基材、光学滤波器及其用途的制作方法

1.本发明涉及一种适于光学滤波器的基材、包括所述基材的光学滤波器及其用途。


背景技术：

2.在摄像机、数字静态照相机、带有照相机功能的移动电话等固体摄像装置中，使用作为彩色图像的固体摄像元件的电荷耦合器件(charge coupled device，ccd)或互补金属氧化物半导体(complementary metal oxide semiconductor，cmos)图像传感器。在这些固体摄像元件中，在其光接收部中使用对于人眼无法感知的近红外线具有灵敏度的硅光二极管(silicon photodiode)。另外，即便在光学传感器装置中，也使用硅光二极管等。例如，在固体摄像元件中，必须进行以人眼来看呈现自然的色泽的能见度修正，且多使用选择性地透过或截止特定波长区域的光线的光学滤波器(例如，近红外线截止滤波器)。
3.作为此种近红外线截止滤波器，自从前起便使用利用各种方法所制造的滤波器。例如，已知有使用树脂作为基材且使树脂中含有近红外线吸收色素的近红外线截止滤波器(例如参照专利文献1)或使氧化铜分散于磷酸玻璃中的吸收玻璃型光学滤波器(例如参照专利文献2)。
4.然而，专利文献1中所记载的近红外线截止滤波器存在近红外线吸收特性未必充分的情况。
5.另外，近年来，要求固体摄像装置的薄型化，对所使用的光学滤波器也要求薄型化。然而，存在如下问题：若减薄光学滤波器的厚度，则容易产生翘曲或破裂。进而，在要求所述薄型化的同时，也要求提高光学滤波器的耐热性。
6.[现有技术文献]
[0007]
[专利文献]
[0008]
[专利文献1]日本专利特开平6-200113号公报
[0009]
[专利文献2]国际公开第2011/071157号


技术实现要素：

[0010]
[发明所要解决的问题]
[0011]
鉴于所述现有技术的问题点，本发明的课题在于提供一种适于如下光学滤波器的基材、包括所述基材的光学滤波器、以及包括所述光学滤波器的固体摄像装置及照相机模块，所述光学滤波器的近红外线遮蔽性等光学特性及耐热性优异、并且可达成进一步的薄型化且不易产生翘曲或破裂。
[0012]
[解决问题的技术手段]
[0013]
本发明人们为了解决所述课题而进行了努力研究，结果发现，根据下述结构例而可解决所述课题，从而完成了本发明。以下示出本发明的结构例。
[0014]
[1]一种基材，具有含有纳米纤维的层，并且吸收极大波长处于波长600nm～1200nm的范围。
[0015]
[2]根据项[1]所述的基材，其中，所述纳米纤维的平均纤维径为3nm～200nm，且平均纤维长为0.2μm～10μm。
[0016]
[3]根据项[1]或项[2]所述的基材，其中，所述纳米纤维的比表面积为70m2/g～300m2/g。
[0017]
[4]根据项[1]至项[3]中任一项所述的基材，其中，所述纳米纤维的结晶度为43％以上。
[0018]
[5]根据项[1]至项[4]中任一项所述的基材，其中，所述纳米纤维为能够分散于有机溶剂中的疏水性纤维素纳米纤维。
[0019]
[6]根据项[1]至项[5]中任一项所述的基材，包括树脂制基板，所述树脂制基板含有所述纳米纤维及吸收极大波长处于波长600nm～1200nm的范围的化合物(a)。
[0020]
[7]根据项[6]所述的基材，其中，在将构成所述树脂制基板的树脂与所述纳米纤维的含量的合计设为100质量份时，所述纳米纤维的含量为5质量份～50质量份。
[0021]
[8]根据项[1]至项[5]中任一项所述的基材，包括：基板，选自含有吸收极大波长处于波长600nm～1200nm的范围的化合物(a)的树脂制基板及近红外线吸收玻璃基板中；以及树脂层，形成于所述基板的两面且含有所述纳米纤维。
[0022]
[9]根据项[1]至项[5]中任一项所述的基材，包括：树脂制或玻璃制的支撑体；以及树脂层，形成于所述支撑体的两面且含有所述纳米纤维及吸收极大波长处于波长600nm～1200nm的范围的化合物(a)。
[0023]
[10]根据项[8]或项[9]所述的基材，其中，在将构成所述树脂层的树脂与所述纳米纤维的含量的合计设为100质量份时，所述纳米纤维的含量为5质量份～70质量份。
[0024]
[11]根据项[6]至项[8]中任一项所述的基材，其中，构成所述树脂制基板的树脂为选自由环状聚烯烃系树脂、芳香族聚醚系树脂、聚酰亚胺系树脂、芴聚碳酸酯系树脂、芴聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺系树脂、芳族聚酰胺系树脂、聚砜系树脂、聚醚砜系树脂、聚对苯系树脂、聚酰胺酰亚胺系树脂、聚萘二甲酸乙二酯系树脂、氟化芳香族聚合物系树脂、(改性)丙烯酸系树脂、环氧系树脂、倍半硅氧烷系紫外线硬化型树脂、马来酰亚胺系树脂、脂环环氧热硬化型树脂、聚醚醚酮系树脂、聚芳酯系树脂、烯丙酯系硬化型树脂、丙烯酸系紫外线硬化型树脂、乙烯基系紫外线硬化型树脂及利用溶胶凝胶法形成的将二氧化硅作为主成分的树脂所组成的群组中的至少一种树脂。
[0025]
[12]根据项[9]或项[10]所述的基材，其中，构成所述树脂层的树脂为选自由环状聚烯烃系树脂、芳香族聚醚系树脂、聚酰亚胺系树脂、芴聚碳酸酯系树脂、芴聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺系树脂、芳族聚酰胺系树脂、聚砜系树脂、聚醚砜系树脂、聚对苯系树脂、聚酰胺酰亚胺系树脂、聚萘二甲酸乙二酯系树脂、氟化芳香族聚合物系树脂、(改性)丙烯酸系树脂、环氧系树脂、倍半硅氧烷系紫外线硬化型树脂、马来酰亚胺系树脂、脂环环氧热硬化型树脂、聚醚醚酮系树脂、聚芳酯系树脂、烯丙酯系硬化型树脂、丙烯酸系紫外线硬化型树脂、乙烯基系紫外线硬化型树脂及利用溶胶凝胶法形成的将二氧化硅作为主成分的树脂所组成的群组中的至少一种树脂。
[0026]
[13]一种光学滤波器，包括根据项[1]至项[12]中任一项所述的基材、以及电介质多层膜。
[0027]
[14]根据项[13]所述的光学滤波器，厚度为150μm以下。
[0028]
[15]一种摄像装置，包括根据项[13]或项[14]所述的光学滤波器。
[0029]
[16]一种照相机模块，包括根据项[13]或项[14]所述的光学滤波器。
[0030]
[发明的效果]
[0031]
根据本发明，可提供一种光学滤波器、适于所述光学滤波器的基材、以及包括所述光学滤波器的固体摄像装置及照相机模块，所述光学滤波器的近红外线遮蔽性等光学特性优异、并且达成进一步的薄型化且低翘曲性及耐热性优异。
附图说明
[0032]
图1的(a)、图1的(b)及图1的(c)是表示本发明的基材的形态例的示意图。
[0033]
[符号的说明]
[0034]
1a：含有化合物(a)及纳米纤维的树脂制基板
[0035]
1b：含有化合物(a)的基板
[0036]
1c：树脂制支撑体或玻璃支撑体
[0037]
2a：树脂层
[0038]
2b：含有纳米纤维的树脂层
[0039]
2c：含有化合物(a)及纳米纤维的树脂层
具体实施方式
[0040]
以下，参照附图等并且对本发明的基材及光学滤波器的实施方式进行说明。但是，本发明能够以多个不同的形态实施，并不由以下例示的实施方式的记载内容限定性地解释。关于附图，为了更明确地进行说明，与实际的形态相比，存在对各部的宽度、厚度、形状等进行示意性表示的情况，但终究为一例，并不限定本发明的解释。另外，在说明书与各图中，关于已示出的图，对于与所述相同的要素，标注相同的符号或标注类似的符号(在数字后仅标注“'”等的符号)，有时适宜省略详细说明。
[0041]
此外，在本发明中，表示数值范围的“a～b”等的记载与“a以上且b以下”为相同含义，且a及b包含于所述数值范围内。另外，在本发明中，所谓波长a nm～b nm，是表示波长a nm以上且波长b nm以下的波长区域中的波长分解能力1nm下的特性。
[0042]
＜基材＞
[0043]
本发明的基材具有含有后述的纳米纤维的层，并且吸收极大波长处于波长600nm～1200nm的范围。关于本发明的基材，只要不损及本发明的效果，则材质、形状等并无特别限制，优选为具有透明性的板状体。作为此种基材的材质，例如可列举各种玻璃及树脂。
[0044]
所述基材可为单层也可为多层，可包含选自所述材料中的一种材质，也可包含多种，还可为适宜混合而成的材料。
[0045]
作为所述基材的优选形态，可列举
[0046]
形态(i)，包括树脂制基板，所述树脂制基板含有所述纳米纤维及吸收极大波长处于波长600nm～1200nm的范围的化合物(a)；
[0047]
形态(ii)，包括：基板，选自含有所述化合物(a)的树脂制基板及近红外线吸收玻璃基板中；以及树脂层，形成于所述基板的两面且含有所述纳米纤维；
[0048]
形态(iii)，包括：树脂制或玻璃制的支撑体；以及树脂层，形成于所述支撑体的两
面且含有所述纳米纤维及所述化合物(a)。
[0049]
此外，所述纳米纤维及所述化合物(a)可包含于同一层中，也可包含于不同的层中。
[0050]
在所述形态(i)中，视需要也可在所述树脂制基板的至少一面层叠包含硬化性树脂等的外涂层等树脂层。在图1的(a)中，作为形态(i)的基材的例子，示出在含有所述纳米纤维及所述化合物(a)的树脂制基板1a的两面具有外涂层(树脂层)2a的形态例。在图1的(b)中，作为形态(ii)的基材的例子，示出在所述基板1b的两面具有含有所述纳米纤维的树脂层2b的形态例。在图1的(c)中，作为形态(iii)的基材的例子，示出在所述支撑体1c的两面具有含有所述纳米纤维及所述化合物(a)的树脂层2c的形态例。
[0051]
以下，也将含有至少一种化合物(a)与树脂的层称为“透明树脂层”。
[0052]
在所述基材中，波长600nm～1200nm的区域中的透过率的最小值(t1)优选为3％以下，更优选为2％以下，进而优选为1％以下。若t1处于所述范围，则可使吸收带的透过率截止充分，在照相机图像中可抑制光源周边的重影(ghost)，因此优选。
[0053]
在所述基材中，在波长550nm以上的区域中透过率自超过50％成为50％以下的最短波长(xc)的最优范围依存于应用用途的种类。作为一例，在摄像用途时，xc优选为630nm～655nm，更优选为632nm～652nm，进而优选为634nm～650nm。若xc未满628nm，则有相当于红色的波长区域的透过率变低，色彩再现性降低的倾向，若超过658nm，则有无法确保充分强度的吸收强度，会在照相机图像中产生颜色阴影的倾向。
[0054]
所述基材的雾度值优选为0.5％以下，进而优选为0.4％以下，特别优选为0.35％以下。若雾度值处于所述范围，则可在照相机图像中抑制光源周边的光斑，因此优选。
[0055]
40℃～100℃的范围下的基材的线膨胀系数(热膨胀系数(coefficient of thermal expansion，cte))优选为60ppm/℃以下，进而优选为50ppm/℃以下，特别优选为40ppm/℃以下。若基材的cte处于所述范围，则可抑制形成电介质多层膜时的光学滤波器的热变形，耐热性提高，因此优选。
[0056]
