膜构件21的两面，通过热固，形成了干燥后的厚度为1.5μm的一对遮光层23。由此，形成了波长380nm以上且780nm以下的范围的值内的od值为5.3的基材20。
[0080]
此外，按以下的顺序形成了防光泽层3。将包含作为粘合剂树脂30的热固性粘合剂树脂(kohshin chemical(株)制“kdc-03”)、作为填料粒子31的无机(硅)粒子(fuji silysia(株)制“sylysia 420”平均粒子径2.9μm)、以及作为相对于防光泽层3的重量为9wt％的着色成分32的炭黑(御国色素(株)制“mhi black#273”平均粒子径0.15μm)的材料涂覆于基材20的两面，使其干燥以及固化。形成了干燥后的各厚度为4.0μm的一对防光泽层3。根据以上，制作出总厚度为25μm以下(具体而言15μm以上且16μm以下)的范围的值的实施例1的遮光膜101。
[0081]
此外，制作出如下的实施例2的遮光膜101：在防光泽层3的制作中，使用了紫外线固化性树脂(横滨橡胶(株)制“hr-370-192”)来代替热固性粘合剂树脂(kohshin chemical(株)制“kdc-03”)，除此以外，与实施例1同样。此外，制作出如下的实施例3的遮光膜1：使用了厚度为12μm的黑色pet膜(南亚(nanya)(株)制黑遮光pet)作为基材2，除此以外，与实施例1同样。此外，制作出如下的实施例4的遮光膜1：使用了厚度为12μm的遮光耐热性的混入黑pi膜(达迈科技(株)制pi膜)作为基材2，除此以外，与实施例1同样。
[0082]
此外，制作出如下的比较例1的遮光膜：使用了厚度为4.5μm、总透光率为87.6％的pet膜(toray(株)制pet膜)的透明基材作为基材，除此以外，与实施例3同样。此外，制作出如下的比较例2的遮光膜：在与防光泽层3对应的表面层的制作中，使热固性粘合剂树脂(kohshin chemical(株)制“kdc-03”)与炭黑(御国色素(株)制“mhi black#273”)的比率与比较例1不同，除此以外，与比较例1同样。
[0083]
在此，在试图制作如下的比较例3的遮光膜时，确认到无法形成表面层：在表面层的制作中，使用了紫外线固化性树脂(横滨橡胶(株)制“hr-370-192”)来代替热固性粘合剂树脂(kohshin chemical(株)制“kdc-03”)，除此以外，与比较例2同样。
[0084]
此外，制作出如下的比较例4的遮光膜：使用与实施例1同样的基材作为基材，在表面层的制作中，使fuji silysia(株)制“sylysia 420”、热固性粘合剂树脂(kohshin chemical(株)制“kdc-03”)、以及炭黑(御国色素(株)制“mhi black#273”)的比率与比较例
1不同。
[0085]
此外，制作出如下的比较例5的遮光膜：使用与实施例3同样的基材作为基材，在表面层的制作中，具有按规定的比率包含fuji silysia(株)制“sylysia 420”、热固性粘合剂树脂(kohshinchemical(株)制“kdc-03”)、以及炭黑(御国色素(株)制“mhi black#273”)的防光泽层。
[0086]
此外，制作出如下的比较例6的遮光膜：使用了与实施例1同样的基材作为基材，除此以外，与比较例5同样。此外，制作出如下的比较例7、8的遮光膜：在表面层的制作中，使fuji silysia(株)制“sylysia 420”、热固性粘合剂树脂(kohshin chemical(株)制“kdc-03”)、以及炭黑(御国色素(株)制“mhi black#273”)的比率与比较例6不同，除此以外，与比较例6同样。
[0087]
对于实施例1～4的防光泽层3的表面以及比较例1、2、4～8的表面层，使用光泽计，对表面的入射角60度下的光泽度进行了测定。此外对于实施例1～4以及比较例1、2、4～8，通过依据jis z 8518的测定方法和基于显微分光测定的测定方法，对遮光膜的明度(l
