电光调制器的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及电光设备和方法，更具体地涉及电光调制器。
【背景技术】
[0002]电光调节器包括光波导部分和导线部分的布置。可以操作光波导部分以促进光信号的传播，并且导线部分传播输入射频(RF)信号。当射频信号与波导材料交互时，射频信号可导致改变波导材料的折射率的电光效应。这样的布置提供了光信号和射频信号之间的交互，这样光信号可以由输入射频信号进行调制。
【发明内容】
[0003]根据本发明一实施例，电光调制器设备包括部分地由波导部分定义的光信号通路，部分地由导线部分定义的射频信号通路，交互区域，在该交互区域中，在射频信号通路中传播的射频信号与在光信号通路中传播的光信号交互以调制该光信号，以及位于接近导线部分的第一调整部分，该第一调整部分包括传导部分和开关部分，该开关部分可被操作以将该传导部分连接到地。
[0004]根据本发明的另一实施例，电光调制器设备系统包括部分地由波导部分定义的光信号通路，部分地由导线部分定义的射频信号通路，交互区域，在该交互区域中，在射频信号通路中传播的射频信号与在光信号通路中传播的光信号交互以调制该光信号，位于接近导线部分的第一调整部分，所述第一调整部分包括传导部分和开关部分，该开关部分可被操作以将该传导部分连接到地，以及控制器部分，该控制器部分通信地链接到所述第一调整部分的开关部分，所述控制器部分可被操作以控制所述开关部分的状态。
[0005]根据本发明又一实施例，电光调制器设备包括衬底，部分地由位于所述衬底上的导线部分定义的射频信号通路，部分地由位于所述衬底上的波导部分定义的光信号通路，交互区域，在该交互区域中在所述射频通路中传播的射频信号和在所述光信号通路中传播的光信号交互以调制该光信号，以及位于所述衬底上接近导线部分的第一调整部分，所述第一调整部份包括传导部分和开关部分，该开关部分可被操作以将所述传导部分连接到地。
[0006]更多的特征和优点将通过本发明的技术实现。本发明的其他实施例和部分将在下文中详细描述，并且被认为是请求保护的本发明的一部分。通过参考下面的描述和附图，将获得对本发明的优点和特征的更好的理解。
【附图说明】
[0007]在对说明书结论处的权利要求中具体地指出并清楚地要求保护被认为是发明的主题。从下述详细描述并结合附图，本发明的上述和其它特征、优点将显而易见。
[0008]图1示出了电光调制器设备的一示例性实施例的部分的俯视图；
[0009]图2示出了导线和调整部分的示例性布置的俯视图；
[0010]图3示出了调整部分的示例性实施例的一侧的部分的剖视图；
[0011]图4示出了电光调制器设备另一示例性实施例的部分的俯视图；
[0012]图5示出了图4中区域5中的设备的示例性实施例的部分；
[0013]图6示出了图4中区域5中的设备的另一替代示例性实施例；
[0014]图7示出了操作所述电光设备的示例性方法的流程图。
【具体实施方式】
[0015]以前的电光调制器包括波导部分和导线部分，其中波导部分传播光信号，导线部分传播射频(RF)信号。RF信号与光信号的交互被用于调制光信号。尽管设备被倾向设计为光信号和RF信号基本以相似的速度传播，电光调制器的材质和构造可能影响光信号的和RF信号相对传播速度。如果，例如，在电光设备的交互区域中RF信号的传播速度与光信号的传播速度不匹配，调制器的带宽可能会被减少，这种减少显然是不期望的。
[0016]在此描述的图示的示例性实施例提供了一种方法和系统用于使得在电光设备的交互区域中RF信号的传播速度与光信号的传播速度匹配。这种信号速度的匹配(或调谐)可以增加电光设备和系统的有效带宽。
[0017]图1示出了电光调制器设备100的示例性实施例的部分的俯视图。在此实施例中，设备100布置在衬底上。该衬底例如为硅衬底材料。波导部分102布置在衬底上。导线104布置在波导部分102之上的层或者与波导部分102相邻的层。波导部分102被用于传播一个连续波(CW)光输入信号，导线104被用于传播RF输入信号。波导部分102和导线104在交互区域106重叠。RF信号和波导部分102在交互区域106中的交互影响CW光输入光的调制，由此得到调制的或者编码的光输出信号。如上面所讨论的，设备100的构造和材质会影响光和RF信号的传播速度。在图示的示例性实施例中RF信号的传播速度会高于光信号的传播速度。因此，降低RF信号的传播速度将会减少光信号和RF信号之间传播速度的相对差。
[0018]RF信号的群速度是线路电感和导线104的电容的函数。改变导线104的电容或者电感将会改变RF信号的群速度。图示的实施例包括多个调整部分108，其跨过或者临近导线104。调整部分108与导线104电绝缘，并且调整部分108例如可以被布置在衬底上的材料的层上，衬底与导线电绝缘。每个调整部分108都通过一个或多个开关设备110与地相连，开关设备110可以由下面描述的控制器控制。当某个调整部分108的开关设备110闭合时(也就是说调整部分108在任一端、调整部分108的相对的端或者开关设备110布置在调整部分108的中间区域接地)，关联的导线104的电容会增加。导线104的电容的增加会降低RF信号在导线104中的传播速度。
[0019]虽然图示的实施例包括2个调整部分位于并关联于每个导线104，替代实施例中每个导线104可以对应任意数量的调整部分108。每个调整部分108可以被独立地控制以便可以通过影响将特定调整部分108接地的开关设备110来逐步增加导线104的有效电容。通过改变调整部分108的状态(也就是说将调整部分108连接到地的开关设备110的状态)，导线104的有效电容可以被增加或者减少以影响RF信号的速度来接近或者基本匹配光信号的速度。
[0020]图2示出了导线104和调整部分108的示例性实施例的俯视图。线负载元件包括与开关设备I1连接的传导部分202。通过闭合位于调整部分108 —端的开关设备110，每个传导部分202可以选择性的、独立的接地。开关设备110由控制器部分204控制，该控制器部分204可以被用于输出改变开关设备110状态的信号。控制器部分204可以包括例如处理器或者逻辑电路，其用于接收输入、处理输入并输出信号。在图示实施例中，控制器204可以闭合开关设备110a。开关设备IlOa将传导部分202a连接到地。这样的连接可以使得导线104的电容增加。正如上面所讨论的，导线104的电容的增加会减少RF输入信号的速度(减少RF输入和光信号之间的相对差)。如果RF输入的速度的减少是有利的，控制器可以例如闭合开关设备IlOb以将传导部分202b连接到地，这样会进一步的增加导线104的电容。如果需要，可以通过闭合其他调整部分108的开关设备110来进一步增加电容。
[0021]图3示出了调整部分108的示例性实施例的一侧的部分剖视图。传导部分202连接到开关设备110。在图示实施例中，开关设备110包括一个或多个晶体管。开关设备110将节点302和控制器204连接到地。调整部分108被布置在绝缘层303中，例如布置在衬底301上的氧化或者氮化材料中。导线104布置在绝缘层303上。虽然图示实施例包括衬底301和绝缘层303，设备也可以包括任意数量的、包括任意材料的层。虽然仅示出了一个开关设备110，替代实施例可以包括两个或更多的开关设备110，这样传导部分202的每一端都通过开关设备110连接到地，或者替代实施例可以包括在传导部分202的中间区域的开关设备110，其使得当开关