基材的拉伸弹性模量优选为3.0gpa以上，进而优选为3.5gpa以上，特别优选为4.0gpa以上。若基材的拉伸弹性模量处于所述范围，则可减低形成电介质多层膜时的光学滤波器的翘曲，因此优选。
[0057]
所述形态(ii)中的基板及所述形态(iii)中的支撑体上所形成的树脂层(涂膜)的马氏硬度(martens hardness)优选为200n/mm2以上，进而优选为210n/mm2以上，特别优选为215n/mm2以上。若涂膜的马氏硬度处于所述范围，则物体接触于涂膜表面时，涂膜不易产生划伤，因此优选。
[0058]
在基材为所述形态(i)时，起到以下效果。
[0059]
1.通过包含纳米纤维，可实现基材的高强度化及低cte化，并且可减低光学滤波器的翘曲。因此种机械特性提高而能够实现基材的薄膜化。
[0060]
2.通过包含纳米纤维，即便在构成树脂制基板的树脂的玻璃化转变温度以上的环境中，也可抑制基材的软化，作为光学滤波器的耐热性提高。
[0061]
3.通过包含纳米纤维，可抑制冲压光学滤波器时的龟裂扩展，光学滤波器的冲压端部的耐久性提高。
[0062]
在基材为所述形态(ii)时，起到以下效果。
[0063]
1.在形成包含纳米纤维的涂膜时，可抑制造成外观不良的凹陷缺陷。
[0064]
2.通过包含纳米纤维，涂膜表面的耐擦伤性提高，可抑制造成外观不良的划伤附着。
[0065]
3.通过包含纳米纤维，可实现基材的高强度化及低cte化，并且可减低光学滤波器的翘曲。因此种机械特性提高而能够实现基材的薄膜化。
[0066]
4.在使用树脂制基板时，通过包含纳米纤维，即便在构成树脂制基板的树脂的玻璃化转变温度以上的环境中，也可抑制基材的软化，作为光学滤波器的耐热性提高。
[0067]
在基材为所述形态(iii)时，起到以下效果。
[0068]
1.在形成包含化合物(a)的涂膜时，通过在涂敷液中包含纳米纤维，颜料的分散性提高，可减低涂膜的雾度(haze)。
[0069]
2.在形成包含纳米纤维的涂膜时，可抑制造成外观不良的凹陷缺陷。
[0070]
3.通过包含纳米纤维，涂膜表面的耐擦伤性提高，可抑制造成外观不良的划伤附着。
[0071]
4.通过包含纳米纤维，可实现基材的高强度化及低cte化，并且可减低光学滤波器的翘曲。因此种机械特性提高而能够实现基材自身的薄膜化。
[0072]
5.在使用树脂制支撑体时，通过包含纳米纤维，即便在构成支撑体的树脂的玻璃化转变温度以上的环境中，也可抑制基材的软化，作为光学滤波器的耐热性提高。
[0073]
基材的厚度可根据所期望的用途而适宜选择，并无特别限制，在树脂系基材时，优选为20μm～120μm，进而优选为30μm～110μm，特别优选为40μm～100μm，在玻璃系基材时，优选为70μm～250μm，进而优选为90μm～200μm，特别优选为100μm～180μm。
[0074]
若基材的厚度处于所述范围，则可将使用所述基材的本滤波器薄型化及轻量化，可优选地用于固体摄像装置等各种用途。尤其是在将所述单层的基材用于照相机模块等的透镜单元的情况下，可实现透镜单元的低背化、轻量化，因此优选。
[0075]
＜光学滤波器＞
[0076]
本发明的光学滤波器(以下也称为“本滤波器”)含有所述本发明的基材。
[0077]
本滤波器可为仅包含所述基材的结构，视需要也可具有形成于所述基材的至少一面的电介质多层膜或其他功能膜等。
[0078]
本滤波器的在波长430nm～580nm的区域中自相对于本滤波器的面垂直的方向测定时的透过率的平均值优选为65％以上，更优选为70％以上，进而优选为75％以上，特别优选为80％以上。若在所述波长区域中所述透过率的平均值处于所述范围，则在将本滤波器用于固体摄像元件用途时，可达成优异的摄像灵敏度。
[0079]
另外，本滤波器的在波长900nm～1050nm的区域中自相对于本滤波器的面垂直的方向测定时的透过率的平均值优选为10％以下，更优选为7％以下，进而优选为6％以下，特别优选为5％以下。若在所述波长区域中所述透过率的平均值处于所述范围，则在将本滤波器用于固体摄像元件用途时，可遮蔽人眼看不到且对于传感而言不需要的光。
[0080]
本滤波器的在波长600nm～800nm的区域中自本滤波器的垂直方向测定时的透过率成为50％的最短波长的值(xa)、与自相对于本滤波器的垂直方向为30
°
的角度测定时的透过率成为50％的波长的值(xb)的差的绝对值|xa-xb|优选为未满20nm，更优选为15nm以下，进而优选为10nm以下。若|xa-xb|处于所述范围，则在将本滤波器用于固体摄像元件用
途时，可抑制颜色阴影。
[0081]
本滤波器的厚度只要根据所期望的用途而适宜选择即可，根据近年来的固体摄像装置等的薄型化、轻量化等的趋势，优选为本滤波器的厚度也薄。本滤波器包括所述基材，因此能够实现薄型化。
[0082]
在所述基材为树脂系基材时，本滤波器的厚度优选为150μm以下，更优选为100μm以下，进而优选为70μm以下，特别优选为40μm以下，下限并无特别限制，对于固体摄像装置的薄型化而言，优选为厚度薄。另外，在所述基材为玻璃系基材时，本滤波器的厚度优选为270μm以下，更优选为230μm以下，进而优选为170μm以下，特别优选为140μm以下。
[0083]
＜纳米纤维＞
[0084]
作为所述纳米纤维，并无特别限定，例如可列举直径(平均纤维径)为1nm～100nm、长度(平均纤维长)为直径的100倍以上的纤维状物质。作为此种纤维状物质，例如可列举包含聚丙烯或聚对苯二甲酸乙二酯等的高分子纳米纤维、纤维素纳米纤维、脱氧核糖核酸(deoxyribonucleic acid，dna)纳米纤维、碳纳米纤维、金属纳米纤维等，这些中，优选为纤维素纳米纤维，更优选为化学修饰纤维素纳米纤维，特别优选为能够分散于有机溶剂中的疏水性纤维素纳米纤维。
[0085]
此处，“纤维素纳米纤维”是指包含纤维素的纳米纤维(纤维素纳米纤维)或包含木质纤维素的纳米纤维(木质纤维素纳米纤维)，也将两者合称为“cnf(cellulose nanofiber)”。另外，所谓“化学修饰纤维素纳米纤维”，是指经化学修饰的纤维素纳米纤维或经化学修饰的木质纤维素纳米纤维，并也合称为“化学修饰cnf”。另外，所谓“能够分散于有机溶剂中”，是指与有机溶媒混合时，在过程中纳米纤维不凝聚、沉淀。
[0086]
所述纤维素纳米纤维可通过对原料纤维素纤维进行解纤处理而获得。作为原料纤维素纤维，可列举自植物来源的纸浆、木材、棉花、麻、竹、棉、洋麻、大麻、黄麻、香蕉、椰子、海草等的植物纤维分离出的纤维、自作为海产动物的海鞘所产生的动物纤维分离出的纤维、或者由乙酸菌产生的细菌纤维素等。这些中，可优选地使用自植物纤维分离出的纤维，更优选为自纸浆、棉花等的植物纤维获得的纤维。
[0087]
所述化学修饰cnf中，通过导入例如乙酰基等烷酰基来代替构成纤维素的糖链的羟基的氢原子(即，羟基被化学修饰)，而纤维素分子的羟基被封闭，纤维素分子的氢结合力受到抑制，除此以外，以特定的比例保持纤维素纤维本来具有的结晶结构。
[0088]
修饰方法可依据公知的方法来进行。例如，只要将解纤处理后的纤维素纤维添加于水或适当的溶媒中并加以分散后，向其中添加化学修饰剂并在适当的反应条件下反应即可。关于进行化学修饰的方法，在所述情况下，除化学修饰剂以外，视需要还可添加反应催化剂，例如可使用吡啶、n,n-二甲基氨基吡啶、三乙胺、甲醇钠、乙醇钠、氢氧化钠等碱性催化剂或乙酸、硫酸、高氯酸等酸性催化剂，为了防止反应速度或聚合度的降低，优选为使用吡啶等碱性催化剂。作为反应温度，就抑制纤维素纤维的黄变或聚合度的降低等的变质，并确保反应速度的观点而言，优选为40℃～100℃左右。关于反应时间，只要根据所使用的修饰剂或处理条件而适宜选定即可。
[0089]
作为化学修饰cnf，例如可使用：通过利用酰基或烷基等的修饰而将存在于纳米纤维的表面的羟基疏水化的疏水化cnf；通过具有氨基的硅烷偶合剂、缩水甘油基三烷基卤化铵或其卤代醇型化合物等的修饰而将存在于纳米纤维的表面的羟基阳离子改性的改性
cnf；通过利用琥珀酸酐、烷基或烯基琥珀酸酐之类的环状酸酐进行的单酯化，利用具有羧基的硅烷偶合剂进行的修饰等，而将存在于纳米纤维的表面的羟基阴离子改性的改性cnf等。
[0090]
这些中，就容易制造的方面而言，优选为构成cnf的糖链的羟基经烷酰基修饰的cnf(烷酰基修饰cnf)，更优选为经低级烷酰基修饰的cnf(低级烷酰基修饰cnf)，就制造的容易度及制造成本的方面而言，进而优选为经乙酰基修饰的cnf(也记为ac-cnf)。
[0091]
通过酰化反应而获得的化学修饰cnf的糖链羟基中的酰化度(修饰度、ds(degree of substitution))优选为0.05～2.5左右，更优选为0.1～1.7左右，进而优选为0.15～1.5左右。取代度(ds)的最大值依存于cnf的糖链羟基量，为2.7左右。通过将取代度(ds)设定为0.05～2.5左右，可获得具有适度的结晶度与溶解度参数(solubility parameter，sp)值的化学修饰cnf。例如，在乙酰化cnf中，优选的ds为0.29～2.52，在所述范围的ds中，结晶度能够保持为42.7％左右以上。此外，取代度(ds)可通过元素分析、中和滴定法、傅里叶变换红外光谱术(fourier transform-infrared spectroscopy，ft-ir)、二维核磁共振(nuclear magnetic resonance，nmr)(1h及13c-nmr)等各种分析方法来分析。
[0092]
所述纳米纤维的平均纤维径优选为3nm～200nm，更优选为3nm～150nm，进而优选为3nm～100nm。若平均纤维径为所述范围内，则可减低纳米纤维引起的光散射，在应用于光学滤波器时，带来透过率的提高与雾度(haze)的减低，并且可将基材高强度化及低cte化。
[0093]
所述纳米纤维的平均纤维长优选为0.2μm～10μm，更优选为0.3μm～5μm，进而优选为0.4μm～3μm。若平均纤维径为所述范围内，则可减低纳米纤维引起的光散射，在应用于光学滤波器时，带来透过率的提高与雾度(haze)的减低，并且可将基材高强度化及低cte化。
[0094]
在本发明中，“平均纤维径”及“平均纤维长”的测定中，可使用穿透式电子显微镜或扫描式电子显微镜以10000倍的倍率观察纳米纤维，然后针对所获得的图像，随机选择100根纤维，使用图像处理软件来分析每一根的纤维径及纤维长，并作为它们的单纯的数平均值而算出。
[0095]
所述纳米纤维的比表面积优选为70m2/g～300m2/g，更优选为70m2/g～250m2/g，进而优选为100m2/g～200m2/g。若比表面积为所述范围内，则基材的机械强度提高，可抑制翘曲或破裂的产生。
[0096]
所述纳米纤维的结晶度优选为43％以上，更优选为50％以上，进而优选为55％以上，特别优选为60％～80％。若结晶度为所述范围内，则显现出高强度、低热膨胀等性能。此外，所谓所述结晶度，例如在纤维素纳米纤维时，是指全部纤维素中的结晶(主要是纤维素i型结晶)的存在比。
[0097]