*
)进行了测定。此外对于实施例1～4以及比较例1、2、4～8，使用光学浓度计，对遮光膜的波长380nm以上且780nm以下的范围的值内的od值进行了测定。此外对于实施例1～4的防光泽层3的表面以及比较例1、2、4～8的表面层，使用表面粗糙度计，对表面的表面粗糙度(ra)进行了测定。此外通过依据jis k 5600：1999的方法，对关于实施例1～4的防光泽层3的表面以及比较例1、2、4～8的表面层的铅笔硬度进行了测定。其中，载荷采用了500g载荷。将实施例1～4以及比较例1～8的组成和测定结果示于表1～3。
[0088]
[表1]
[0089][0090]
[表2]
[0091][0092]
[表3]
[0093][0094]
如表1～3所示，关于实施例1～4，确认到：得到具有良好的遮光性和od值的遮光膜1、101。此外，由于防光泽层3构成为能透射光，因此例如如实施例2所示，确认到：即使在使用了紫外线固化性树脂作为防光泽层3的材料的情况下，也能从外部对材料中照射充分光量的紫外线，能形成具有优异的硬度的防光泽层3。此外确认到：实施例1～4的防光泽层3的表面与比较例1～2、4～8的表面层的表面相比，具有同等以上的铅笔硬度(高于hb的铅笔硬度)。由此确认到实施例1～4的防光泽层3具有充分的硬度。
[0095]
与此相对，比较例1在基材使用上述透明基材，结果确认到：明度(l
*
)和od值均为
比实施例1～4差的结果，无法得到充分遮光性。此外如比较例2那样，确认到：当使相当于实施例的防光泽层的表面层的黑色成分(炭黑)的添加量与比较例1相比增大时，虽然遮光性提高，但由于表面层的表面粗糙度降低，表面层的表面光泽度增大，由此明度(l
*
)变高。
[0096]
此外如比较例3所示，判明了：当表面层的黑色成分(炭黑)的添加量多时，在使用了紫外线固化性树脂作为表面层的材料的情况下，无法从外部对材料中照射充分光量的uv，因此无法将紫外线固化性树脂固化，无法形成表面层。由此在比较例3中，确认到：难以将紫外线固化性树脂例如作为粘合剂树脂而发挥作用。
[0097]
此外根据比较例4的结果确认到：即使在基材使用了与实施例1同样的基材的情况下，当减少表面层的黑色成分的添加量时，遮光膜的明度(l
*
)也变高。此外根据比较例5、6的结果确认到：即使遮光膜的基材使用基材2(混入黑pet)、基材20(遮光层/膜构件/遮光层的三层结构)中的任一种，当表面层的黑色成分的添加量过多时，表面层的表面粗糙度也降低，表面层的表面的光泽度也增大，由此明度(l
*
)变得高于18。
[0098]
此外，根据比较例7的结果确认到：当填料粒子(fuji silysia(株)制“sylysia 420”)向表面层的添加量过少时，无法得到表面层的表面的粗糙性，该表面的光泽度变高，遮光膜的黑色度降低。此外，根据比较例8的结果确认到：当填料粒子(fuji silysia(株)制“sylysia 420”)向表面层的添加量过多时，表面层的表面的光泽度降低，但通过加入粒子的白色度，遮光膜的黑色度降低。根据以上，确认了实施例1～4的优越性。
[0099]
各实施方式中的各构成和各构成的组合等是一个例子，可以在不脱离本公开的主旨的范围内进行适当的构成的附加、省略、置换以及其他变更。本公开不由实施方式限定，仅由专利权利要求限定。此外，本说明书所公开的各种方案可以与本说明书所公开的其他的任意特征组合。
[0100]
符号说明
[0101]
f1～f6 遮光部件
[0102]
l1～l6 透镜
[0103]
1、101 遮光膜
[0104]
2、20 基材
[0105]
3 防光泽层
[0106]
21 膜构件
[0107]
22、23 遮光层
[0108]
30 粘合剂树脂
[0109]
31 填料粒子
[0110]
32 着色成分
[0111]
40 光学零件
[0112]
41 壳体
[0113]
书类名。