在基材的结构为所述形态(i)时，相对于构成所述树脂制基板的树脂与所述纳米纤维的含量的合计100质量份，所述纳米纤维的含量优选为5质量份～50质量份，更优选为10质量份～45质量份，进而优选为10质量份～40质量份。
[0098]
另外，在基材的结构为所述形态(ii)或形态(iii)时，相对于构成所述树脂层的树脂与所述纳米纤维的含量的合计100质量份，所述纳米纤维的含量优选为5质量份～70质量份，更优选为10质量份～60质量份，进而优选为10质量份～50质量份。
[0099]
通过所述纳米纤维的含量为所述范围内，可更明确地发挥在所述基材为所述形态(i)～形态(iii)时所起到的效果。
[0100]
＜化合物(a)＞
[0101]
所述化合物(a)若在波长600nm～1200nm的区域中具有吸收极大波长，则并无特别限制，优选为溶剂可溶型的色素化合物，更优选为选自由聚次甲基系化合物(例如，方酸内鎓系化合物、花青系化合物等)、吡咯并吡咯系化合物、克酮鎓(croconium)系化合物、二亚铵系化合物、酞菁系化合物、萘酞菁系化合物、四氮杂卟啉系化合物、卟啉系化合物、六元卟啉(hexaphyrin)系化合物、金属二硫醇盐系化合物、三芳基甲烷系化合物、亚酞菁系化合物、苝系化合物、半方酸内鎓系化合物、苯乙烯基系化合物、吩嗪系化合物、吡啶并亚甲基-硼络合物系化合物、吡嗪-硼络合物系化合物、吡啶酮偶氮系化合物、氧杂蒽系化合物、二吡咯亚甲基系化合物所组成的群组中的至少一种，更进而优选为选自由方酸内鎓系化合物、酞菁系化合物、花青系化合物、萘酞菁系化合物、吡咯并吡咯系化合物、克酮鎓系化合物、六元卟啉系化合物、金属二硫醇盐系化合物及环扩张硼二吡咯亚甲基(boron-dipyrromethene，bodipy)系化合物所组成的群组中的至少一种，进而优选为选自由方酸内鎓系化合物、花青系化合物、克酮鎓系化合物及吡咯并吡咯系化合物所组成的群组中的至少一种。
[0102]
化合物(a)的吸收极大波长为600nm～1200nm，优选为630nm～800nm，进而优选为640nm～780nm，特别优选为650nm～760nm。若化合物(a)的吸收极大波长处于此种范围，则可使对近红外传感有用的波长的光透过且将不需要的近红外线截止，且可减低近红外透过带的入射角依存性。
[0103]
关于化合物(a)的含量，在使用例如包含含有化合物(a)的树脂制基板的基材或在树脂制基板上层叠包含硬化性树脂等的外涂层等树脂层而成的基材作为所述基材的情况下，相对于形成含有化合物(a)的树脂制基板的树脂100质量份，优选为0.01质量份～2.0质量份，更优选为0.02质量份～1.5质量份，特别优选为0.03质量份～1.0质量份。另外，在使用在玻璃支撑体或成为衬底的树脂制支撑体层叠含有化合物(a)的包含硬化性树脂等的外涂层等透明树脂层而成的基材作为所述基材的情况下，相对于形成含有化合物(a)的透明树脂层的树脂100质量份，优选为0.1质量份～5.0质量份，更优选为0.2质量份～4.0质量份，特别优选为0.3质量份～3.0质量份。若化合物(a)的含量处于所述范围内，则可达成良好的近红外线吸收特性。
[0104]
在基材为使用所述形态(ii)中的近红外线吸收玻璃基板的形态时，所述化合物(a)为cuo。cuo的吸收极大波长处于约850nm～900nm的波长范围。
[0105]
作为所述近红外线吸收玻璃基板，可使用含cuo氟磷酸盐玻璃或含cuo磷酸盐玻璃(以下，将它们统称为“含cuo玻璃”)。通过使用含cuo玻璃而具有对于可见光的高透过性，并且对于近红外线也具有高的遮蔽性。此外，在磷酸盐玻璃中也包括玻璃骨架的一部分包含sio2的硅磷酸盐玻璃。
[0106]
在市售品中，例如可列举：nf50-e、nf50-ex(旭硝子公司制造)；bg-60、bg-61(肖特(shott)公司制造)；bs-11(松浪硝子工业制造)；cd5000(豪雅(hoya)公司制造)等。
[0107]
作为含有cuo的氟磷酸盐系玻璃或含有cuo的磷酸盐系玻璃的厚度，优选为0.03mm～5mm的范围，就强度及轻量化、低背化的观点而言，更优选为0.05mm～1mm的范围。
[0108]
＜树脂＞
[0109]
作为用于构成所述基材的(透明)树脂层、树脂制基板或树脂制支撑体的树脂，只
要不损及本发明的效果，则并无特别限制，例如，为了确保热稳定性及成形为膜的成形性、且制成可通过以100℃以上的蒸镀温度进行的高温蒸镀来形成电介质多层膜的膜，可列举玻璃化转变温度(tg)优选为110℃～380℃、更优选为110℃～370℃、进而优选为120℃～360℃的树脂。另外，若所述树脂的玻璃化转变温度为150℃以上，则即便在向树脂中以高浓度添加化合物而玻璃化转变温度减低时，也可获得能以高温蒸镀形成电介质多层膜的具有玻璃化转变温度的膜，因此特别优选。
[0110]
作为所述树脂，可使用在形成包含所述树脂的厚度0.05mm的树脂板时，所述树脂板的全光线透过率(日本工业标准(japanese industrial standards，jis)k7105)优选为75％～95％、进而优选为78％～95％、特别优选为80％～95％的树脂。若使用全光线透过率为此种范围的树脂，则所获得的基板作为光学膜而显示出良好的透明性。
[0111]
所述树脂的利用凝胶渗透色谱(gel permeation chromatography，gpc)法所测定的聚苯乙烯换算的重量平均分子量(mw)通常为15,000～350,000，优选为30,000～250,000，数量平均分子量(mn)通常为10,000～150,000，优选为20,000～100,000。
[0112]
作为所述树脂，例如可列举：环状聚烯烃系树脂、芳香族聚醚系树脂、聚酰亚胺系树脂、芴聚碳酸酯系树脂、芴聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺系树脂、芳族聚酰胺系树脂、聚砜系树脂、聚醚砜系树脂、聚对苯系树脂、聚酰胺酰亚胺系树脂、聚萘二甲酸乙二酯系树脂、氟化芳香族聚合物系树脂、(改性)丙烯酸系树脂、环氧系树脂、倍半硅氧烷系紫外线硬化型树脂、马来酰亚胺系树脂、脂环环氧热硬化型树脂、聚醚醚酮系树脂、聚芳酯系树脂、烯丙酯系硬化型树脂、丙烯酸系紫外线硬化型树脂、乙烯基系紫外线硬化型树脂及利用溶胶凝胶法形成的将二氧化硅作为主成分的树脂。这些中，就可获得透明性(光学特性)、耐热性、耐回流焊性等的平衡优异的光学滤波器的方面而言，优选为使用环状聚烯烃树脂、芳香族聚醚树脂、芴聚碳酸酯系树脂、芴聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚芳酯系树脂。
[0113]
《市售品》
[0114]
作为透明树脂的市售品，可列举以下的市售品等。作为环状聚烯烃系树脂的市售品，可列举：jsr(股)制造的阿通(arton)、日本瑞翁(zeon)(股)制造的瑞翁诺阿(zeonor)、三井化学(股)制造的阿派尔(apel)、宝理塑料(polyplastics)(股)制造的托帕斯(topas)等。作为聚醚砜系树脂的市售品，可列举住友化学(股)制造的斯密卡爱克塞尔(sumikaexcel)pes等。作为聚酰亚胺系树脂的市售品，可列举三菱气体化学(股)制造的尼欧普利姆(neopulim)l等。作为聚碳酸酯系树脂的市售品，可列举帝人(股)制造的普艾斯(pure-ace)等。作为芴聚碳酸酯系树脂的市售品，可列举三菱气体化学(股)制造的优比泽塔(iupizeta)ep-5000等。作为芴聚酯系树脂的市售品，可列举大阪气体化学(osaka gas chemicals)(股)制造的okp4ht等。作为丙烯酸系树脂的市售品，可列举日本催化剂(股)制造的阿库利维阿(acryviewa)等。作为倍半硅氧烷系紫外线硬化型树脂的市售品，可列举新日铁化学(股)制造的希鲁普拉斯(silplus)等。
[0115]
＜其他成分＞
[0116]
在不损及本发明的效果的范围内，所述基材可进而含有抗氧化剂、近紫外线吸收剂及荧光消光剂等添加剂。这些其他成分可单独使用一种，也可并用两种以上。
[0117]
《近紫外线吸收剂》
[0118]
作为所述近紫外线吸收剂，若为在波长250nm～420nm的区域中具有至少一个吸收
极大波长，则并无特别限定，例如可列举：甲亚胺系化合物、吲哚系化合物、苯并三唑系化合物、三嗪系化合物、蒽系化合物等。
[0119]
《抗氧化剂》
[0120]
作为所述抗氧化剂，例如可列举：2,6-二-叔丁基-4-甲基苯酚、2,2'-二氧基-3,3'-二-叔丁基-5,5'-二甲基二苯基甲烷、四[亚甲基-3-(3,5-二-叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]甲烷、及三(2,4-二-叔丁基苯基)亚磷酸酯等。
[0121]
所述添加剂可在制造所述透明树脂时与树脂等一起混合，也可在合成树脂时添加。另外，添加量可根据所期望的特性而适宜选择，相对于所述透明树脂100质量份，通常为0.01质量份～5.0质量份，优选为0.05质量份～2.0质量份。
[0122]
＜支撑体＞
[0123]
《树脂制支撑体》
[0124]
用于所述树脂基板或树脂制支撑体的树脂如上所述。
[0125]
《玻璃制支撑体》
[0126]
作为所述玻璃制支撑体，并无特别限定，例如可列举：硼硅酸盐系玻璃、硅酸盐系玻璃、钠钙玻璃及近红外线吸收玻璃等。
[0127]
＜基材的制造方法＞
[0128]
在所述基材为包括所述形态(i)及形态(ii)中的树脂制基板的基材时，所述树脂制基板例如可通过熔融成形或浇铸成形而形成，进而，视需要也可在成形后涂布抗反射剂、硬涂剂和/或抗静电剂等涂布剂。
[0129]
在所述基材为所述形态(iii)的基材时，例如，通过在玻璃制支撑体或树脂制支撑体上对包含化合物(a)及纳米纤维的树脂溶液进行熔融成形或浇铸成形，优选为利用旋涂、狭缝涂布、喷墨等方法进行涂敷，然后将溶媒干燥去除，视需要进而进行光照射或加热，由此可制造在玻璃支撑体或树脂制支撑体上形成有包含化合物(a)及纳米纤维的透明树脂层的基材。
[0130]
《熔融成形》
[0131]
作为所述熔融成形，具体而言，可列举：对将树脂与化合物(a)和/或纳米纤维熔融混练而获得的颗粒进行熔融成形的方法；对含有树脂与化合物(a)和/或纳米纤维的树脂组合物进行熔融成形的方法；或者对自包含化合物(a)和/或纳米纤维、树脂以及溶剂的树脂组合物中去除溶剂而获得的颗粒进行熔融成形的方法等。作为熔融成形方法，可列举注射成形、熔融挤出成形或吹塑成形等。
[0132]
《浇铸成形》
[0133]
作为所述浇铸成形，也可利用以下方法而制造：将包含化合物(a)和/或纳米纤维、树脂以及溶剂的树脂组合物浇铸在适当的支撑体上并去除溶剂的方法；或者将包含化合物(a)和/或纳米纤维、与光硬化性树脂和/或热硬化性树脂的硬化性组合物浇铸在适当的支撑体上并去除溶媒后，利用紫外线照射或加热等适当的方法进行硬化的方法等。
[0134]
在所述基材为包含含有化合物(a)的树脂制基板的基材的情况下，所述基材可通过在浇铸成形后自支撑体剥离涂膜而获得，另外，在所述基材为在玻璃制支撑体或树脂制支撑体等支撑体上层叠含有化合物(a)的包含硬化性树脂等的外涂层等透明树脂层而成的基材的情况下，所述基材可通过在浇铸成形后不剥离涂膜而获得。
[0135]
作为所述支撑体，例如可列举：玻璃板、钢带、钢桶及透明树脂(例如，聚酯膜、环状烯烃系树脂膜)制支撑体。
[0136]
进而，也可利用如下方法等而在光学零件上形成透明树脂层：将所述树脂组合物涂布于玻璃板、石英或透明塑料制等的光学零件上并使溶剂干燥的方法；或涂布所述硬化性组合物并进行硬化及干燥的方法。
[0137]
利用所述方法而获得的透明树脂层(树脂制基板)中的残留溶剂量优选为尽可能少。具体而言，相对于透明树脂层(树脂制基板)的重量，所述残留溶剂量优选为3质量％以下，更优选为1质量％以下，进而优选为0.5质量％以下。若残留溶剂量处于所述范围，则可获得难以变形或特性难以变化、且可容易地发挥所期望的功能的透明树脂层(树脂制基板)。
[0138]
在基材为所述形态(i)时，基材的浇铸成形时的网强度提高，因此起到如下等效果：
[0139]
(1)可在干燥早期自支撑体剥离，
[0140]
(2)在基材的生产中，例如在经由辊或用拉幅机夹着进行搬送时不会中途断裂，
[0141]
(3)在干燥时能够以不软化及变黄的程度提高干燥温度，
[0142]
因此生产性提高。
[0143]
另外，可使基材进一步薄膜化，因此干燥速度提高，其结果，起到如下等效果：
[0144]
(4)可通过缩短干燥时间来提高生产性，
[0145]
(5)可抑制由加热引起的树脂及色素的劣化。
[0146]
在基材为所述形态(ii)时，当在基板上涂敷形成含有纳米纤维的树脂层时，可根据如下等涂敷液的物性来减低涂敷缺陷：
[0147]
(1)在涂敷头的剪切部，涂敷液流动，
[0148]
(2)涂布后，可通过由静置引起的增稠或凝胶化来抑制凹陷。
[0149]
在基材为所述形态(iii)时，当在基板上涂敷形成含有纳米纤维及色素的树脂层时，可根据如下等涂敷液的物性来减低涂敷缺陷：
[0150]
(1)在涂敷头的剪切部，涂敷液流动，
[0151]
(2)涂布后，可通过由静置引起的增稠或凝胶化来抑制凹陷。
[0152]
另外，在涂布后的增稠或凝胶化后，即便提高干燥温度，也可抑制色素(颜料)的偏在，因此可提高树脂层的干燥效率。
[0153]
＜电介质多层膜＞
[0154]
本滤波器视需要也可具有电介质多层膜。作为所述电介质多层膜，可列举将高折射率材料层与低折射率材料层交替地层叠而成的层叠体等。
[0155]
所述电介质多层膜可设置于所述基材的单面，也可设置于两面。在设置于单面时，制造成本或制造容易性优异，在设置于两面时，可获得具有高的强度、不易产生翘曲或扭曲的光学滤波器。在将本滤波器用于固体摄像元件等时，优选为所述滤波器的翘曲或扭曲小，因此优选为将电介质多层膜设置于基材的两面。
[0156]
作为构成所述高折射率材料层的材料，可列举折射率为1.7以上的材料，选择折射率通常为1.7～2.5的材料。作为此种材料，例如可列举：将氧化钛、氧化锆、五氧化钽、五氧化铌、氧化镧、氧化钇、氧化锌、硫化锌或氧化铟等作为主成分，并含有少量(例如，相对于主
成分为0质量％～10质量％)的氧化锡和/或氧化铈等的材料。
[0157]
作为构成所述低折射率材料层的材料，可使用折射率为1.6以下的材料，选择折射率通常为1.2～1.6的材料。作为此种材料，例如可列举：二氧化硅、氧化铝、氟化镧、氟化镁及六氟化铝钠。
[0158]
关于将所述高折射率材料层与低折射率材料层层叠的方法，只要形成将这些材料层层叠而成的电介质多层膜，则并无特别限制。例如，可在基材上利用化学气相沉积(chemical vapor deposition，cvd)法、溅射法、真空蒸镀法、离子辅助蒸镀法或离子镀法等，直接形成将高折射率材料层与低折射率材料层交替地层叠而成的电介质多层膜。
[0159]
通常，当将想要遮断的近红外线波长设为λ(nm)时，所述高折射率材料层及低折射率材料层的各层的厚度优选为0.1λ～0.5λ的厚度。作为λ(nm)的值，在近红外线彩色滤波器(near infrared ray-color filter，nir-cf)时，例如为700nm～1400nm，优选为750nm～1300nm。若高折射率材料层及低折射率材料层的各层的厚度处于所述范围，则作为折射率(n)与膜厚(d)的积(n
×
d)的光学膜厚成为与λ/4大致相同的值，根据反射、折射的光学特性的关系，有可容易地控制特定波长的遮断、透过的倾向。
[0160]
电介质多层膜中的高折射率材料层与低折射率材料层的合计的层叠数以光学滤波器整体计优选为16层～70层，更优选为20层～60层。若各层的厚度、作为光学滤波器整体的电介质多层膜的厚度或合计的层叠数处于所述范围，则可确保充分的制造裕度，而且可减低光学滤波器的翘曲或电介质多层膜的龟裂。
[0161]
在本滤波器中，结合化合物(a)的吸收特性等来适当地选择构成高折射率材料层及低折射率材料层的材料种类、高折射率材料层及低折射率材料层的各层的厚度、层叠的顺序、层叠数，由此在要透过的波长区域(例：可见区域)中确保充分的透过率，而且在要截止的近红外波长区域中具有充分的光线截止特性，且可减低近红外线自倾斜方向入射时的反射率。
[0162]
此处，为了使电介质多层膜的条件最优化，例如只要使用光学薄膜设计软件(例如，核心麦克劳德(essential macleod)，薄膜中心(thin film center)公司制造)，以可兼顾要透过的波长区域(例：可见区域)的抗反射效果与要截止的近红外区域的光线截止效果的方式设定参数即可。在所述软件时，例如在形成nir-cf的电介质多层膜的情况下，将波长400nm～700nm的目标透过率设为100％，并将目标公差(target tolerance)的值设为1后，将波长705nm～950nm的目标透过率设为0％，将目标公差的值设为0.5等的参数设定方法。
[0163]
这些参数也可结合基材的各种特性等而更细地划分波长范围来改变目标公差(target tolerance)的值。
[0164]
＜其他功能膜＞
[0165]
本滤波器可在不损及本发明的效果的范围内，出于提高基材或电介质多层膜的表面硬度、提高耐化学品性、抗静电及消除损伤等目的，而在基材与电介质多层膜之间、与基材的设置有电介质多层膜的面为相反侧的面、或与电介质多层膜的设置有基材的面为相反侧的面，适宜设置抗反射膜、硬涂膜或抗静电膜等功能膜。
[0166]
本滤波器可包含一层所述功能膜，也可包含两层以上。在本滤波器包含两层以上的所述功能膜的情况下，可包含两层以上的相同的膜，也可包含两层以上的不同的膜。
[0167]
作为层叠所述功能膜的方法，并无特别限制，可列举：与所述同样地在基材或电介
质多层膜上对抗反射剂、硬涂剂和/或抗静电剂等涂布剂等进行熔融成形或浇铸成形的方法等。
[0168]
另外，也可通过利用棒涂机等将包含所述涂布剂等的硬化性组合物涂布于基材或电介质多层膜上后，利用紫外线照射等进行硬化来制造。
[0169]
作为所述涂布剂，可列举紫外线(ultraviolet，uv)/电子束(electron beam，eb)硬化型树脂或热硬化型树脂等，具体而言，可列举：乙烯基化合物类、或氨基甲酸酯系、丙烯酸氨基甲酸酯系、丙烯酸酯系、环氧系及环氧丙烯酸酯系树脂等。涂布剂可单独使用一种，也可使用两种以上。
[0170]
作为包含这些涂布剂的所述硬化性组合物，可列举：乙烯基系、氨基甲酸酯系、丙烯酸氨基甲酸酯系、丙烯酸酯系、环氧系及环氧丙烯酸酯系硬化性组合物等。
[0171]
另外，所述硬化性组合物也可包含聚合引发剂。作为所述聚合引发剂，可使用公知的光聚合引发剂或热聚合引发剂，也可并用光聚合引发剂与热聚合引发剂。聚合引发剂可单独使用一种，也可使用两种以上。
[0172]
所述硬化性组合物中，在将硬化性组合物的总量设为100质量％时，聚合引发剂的调配比例优选为0.1质量％～10质量％，更优选为0.5质量％～10质量％，进而优选为1质量％～5质量％。若聚合引发剂的调配比例处于所述范围，则可容易获得硬化特性及操作性等优异的硬化性组合物，且可容易地获得具有所期望的硬度的抗反射膜、硬涂膜或抗静电膜等功能膜。
[0173]
进而，也可向所述硬化性组合物中加入作为溶剂的有机溶剂，作为有机溶剂，可使用公知的溶剂。作为有机溶剂的具体例，可列举：甲醇、乙醇、异丙醇、丁醇、辛醇等醇类；丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮等酮类；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯、γ-丁内酯、丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单乙醚乙酸酯等酯类；乙二醇单甲醚、二乙二醇单丁醚等醚类；苯、甲苯、二甲苯等芳香族烃类；二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、n-甲基吡咯烷酮等酰胺类。
[0174]
这些溶剂可单独使用一种，也可使用两种以上。
[0175]
所述功能膜的厚度优选为0.1μm～20μm，更优选为0.5μm～10μm，特别优选为0.7μm～5μm。
[0176]
另外，出于提高基材与功能膜和/或电介质多层膜的密接性、或功能膜与电介质多层膜的密接性的目的，也可对基材、功能膜或电介质多层膜的表面进行电晕处理或等离子体处理等表面处理。
[0177]
＜光学滤波器的用途＞
[0178]
关于本滤波器，例如要截止的区域的波长的光的截止能力与要透过的波长的光的透过能力优异。因此，作为照相机模块的ccd或cmos图像传感器等固体摄像元件的能见度修正用途有用。尤其是在数字静态照相机、智能手机用照相机、移动电话用照相机、数字摄像机、可穿戴器件用照相机、个人计算机(personal computer，pc)照相机、监视照相机、汽车用照相机、红外线照相机、电视机、汽车导航、便携式信息终端、视频游戏机、便携式游戏机、指纹认证系统、数字音乐播放器、各种传感系统、红外线通信等中有用。进而，作为安装于汽车或建筑物等的玻璃板等上的红外线截止滤波器等也有用。
[0179]
《固体摄像装置》
[0180]
本发明的固体摄像装置包括本滤波器。此处，所谓固体摄像装置，是包括ccd或cmos图像传感器等等固体摄像元件的装置，具体而言，可用于数字静态照相机、智能手机用照相机、移动电话用照相机、可穿戴器件用照相机、数字摄像机等用途。
[0181]
《照相机模块》
[0182]
本发明的照相机模块包括本发明的光学滤波器。此处，所谓照相机模块，是包括图像传感器或焦点调整机构、或者相位检测机构、距离测定机构等且输出图像或距离信息作为电信号的装置。
[0183]
[实施例]
[0184]
以下，基于实施例来对本发明进行更具体说明，但本发明不受这些实施例的任何限定。
[0185]
＜分子量＞
[0186]
树脂的分子量是考虑到各树脂在溶剂中的溶解性等，利用下述(a)或(b)的方法进行测定。
[0187]
(a)使用沃特斯(waters)公司制造的凝胶渗透色谱(gpc)装置(150c型、管柱：东曹(tosoh)(股)制造的h型管柱、展开溶剂：邻二氯苯)，测定标准聚苯乙烯换算的重量平均分子量(mw)及数量平均分子量(mn)。
[0188]
(b)使用东曹(tosoh)(股)制造的gpc装置(hlc-8220型、管柱：tskgelα-m、展开溶剂：四氢呋喃(tetrahydrofuran，thf))，测定标准聚苯乙烯换算的重量平均分子量(mw)及数量平均分子量(mn)。
[0189]
此外，关于后述的树脂合成例3中合成的树脂，不利用所述方法测定分子量，而是利用下述方法(c)来进行对数粘度的测定。
[0190]
(c)将聚酰亚胺溶液的一部分投入至无水甲醇中来使聚酰亚胺析出，进行过滤，由此自未反应单量体中分离，然后在80℃下真空干燥12小时。将所获得的聚酰亚胺0.1g溶解于n-甲基-2-吡咯烷酮20ml中(稀薄聚酰亚胺溶液)，使用坎农-芬斯克(cannon-fenske)粘度计，根据下述式来求出30℃下的对数粘度(μ)。
[0191]
μ＝{ln(ts/t0)}/c
[0192]
t0：溶媒(n-甲基-2-吡咯烷酮)的流下时间
[0193]
ts：稀薄聚酰亚胺溶液的流下时间
[0194]
c：0.5g/dl
[0195]
＜玻璃化转变温度(tg)＞
[0196]
树脂的玻璃化转变温度是使用日立高科技科学(hitachi high-tech science)(股)制造的示差扫描热量计(dsc6200)，在升温速度：每分钟20℃、氮气流下进行测定。
[0197]
＜分光透过率＞
[0198]
基材及光学滤波器的各波长区域中的透过率是使用日立高新技术(hitachi high-technologies)股份有限公司制造的分光光度计(u-4100)来进行测定。所述透过率是在光相对于基材或光学滤波器垂直入射的条件下，使用所述分光光度计进行测定而得。
[0199]
＜雾度(haze)(％)＞
[0200]
针对形态(iii)的基材，使用雾度计(byk加德纳(byk-gardner)公司制造的“雾度格尔德(haze-guard)ii”)来测定雾度值(％)。
[0201]
＜线膨胀系数：cte(ppm/℃)＞
[0202]
针对基材，在40℃～160℃的范围内使温度变化，并在40℃～100℃的范围内测定线膨胀系数(单位：ppm/℃)。作为测定装置，使用精工仪器(sii)公司制造的“exstar6000tma/ss6100”。
[0203]
＜拉伸弹性模量(gpa)＞
[0204]
利用jis k6251-3号哑铃冲压基材，以5mm/min实施拉伸试验来算出拉伸弹性模量。作为测定装置，使用小型桌上试验机(岛津制作所公司制造的“ez-lx”)。
[0205]
＜马氏硬度(n/mm2)＞
[0206]
利用微小硬度测定机(菲希尔仪器(fischer instruments)公司制造的“匹克德特(picodentor)hm500”)，并根据用维氏压头自形态(ii)、形态(iii)的基材的表面压入至0.3μm的深度时的荷重(mn)，来测定马氏硬度。
[0207]
＜耐擦伤性＞
[0208]
针对形态(ii)、形态(iii)的基材，通过目视并按照以下的基准来确认使纱布(百克特(bemcot)m-3ii)以荷重100g/cm2往返10次后的涂膜(树脂层)的划伤的产生状态。
[0209]
〇：无划伤
[0210]
△
：有微小划伤(能够容许的水平)
[0211]
×
：有划伤(无法容许的水平)
[0212]
＜涂布面的凹陷缺陷的确认方法＞
[0213]
在基板的单面形成涂膜(树脂层)，然后在暗室中对涂膜(树脂层)形成面的50mm
×
50mm的面积照射台灯(荧光灯)的光并且目视计数凹陷的数量。
[0214]
＜光学滤波器的热变形性＞
[0215]
自在基材的两面制膜电介质多层膜而成的片切取25mm
×
30mm的光学滤波器，在加热至180℃的热板上以滤波器面与热板相接的方式进行静置，并加热5分钟。加热后，将滤波器冷却，并按照以下的基准来判定滤波器面的外观。
[0216]
〇：表面的外观无变化
[0217]
×
：表面的外观有变化(产生气泡或橘皮状的雾)
[0218]
＜光学滤波器的翘曲＞
[0219]
自在基材的两面制膜电介质多层膜而成的片切出6mm
×
8mm的光学滤波器，测定光学滤波器的面内9处的高度，利用最小二乘法算出通过9处的近似平面。算出各测定点与近似平面的距离，将离平面最远的2点的距离作为翘曲，并按照以下的基准来进行判定。
[0220]
◎
：翘曲≦30μm
[0221]
○
：30μm＜翘曲≦50μm(能够容许的水平)
[0222]
×
：50μm＜翘曲(无法容许的水平)
[0223]
＜光学滤波器的耐冲击性＞
[0224]
将光学滤波器组入至照相机模块中，使照相机模块自高度2m的位置落下，然后按照以下的基准来目视确认光学滤波器的状态。
[0225]
〇：光学滤波器无变化
[0226]
×
：频发龟裂(作为高画质照相机模块用途为无法容许的水平)
[0227]
＜板上芯片(chip on board，cob)制作性＞
[0228]
自在基材的两面制膜电介质多层膜而成的片切出6mm
×
8mm的光学滤波器芯片。在芯片的端部涂布粘接剂，并贴合于树脂制板上来制作cob。根据cob的状态，并按照以下的基准来进行目视确认。
[0229]
〇：芯片无粘接不良
[0230]
×
：芯片有粘接不良
[0231]
＜照相机图像的颜色阴影评价＞
[0232]
利用与日本专利特开2016-110067号公报相同的方法将光学滤波器组入至照相机模块中，使用所获得的照相机模块在d65光源(爱色丽(x-rite)公司制造的标准光源装置“麦克贝斯贾琦(macbeth judge)ii”)下对300mm
×
400mm尺寸的白色板进行拍摄，利用以下的基准来评价照相机图像中的白色板的中央部与端部的色调的不同。
[0233]
〇：完全无问题
[0234]
×
：有明显的色调的不同(作为通常的照相机模块用途也无法容许的水平)
[0235]
[树脂合成例1]
[0236]
将下述式(a)所表示的8-甲基-8-甲氧基羰基四环[4.4.0.1
2,5
.1
7,10
]十二-3-烯(以下也称为“dnm”)100质量份、1-己烯(分子量调节剂)18质量份及甲苯(开环聚合反应用溶媒)300质量份投入至经氮气置换的反应容器中，将所述溶液加热至80℃。继而，向反应容器内的溶液中添加作为聚合催化剂的三乙基铝的甲苯溶液(0.6mol/升)0.2质量份、与甲醇改性的六氯化钨的甲苯溶液(浓度0.025mol/升)0.9质量份，将所述溶液在80℃下加热搅拌3小时，由此进行开环聚合反应而获得开环聚合物溶液。所述聚合反应中的聚合转化率为97％。
[0237]
[化1]
[0238][0239]
将所述获得的开环聚合物溶液1,000质量份投入至高压釜中，向所述开环聚合物溶液中添加0.12质量份的ruhcl(co)[p(c6h5)3]3，在氢气压100kg/cm2、反应温度165℃的条件下，加热搅拌3小时而进行氢化反应。将所获得的反应溶液(氢化聚合物溶液)冷却后，将氢气放压。将所获得的反应溶液注入至大量的甲醇中并分离回收凝固物，对其进行干燥，获得氢化聚合物(环状聚烯烃系树脂；以下也称为“树脂a”)。所获得的树脂a的数量平均分子量(mn)为32,000，重量平均分子量(mw)为137,000，玻璃化转变温度(tg)为165℃。
[0240]
[树脂合成例2]
[0241]
向3l的四口烧瓶中添加2,6-二氟苯甲腈35.12g(0.253mol)、9,9-双(4-羟基苯基)芴87.60g(0.250mol)、碳酸钾41.46g(0.300mol)、n,n-二甲基乙酰胺443g及甲苯111g。继而，在四口烧瓶中安装温度计、搅拌机、带有氮气导入管的三通旋塞、迪安斯塔克(dean-stark)管及冷却管。继而，在对烧瓶内进行氮气置换后，使所获得的溶液在140℃下反应3小时，随时自迪安斯塔克管去掉生成的水。在确认不到水的生成时，缓慢地将温度上升至160℃，在所述状态的温度下反应6小时。之后，冷却至室温(25℃)，利用滤纸将所生成的盐去
除，并将滤液投入至甲醇中进行再沉淀，通过过滤分离而使滤物(残渣)分离。将所获得的滤物在60℃下真空干燥一夜，由此获得白色粉末的芳香族聚醚系树脂(以下也称为“树脂b”)(产率95％)。所获得的树脂b的数量平均分子量(mn)为75,000，重量平均分子量(mw)为188,000，玻璃化转变温度(tg)为285℃。
[0242]
[树脂合成例3]
[0243]
在氮气流下，向包括温度计、搅拌器、氮气导入管、带有侧管的滴加漏斗、迪安斯塔克管及冷却管的500ml的五口烧瓶中放入1,4-双(4-氨基-α,α-二甲基苄基)苯27.66g(0.08摩尔)及4,4'-双(4-氨基苯氧基)联苯7.38g(0.02摩尔)，并溶解于γ-丁内酯68.65g及n,n-二甲基乙酰胺17.16g中。使用冰水浴将所获得的溶液冷却至5℃，保持为等温并且一次性添加1,2,4,5-环己烷四羧酸二酐22.62g(0.1摩尔)及作为酰亚胺化催化剂的三乙胺0.50g(0.005摩尔)。添加结束后，升温至180℃，随时馏去馏出液并且回流6小时。反应结束后，进行气冷直至内温成为100℃为止，继而，加入n,n-二甲基乙酰胺143.6g来进行稀释，进行搅拌并且加以冷却，由此获得固体成分浓度为20质量％的聚酰亚胺溶液264.16g。将所述聚酰亚胺溶液的一部分注入至1l的甲醇中来使聚酰亚胺沉淀。利用甲醇对过滤分离的聚酰亚胺进行清洗后，在100℃的真空干燥机中干燥24小时，由此获得白色粉末的聚酰亚胺系树脂(以下也称为“树脂c”)。对所获得的树脂c的红外线(infrared，ir)光谱进行测定，结果看到酰亚胺基中特有的1704cm-1
、1770cm-1
的吸收。树脂c的玻璃化转变温度(tg)为310℃，测定对数粘度的结果为0.87。
[0244]
[疏水性cnf合成例]
[0245]
将自针叶树获得的亚硫酸漂白纸浆(纤维素纤维)以成为0.1质量％的方式添加于纯水中，使用石臼式粉碎机(普雷精细磨机(pure fine mill)kmg1-10；栗田机械制作所公司制造)进行70次磨碎处理(转速：1500转/分钟)而将纤维素纤维解纤。将所述水分散液过滤后，利用纯水进行清洗，在70℃下进行干燥而获得纤维素纳米纤维a。将以干燥质量计相当于1g量的纤维素纳米纤维a、0.0125g的2,2,6,6-四甲基哌啶-n-氧基(2,2,6,6-tetramethylpiperidine-n-oxyl，tempo)及0.125g的溴化钠分散于水100ml中后，以次氯酸钠的量成为2.5mmol的方式加入13质量％次氯酸钠水溶液并开始反应。反应中，滴加0.5m的氢氧化钠水溶液而将ph保持为10.5。在ph看不到变化的时点视为反应结束。利用玻璃过滤器对反应产物进行过滤后，将利用充分量的水进行的水洗及过滤重复进行5次，进而利用超声波分散机进行1小时处理。使其在70℃下干燥而获得纤维素纳米纤维b。进而，向丙酸酐/吡啶(摩尔比1/1)溶液500质量份中添加纤维素纳米纤维b10质量份并加以分散，在室温下搅拌4小时。其次，对分散后的纤维素纳米纤维进行过滤，利用500质量份的水水洗5次后，利用200质量份的乙醇清洗2次。在70℃下进行干燥，获得疏水性cnf。关于所获得的疏水性cnf，根据扫描式电子显微镜观察，平均纤维径为4nm，平均纤维长为1μm。另外，根据布厄特(brunauer-emmett-teller，bet)法而获得的比表面积为270m2/g。根据x射线衍射法而获得的结晶度为79％。
[0246]
[实施例a1]
[0247]
〔基材的制作〕
[0248]
向容器中加入树脂合成例1中所获得的树脂a 90质量份、作为化合物(a)的下述化合物(a1)(在二氯甲烷中的吸收极大波长为704nm)0.04质量份、下述化合物(a2)(在二氯甲
烷中的吸收极大波长为738nm)0.08质量份、作为纳米纤维的疏水性cnf合成例中所获得的疏水性cnf 10质量份及四氢呋喃(thf)，制备树脂浓度为20质量％的溶液。将所获得的溶液浇铸至平滑的玻璃板上，在20℃下干燥8小时后，自玻璃板剥离。进而，在减压下以100℃将所剥离的涂膜干燥8小时，获得包含厚度0.1mm、纵210mm、横210mm的树脂制基板的基材(a1)。对所获得的基材(a1)的机械特性及光学特性进行评价。将结果示于表3中。
[0249]
[化2]
[0250][0251]
[化3]
[0252][0253]
〔光学滤波器的制作〕
[0254]
在所获得的基材(a1)的单面形成电介质多层膜(i)，进而，在基材的另一面形成电介质多层膜(ii)，获得厚度约0.110mm的光学滤波器。对所获得的光学滤波器的光学特性及性状进行评价。将结果示于表3中。
[0255]
电介质多层膜(i)是在蒸镀温度100℃下将二氧化硅(sio2)层与二氧化钛(tio2)层交替地层叠而成的层叠体(合计26层)。电介质多层膜(ii)是在蒸镀温度100℃下将二氧化硅(sio2)层与二氧化钛(tio2)层交替地层叠而成的层叠体(合计20层)。
[0256]
在电介质多层膜(i)及电介质多层膜(ii)的任一者中，将二氧化硅层及二氧化钛层以自基材侧起成为二氧化钛层、二氧化硅层、二氧化钛层、
…
二氧化硅层、二氧化钛层、二氧化硅层的顺序交替地层叠，并将光学滤波器的最外层设为二氧化硅层。
[0257]
关于各层的厚度与层数，以可达成可见区域的良好的透过率与近红外区域的反射性能的方式，结合基材的折射率的波长依存特性或所使用的化合物(a)的吸收特性，使用光学薄膜设计软件(核心麦克劳德(essential macleod)、薄膜中心(thin film center)公司制造)进行最优化。进行最优化时，在本实施例中将针对软件的输入参数(目标(target)值)
设为如下述表1那样。
[0258]
[表1]
[0259]
表1
[0260][0261]
关于膜结构最优化的结果，将所述电介质多层膜(i)设为交替地层叠膜厚约31nm～157nm的二氧化硅层与膜厚约10nm～95nm的二氧化钛层而成的层叠数为26层的多层蒸镀膜，将电介质多层膜(ii)设为交替地层叠膜厚37nm～194nm的二氧化硅层与膜厚约12nm～114nm的二氧化钛层而成的层叠数为20层的多层蒸镀膜。将进行最优化后的膜结构的一例示于下述表2中。
[0262]
[表2]
[0263]
表2
[0264][0265]
*λ＝550nm
[0266]
[实施例a2]
[0267]
〔基材的制作〕
[0268]
将树脂a的量变更为80质量份，将化合物(a1)的量变更为0.10质量份，将化合物(a2)的量变更为0.20质量份，将疏水性cnf的量变更为20质量份，除此以外，与实施例a1同样地制备树脂浓度为8质量％的溶液。使用所获得的溶液，与实施例a1同样地获得包含干燥后的厚度成为0.04mm的树脂制基板的基材(a2)。对所获得的基材(a2)的机械特性及光学特性进行评价。将结果示于表3中。
[0269]
〔光学滤波器的制作〕
[0270]
除使用所获得的基材(a2)以外，与实施例a1同样地，在基材(a2)的其中一面形成电介质多层膜(i)，在另一面形成电介质多层膜(ii)，获得厚度约0.050mm的光学滤波器。对所获得的光学滤波器的光学特性及性状进行评价。将结果示于表3中。
[0271]
[实施例a3]
[0272]
〔基材的制作〕
[0273]
以90质量份的量使用树脂b来代替树脂a，并使用化合物(a2)0.075质量份及下述化合物(a3)0.075质量份作为化合物(a)，除此以外，与实施例a1同样地制备树脂浓度为16质量％的溶液。使用所获得的溶液，与实施例a1同样地获得干燥后的厚度成为0.08mm的树脂制基板。
[0274]
[化4]
[0275][0276]
在所获得的树脂制基板的单面，利用棒涂机涂布下述组成的树脂组合物(1)，在烘箱中以70℃加热2分钟，将溶剂挥发去除。此时，以干燥后的厚度成为5μm的方式调整棒涂机的涂布条件。其次，使用输送机式曝光机进行曝光(曝光量500mj/cm2、200mw)，使树脂组合物(1)硬化，从而在树脂制基板上形成树脂层。同样地，在树脂制基板的另一面也形成包含树脂组合物(1)的树脂层，获得在树脂制基板的两面具有树脂层的基材(a3)。对所获得的基材(a3)的机械特性及光学特性进行评价。将结果示于表3中。
[0277]
树脂组合物(1)：三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯60质量份、二季戊四醇六丙烯酸酯40质量份、1-羟基环己基苯基酮5质量份、异丙醇(isopropyl alcohol，ipa)(溶剂、固体成分浓度(总固体浓度(total solid concentration，tsc))：30％)
[0278]
〔光学滤波器的制作〕
[0279]
除使用所获得的基材(a3)以外，与实施例a1同样地，在基材(a3)的其中一面形成电介质多层膜(i)，在另一面形成电介质多层膜(ii)，获得厚度约0.100mm的光学滤波器。对所获得的光学滤波器的光学特性及性状进行评价。将结果示于表3中。
[0280]
[实施例a4]
[0281]
〔基材的制作〕
[0282]
将树脂b的量变更为70质量份，将化合物(a2)的量变更为0.12质量份，将化合物(a3)的量变更为0.12质量份，将疏水性cnf的量变更为30质量份，除此以外，与实施例a3同样地制备树脂浓度为10质量％的溶液。使用所获得的溶液，与实施例a3同样地获得干燥后的厚度成为0.05mm的树脂制基板。
[0283]
在所获得的树脂制基板的单面，利用棒涂机涂布下述组成的树脂组合物(2)，在烘箱中以70℃加热2分钟，将溶剂挥发去除。此时，以干燥后的厚度成为5μm的方式调整棒涂机的涂布条件。其次，使用输送机式曝光机进行曝光(曝光量500mj/cm2、200mw)，使树脂组合
物(2)硬化，从而在树脂制基板上形成树脂层。同样地，在树脂制基板的另一面也形成包含树脂组合物(2)的树脂层，获得在树脂制基板的两面具有树脂层的基材(a4)。对所获得的基材(a4)的机械特性及光学特性进行评价。将结果示于表3中。
[0284]
树脂组合物(2)：三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯100质量份、1-羟基环己基苯基酮5质量份、甲基乙基酮(methyl ethyl ketone，mek)(溶剂、固体成分浓度(tsc)：30％)
[0285]
〔光学滤波器的制作〕
[0286]
除使用所获得的基材(a4)以外，与实施例a1同样地，在基材(a4)的其中一面形成电介质多层膜(i)，在另一面形成电介质多层膜(ii)，获得厚度约0.070mm的光学滤波器。对所获得的光学滤波器的光学特性及性状进行评价。将结果示于表3中。
[0287]
[实施例a5]
[0288]
〔基材的制作〕
[0289]
以90质量份的量使用树脂c来代替树脂a，使用下述化合物(a4)0.10质量份及下述化合物(a5)0.10质量份作为化合物(a)，使用甲基乙基酮来代替四氢呋喃作为溶解树脂的溶剂，除此以外，与实施例a1同样地制备树脂浓度为8质量％的溶液。使用所获得的溶液，与实施例a1同样地获得干燥后的厚度成为0.04mm的树脂制基板。
[0290]
[化5]
[0291][0292]
[化6]
[0293][0294]
在所获得的树脂制基板的单面，利用棒涂机涂布所述树脂组合物(1)，在烘箱中以70℃加热2分钟，将溶剂挥发去除。此时，以干燥后的厚度成为5μm的方式调整棒涂机的涂布条件。其次，使用输送机式曝光机进行曝光(曝光量500mj/cm2、200mw)，使树脂组合物(1)硬化，从而在树脂制基板上形成树脂层。同样地，在树脂制基板的另一面也形成包含树脂组合物(1)的树脂层，获得在树脂制基板的两面具有树脂层的基材(a5)。对所获得的基材(a5)的
机械特性及光学特性进行评价。将结果示于表3中。
[0295]
〔光学滤波器的制作〕
[0296]
除使用所获得的基材(a5)以外，与实施例a1同样地，在基材(a5)的其中一面形成电介质多层膜(i)，在另一面形成电介质多层膜(ii)，获得厚度约0.060mm的光学滤波器。对所获得的光学滤波器的光学特性及性状进行评价。将结果示于表3中。
[0297]
[比较例a1]
[0298]
〔基材的制作〕
[0299]
将树脂a的量变更为100质量份，不使用疏水性cnf而使用二氯甲烷来代替四氢呋喃作为溶解树脂的溶剂，除此以外，与实施例a1同样地制作基材(a6)，对机械特性及光学特性进行评价。将结果示于表3中。
[0300]
〔光学滤波器的制作〕
[0301]
除使用所获得的基材(a6)以外，与实施例a1同样地，在基材(a6)的其中一面形成电介质多层膜(i)，在另一面形成电介质多层膜(ii)，获得厚度约0.110mm的光学滤波器。对所获得的光学滤波器的光学特性及性状进行评价。将结果示于表3中。
[0302]
[比较例a2]
[0303]
〔基材的制作〕
[0304]
除不使用化合物(a)以外，与实施例a5同样地制作树脂制基板。在所获得的树脂制基板的单面，利用棒涂机涂布所述树脂组合物(2)，在烘箱中以70℃加热2分钟，将溶剂挥发去除。此时，以干燥后的厚度成为5μm的方式调整棒涂机的涂布条件。其次，使用输送机式曝光机进行曝光(曝光量500mj/cm2、200mw)，使树脂组合物(2)硬化，从而在树脂制基板上形成树脂层。同样地，在树脂制基板的另一面也形成包含树脂组合物(2)的树脂层，获得在树脂制基板的两面具有树脂层的基材(a7)。对所获得的基材(a7)的机械特性进行评价。将结果示于表3中。
[0305]
〔光学滤波器的制作〕
[0306]
除使用所获得的基材(a7)以外，与实施例a1同样地，在基材(a7)的其中一面形成电介质多层膜(i)，在另一面形成电介质多层膜(ii)，获得厚度约0.110mm的光学滤波器。对所获得的光学滤波器的光学特性及性状进行评价。将结果示于表3中。
[0307]
[表3]
[0308][0309]
[实施例b1]
[0310]
〔基材的制作〕
[0311]
向容器中加入树脂合成例1中所获得的树脂a 100质量份、作为化合物(a)的所述化合物(a1)(在二氯甲烷中的吸收极大波长为704nm)0.08质量份、所述化合物(a2)(在二氯甲烷中的吸收极大波长为738nm)0.16质量份及二氯甲烷，制备树脂浓度为10质量％的溶液。将所获得的溶液浇铸至平滑的玻璃板上，在20℃下干燥8小时后，自玻璃板剥离。进而，在减压下以100℃将所剥离的涂膜干燥8小时，获得厚度0.05mm、纵210mm、横210mm的树脂制基板。
[0312]
在所获得的树脂制基板的单面，利用棒涂机涂布下述组成的树脂组合物(3)，在烘箱中以70℃加热2分钟，将溶剂挥发去除。此时，以干燥后的厚度成为10μm的方式调整棒涂机的涂布条件。其次，使用输送机式曝光机进行曝光(曝光量500mj/cm2、200mw)，使树脂组合物(3)硬化，从而在树脂制基板上形成树脂层。同样地，在树脂制基板的另一面也形成包含树脂组合物(3)的树脂层，获得在树脂制基板的两面具有含有疏水性cnf的树脂层的基材(b1)。对所获得的基材(b1)的机械特性及光学特性进行评价。将结果示于表4中。
[0313]
树脂组合物(3)：所述疏水性cnf 20质量份、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯48质量份、二季戊四醇六丙烯酸酯32质量份、1-羟基环己基苯基酮5质量份、异丙醇(溶剂、固体成分浓度(tsc)：30％)
[0314]
〔光学滤波器的制作〕
[0315]
除使用所获得的基材(b1)以外，与实施例a1同样地，在基材(b1)的其中一面形成电介质多层膜(i)，在另一面形成电介质多层膜(ii)，获得厚度约0.080mm的光学滤波器。对所获得的光学滤波器的光学特性及性状进行评价。将结果示于表4中。
[0316]
[实施例b2]
[0317]
〔基材的制作〕
[0318]
除将所述树脂组合物(3)变更为下述树脂组合物(4)以外，与实施例b1同样地获得基材(b2)。
[0319]
树脂组合物(4)：所述疏水性cnf 40质量份、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯36质量份、二季戊四醇六丙烯酸酯24质量份、1-羟基环己基苯基酮5质量份、异丙醇(溶剂、固体成分浓度(tsc)：30％)
[0320]
〔光学滤波器的制作〕
[0321]
除使用所获得的基材(b2)以外，与实施例a1同样地，在基材(b2)的其中一面形成电介质多层膜(i)，在另一面形成电介质多层膜(ii)，获得厚度约0.080mm的光学滤波器。对所获得的光学滤波器的光学特性及性状进行评价。将结果示于表4中。
[0322]
[实施例b3]
[0323]
〔基材的制作〕
[0324]
除将所述树脂组合物(3)变更为下述树脂组合物(5)以外，与实施例b1同样地获得基材(b3)。
[0325]
树脂组合物(5)：所述疏水性cnf 60质量份、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯24质量份、二季戊四醇六丙烯酸酯16质量份、1-羟基环己基苯基酮5质量份、异丙醇(溶剂、固体成分浓度(tsc)：30％)
[0326]
〔光学滤波器的制作〕
[0327]
除使用所获得的基材(b3)以外，与实施例a1同样地，在基材(b3)的其中一面形成
电介质多层膜(i)，在另一面形成电介质多层膜(ii)，获得厚度约0.080mm的光学滤波器。对所获得的光学滤波器的光学特性及性状进行评价。将结果示于表4中。
[0328]
[实施例b4]
[0329]
〔基材的制作〕
[0330]
以100质量份的量使用树脂b来代替树脂a，使用所述化合物(a2)0.12质量份及所述化合物(a3)0.12质量份作为化合物(a)，除此以外，与实施例b1同样地制备树脂浓度为10质量％的溶液。使用所获得的溶液，与实施例b1同样地获得干燥后的厚度成为0.05mm的树脂制基板。
[0331]
在所获得的树脂制基板的单面，利用棒涂机涂布下述组成的树脂组合物(6)，在烘箱中以70℃加热2分钟，将溶剂挥发去除。此时，以干燥后的厚度成为10μm的方式调整棒涂机的涂布条件。其次，使用输送机式曝光机进行曝光(曝光量500mj/cm2、200mw)，使树脂组合物(6)硬化，从而在树脂制基板上形成树脂层。同样地，在树脂制基板的另一面也形成包含树脂组合物(6)的树脂层，获得在树脂制基板的两面具有含有疏水性cnf的树脂层的基材(b4)。对所获得的基材(b4)的机械特性及光学特性进行评价。将结果示于表4中。
[0332]
树脂组合物(6)：所述疏水性cnf 45质量份、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯55质量份、1-羟基环己基苯基酮5质量份、异丙醇(溶剂、固体成分浓度(tsc)：30％)
[0333]
〔光学滤波器的制作〕
[0334]
除使用所获得的基材(b4)以外，与实施例a1同样地，在基材(b4)的其中一面形成电介质多层膜(i)，在另一面形成电介质多层膜(ii)，获得厚度约0.080mm的光学滤波器。对所获得的光学滤波器的光学特性及性状进行评价。将结果示于表4中。
[0335]
[实施例b5]
[0336]
〔基材的制作〕
[0337]
将近红外线吸收玻璃基板(松浪硝子工业公司制造的“bs-11”、厚度210μm)研磨至厚度150μm，在两面利用棒涂机涂布下述组成的树脂组合物(14)，在烘箱中以70℃加热2分钟，将溶剂挥发去除。此时，以干燥后的厚度成为10μm的方式调整棒涂机的涂布条件。其次，使用输送机式曝光机进行曝光(曝光量500mj/cm2、200mw)，使树脂组合物(14)硬化，从而在所述玻璃支撑体上形成树脂层。同样地，在所述玻璃支撑体的另一面也形成包含树脂组合物(14)的树脂层，获得在所述玻璃支撑体的两面具有含有疏水性cnf的树脂层的基材(b5)。对所获得的基材(b5)的机械特性及光学特性进行评价。将结果示于表4中。
[0338]
树脂组合物(14)：疏水性cnf 20质量份、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯48质量份、二季戊四醇六丙烯酸酯32质量份、1-羟基环己基苯基酮5质量份、甲基乙基酮(溶剂、固体成分浓度(tsc)：30％)
[0339]
〔光学滤波器的制作〕
[0340]
除使用所获得的基材(b5)以外，与实施例a1同样地，在基材(b5)的其中一面形成电介质多层膜(i)，在另一面形成电介质多层膜(ii)，获得厚度约0.180mm的光学滤波器。对所获得的光学滤波器的光学特性及性状进行评价。将结果示于表4中。
[0341]
[比较例b1]
[0342]
〔基材的制作〕
[0343]
除将所述树脂组合物(3)变更为所述树脂组合物(2)以外，与实施例b1同样地获得
在树脂制基板的两面具有树脂层的基材(b6)。
[0344]
〔光学滤波器的制作〕
[0345]
除使用所获得的基材(b6)以外，与实施例a1同样地，在基材(b6)的其中一面形成电介质多层膜(i)，在另一面形成电介质多层膜(ii)，获得厚度约0.080mm的光学滤波器。对所获得的光学滤波器的光学特性及性状进行评价。将结果示于表4中。
[0346]
[比较例b2]
[0347]
〔基材的制作〕
[0348]
向容器中加入树脂合成例1中所获得的树脂a 100质量份及二氯甲烷，制备树脂浓度为10质量％的溶液。将所获得的溶液浇铸至平滑的玻璃板上，在20℃下干燥8小时后，自玻璃板剥离。进而，在减压下以100℃将所剥离的涂膜干燥8小时，获得厚度0.05mm、纵210mm、横210mm的树脂制支撑体。
[0349]
在所获得的树脂制支撑体的单面，利用棒涂机涂布所述组成的树脂组合物(1)，在烘箱中以70℃加热2分钟，将溶剂挥发去除。此时，以干燥后的厚度成为10μm的方式调整棒涂机的涂布条件。其次，使用输送机式曝光机进行曝光(曝光量500mj/cm2、200mw)，使树脂组合物(1)硬化，从而在树脂制支撑体上形成树脂层。同样地，在树脂制支撑体的另一面也形成包含树脂组合物(1)的树脂层，获得在树脂制支撑体的两面具有树脂层的基材(b7)。对所获得的基材(b7)的机械特性及光学特性进行评价。将结果示于表4中。
[0350]
〔光学滤波器的制作〕
[0351]
除使用所获得的基材(b7)以外，与实施例a1同样地，在基材(b7)的其中一面形成电介质多层膜(i)，在另一面形成电介质多层膜(ii)，获得厚度约0.080mm的光学滤波器。对所获得的光学滤波器的光学特性及性状进行评价。将结果示于表4中。
[0352]
[比较例b3]
[0353]
〔基材的制作〕
[0354]
向容器中加入树脂合成例1中所获得的树脂a 100质量份及二氯甲烷，制备树脂浓度为14质量％的溶液。将所获得的溶液浇铸至平滑的玻璃板上，在20℃下干燥8小时后，自玻璃板剥离。进而，在减压下以100℃将所剥离的涂膜干燥8小时，获得仅包含厚度0.07mm、纵210mm、横210mm的树脂制支撑体的基材(b8)。
[0355]
〔光学滤波器的制作〕
[0356]
除使用所获得的基材(b8)以外，与实施例a1同样地，在基材(b8)的其中一面形成电介质多层膜(i)，在另一面形成电介质多层膜(ii)，获得厚度约0.080mm的光学滤波器。对所获得的光学滤波器的光学特性及性状进行评价。将结果示于表4中。
[0357]
[比较例b4]
[0358]
〔基材的制作〕
[0359]
将近红外线吸收玻璃基板(松浪硝子工业公司制造的“bs-11”、厚度210μm)研磨至厚度120μm，在两面利用棒涂机涂布下述组成的树脂组合物(15)，在烘箱中以70℃加热2分钟，将溶剂挥发去除。此时，以干燥后的厚度成为10μm的方式调整棒涂机的涂布条件。其次，使用输送机式曝光机进行曝光(曝光量500mj/cm2、200mw)，使树脂组合物(15)硬化，从而在所述玻璃支撑体上形成树脂层。同样地，在所述玻璃支撑体的另一面也形成包含树脂组合物(15)的树脂层，获得在所述玻璃支撑体的两面具有含有化合物(a)的树脂层的基材(b9)。
对所获得的基材(b9)的机械特性及光学特性进行评价。将结果示于表4中。
[0360]
树脂组合物(15)：化合物(a1)0.30质量份、化合物(a2)0.30质量份、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯48质量份、二季戊四醇六丙烯酸酯32质量份、1-羟基环己基苯基酮5质量份、甲基乙基酮(溶剂、固体成分浓度(tsc)：30％)
[0361]
〔光学滤波器的制作〕
[0362]
除使用所获得的基材(b9)以外，与实施例a1同样地，在基材(b9)的其中一面形成电介质多层膜(i)，在另一面形成电介质多层膜(ii)，获得厚度约0.150mm的光学滤波器。对所获得的光学滤波器的光学特性及性状进行评价。将结果示于表4中。
[0363]
[表4]
[0364][0365]
[实施例c1]
[0366]
〔基材的制作〕
[0367]
向容器中加入树脂合成例1中所获得的树脂a 100质量份及二氯甲烷，制备树脂浓度为10质量％的溶液。将所获得的溶液浇铸至平滑的玻璃板上，在20℃下干燥8小时后，自玻璃板剥离。进而，在减压下以100℃将所剥离的涂膜干燥8小时，获得厚度0.05mm、纵210mm、横210mm的树脂制支撑体。
[0368]
在所获得的树脂制支撑体的单面，利用棒涂机涂布下述组成的树脂组合物(7)，在烘箱中以70℃加热2分钟，将溶剂挥发去除。此时，以干燥后的厚度成为10μm的方式调整棒涂机的涂布条件。其次，使用输送机式曝光机进行曝光(曝光量500mj/cm2、200mw)，使树脂组合物(7)硬化，从而在树脂制支撑体上形成树脂层。同样地，在树脂制支撑体的另一面也形成包含树脂组合物(7)的树脂层，获得在树脂制支撑体的两面具有含有化合物(a)及疏水性cnf的树脂层的基材(c1)。对所获得的基材(c1)的机械特性及光学特性进行评价。将结果示于表5中。
[0369]
树脂组合物(7)：化合物(a1)0.20质量份、化合物(a2)0.40质量份、疏水性cnf20质量份、颜料(1)(日本卡利特(carlit)公司制造的“cir-fs265”)0.65质量份、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯48质量份、二季戊四醇六丙烯酸酯32质量份、1-羟基环己基苯基酮5质量份、甲基乙基酮(溶剂、固体成分浓度(tsc)：30％)
[0370]
〔光学滤波器的制作〕
[0371]
除使用所获得的基材(c1)以外，与实施例a1同样地，在基材(c1)的其中一面形成电介质多层膜(i)，在另一面形成电介质多层膜(ii)，获得厚度约0.080mm的光学滤波器。对所获得的光学滤波器的光学特性及性状进行评价。将结果示于表5中。
[0372]
[实施例c2]
[0373]
〔基材的制作〕
[0374]
除使用下述树脂组合物(8)来代替树脂组合物(7)以外，与实施例c1同样地制作在树脂制支撑体的两面具有含有化合物(a)及疏水性cnf的树脂层的基材(c2)。对所获得的基材(c2)的机械特性及光学特性进行评价。将结果示于表5中。
[0375]
树脂组合物(8)：化合物(a1)0.20质量份、化合物(a2)0.40质量份、疏水性cnf60质量份、颜料(2)(日本卡利特(carlit)公司制造的“cir-fs165”)0.65质量份、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯24质量份、二季戊四醇六丙烯酸酯16质量份、1-羟基环己基苯基酮5质量份、甲基乙基酮(溶剂、固体成分浓度(tsc)：30％)
[0376]
〔光学滤波器的制作〕
[0377]
除使用所获得的基材(c2)以外，与实施例a1同样地，在基材(c2)的其中一面形成电介质多层膜(i)，在另一面形成电介质多层膜(ii)，获得厚度约0.080mm的光学滤波器。对所获得的光学滤波器的光学特性及性状进行评价。将结果示于表5中。
[0378]
[实施例c3]
[0379]
〔基材的制作〕
[0380]
向容器中加入树脂合成例2中所获得的树脂b 100质量份及二氯甲烷，制备树脂浓度为10质量％的溶液。将所获得的溶液浇铸至平滑的玻璃板上，在20℃下干燥8小时后，自玻璃板剥离。进而，在减压下以100℃将所剥离的涂膜干燥8小时，获得厚度0.05mm、纵210mm、横210mm的树脂制支撑体。
[0381]
在所获得的树脂制支撑体的单面，利用棒涂机涂布下述组成的树脂组合物(9)，在
烘箱中以70℃加热2分钟，将溶剂挥发去除。此时，以干燥后的厚度成为10μm的方式调整棒涂机的涂布条件。其次，使用输送机式曝光机进行曝光(曝光量500mj/cm2、200mw)，使树脂组合物(9)硬化，从而在树脂制支撑体上形成树脂层。同样地，在树脂制支撑体的另一面也形成包含树脂组合物(9)的树脂层，获得在树脂制支撑体的两面具有含有化合物(a)及疏水性cnf的树脂层的基材(c3)。对所获得的基材(c3)的机械特性及光学特性进行评价。将结果示于表5中。
[0382]
树脂组合物(9)：化合物(a2)0.30质量份、化合物(a3)0.30质量份、疏水性cnf40质量份、颜料(1)0.65质量份、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯36质量份、二季戊四醇六丙烯酸酯24质量份、1-羟基环己基苯基酮5质量份、甲基乙基酮(溶剂、固体成分浓度(tsc)：30％)
[0383]
〔光学滤波器的制作〕
[0384]
除使用所获得的基材(c3)以外，与实施例a1同样地，在基材(c3)的其中一面形成电介质多层膜(i)，在另一面形成电介质多层膜(ii)，获得厚度约0.080mm的光学滤波器。对所获得的光学滤波器的光学特性及性状进行评价。将结果示于表5中。
[0385]
[实施例c4]
[0386]
〔基材的制作〕
[0387]
向容器中加入树脂合成例3中所获得的树脂c 100质量份及二氯甲烷，制备树脂浓度为10质量％的溶液。将所获得的溶液浇铸至平滑的玻璃板上，在20℃下干燥8小时后，自玻璃板剥离。进而，在减压下以100℃将所剥离的涂膜干燥8小时，获得厚度0.05mm、纵210mm、横210mm的树脂制支撑体。
[0388]
在所获得的树脂制支撑体的单面，利用棒涂机涂布下述组成的树脂组合物(10)，在烘箱中以70℃加热2分钟，将溶剂挥发去除。此时，以干燥后的厚度成为10μm的方式调整棒涂机的涂布条件。其次，使用输送机式曝光机进行曝光(曝光量500mj/cm2、200mw)，使树脂组合物(10)硬化，从而在树脂制支撑体上形成树脂层。同样地，在树脂制支撑体的另一面也形成包含树脂组合物(10)的树脂层，获得在树脂制支撑体的两面具有含有化合物(a)及疏水性cnf的树脂层的基材(c4)。对所获得的基材(c4)的机械特性及光学特性进行评价。将结果示于表5中。
[0389]
树脂组合物(10)：化合物(a2)0.30质量份、化合物(a3)0.30质量份、疏水性cnf30质量份、颜料(2)0.65质量份、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯42质量份、二季戊四醇六丙烯酸酯28质量份、1-羟基环己基苯基酮5质量份、甲基乙基酮(溶剂、固体成分浓度(tsc)：30％)
[0390]
〔光学滤波器的制作〕
[0391]
除使用所获得的基材(c4)以外，与实施例a1同样地，在基材(c4)的其中一面形成电介质多层膜(i)，在另一面形成电介质多层膜(ii)，获得厚度约0.080mm的光学滤波器。对所获得的光学滤波器的光学特性及性状进行评价。将结果示于表5中。
[0392]
[实施例c5]
[0393]
〔基材的制作〕
[0394]
在玻璃支撑体(日本电气硝子公司制造的“oa-10g”、厚度150μm)的两面，利用棒涂机涂布下述组成的树脂组合物(11)，在烘箱中以70℃加热2分钟，将溶剂挥发去除。此时，以干燥后的厚度成为10μm的方式调整棒涂机的涂布条件。其次，使用输送机式曝光机进行曝光(曝光量500mj/cm2、200mw)，使树脂组合物(11)硬化，从而在所述玻璃支撑体上形成树脂
层。同样地，在所述玻璃支撑体的另一面也形成包含树脂组合物(11)的树脂层，获得在所述玻璃支撑体的两面具有含有化合物(a)及疏水性cnf的树脂层的基材(c5)。对所获得的基材(c5)的机械特性及光学特性进行评价。将结果示于表5中。
[0395]
树脂组合物(11)：化合物(a2)0.30质量份、化合物(a3)0.30质量份、疏水性cnf10质量份、颜料(2)0.65质量份、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯54质量份、二季戊四醇六丙烯酸酯36质量份、1-羟基环己基苯基酮5质量份、甲基乙基酮(溶剂、固体成分浓度(tsc)：30％)
[0396]
〔光学滤波器的制作〕
[0397]
除使用所获得的基材(c5)以外，与实施例a1同样地，在基材(c5)的其中一面形成电介质多层膜(i)，在另一面形成电介质多层膜(ii)，获得厚度约0.180mm的光学滤波器。对所获得的光学滤波器的光学特性及性状进行评价。将结果示于表5中。
[0398]
[实施例c6]
[0399]
〔基材的制作〕
[0400]
在近红外线吸收玻璃基板(松浪硝子工业公司制造的“bs-11”、厚度120μm)的两面，利用棒涂机涂布下述组成的树脂组合物(12)，在烘箱中以70℃加热2分钟，将溶剂挥发去除。此时，以干燥后的厚度成为10μm的方式调整棒涂机的涂布条件。其次，使用输送机式曝光机进行曝光(曝光量500mj/cm2、200mw)，使树脂组合物(12)硬化，从而在所述玻璃支撑体上形成树脂层。同样地，在所述玻璃支撑体的另一面也形成包含树脂组合物(12)的树脂层，获得在所述玻璃支撑体的两面具有含有化合物(a)及疏水性cnf的树脂层的基材(c6)。对所获得的基材(c6)的机械特性及光学特性进行评价。将结果示于表5中。
[0401]
树脂组合物(12)：化合物(a1)0.30质量份、化合物(a2)0.30质量份、疏水性cnf20质量份、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯48质量份、二季戊四醇六丙烯酸酯32质量份、1-羟基环己基苯基酮5质量份、甲基乙基酮(溶剂、固体成分浓度(tsc)：30％)
[0402]
〔光学滤波器的制作〕
[0403]
除使用所获得的基材(c6)以外，与实施例a1同样地，在基材(c6)的其中一面形成电介质多层膜(i)，在另一面形成电介质多层膜(ii)，获得厚度约0.150mm的光学滤波器。对所获得的光学滤波器的光学特性及性状进行评价。将结果示于表5中。
[0404]
[比较例c1]
[0405]
〔基材的制作〕
[0406]
除将所述树脂组合物(7)变更为下述树脂组合物(13)以外，与实施例c1同样地获得在树脂制支撑体的两面具有含有化合物(a)的树脂层的基材(c7)。对所获得的基材(c7)的机械特性及光学特性进行评价。将结果示于表5中。
[0407]
树脂组合物(13)：化合物(a1)0.20质量份、化合物(a2)0.40质量份、颜料(1)0.65质量份、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯60质量份、二季戊四醇六丙烯酸酯40质量份、1-羟基环己基苯基酮5质量份、甲基乙基酮(溶剂、固体成分浓度(tsc)：30％)
[0408]
〔光学滤波器的制作〕
[0409]
除使用所获得的基材(c7)以外，与实施例a1同样地，在基材(c7)的其中一面形成电介质多层膜(i)，在另一面形成电介质多层膜(ii)，获得厚度约0.080mm的光学滤波器。对所获得的光学滤波器的光学特性及性状进行评价。将结果示于表5中。
[0410]
[比较例c2]
[0411]
〔基材的制作〕
[0412]
除使用所述树脂组合物(3)来代替树脂组合物(7)以外，与实施例c1同样地获得在树脂制支撑体的两面具有含有疏水性cnf的树脂层的基材(c8)。对所获得的基材(c8)的机械特性及光学特性进行评价。将结果示于表5中。
[0413]
〔光学滤波器的制作〕
[0414]
除使用所获得的基材(c8)以外，与实施例a1同样地，在基材(c8)的其中一面形成电介质多层膜(i)，在另一面形成电介质多层膜(ii)，获得厚度约0.080mm的光学滤波器。对所获得的光学滤波器的光学特性及性状进行评价。将结果示于表5中。
[0415]
[表5]
[0416]