Boa阵列基板的制作方法及boa阵列基板的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及液晶显示领域，特别是涉及一种BOA阵列基板的制作方法及BOA阵列基板。
【背景技术】
[0002]彩膜阵列集成技术(BOA，Black Matrix ON Array)，能减少两个基板对位时的偏差，增加液晶显不面板的开口率，降低液晶显不面板的寄生电容，被广泛应用于液晶显不面板的制作中。
[0003]在阵列基板上制作黑色矩阵(Black Matrix)时，由于黑色矩阵不具有透光性，因此在对黑色矩阵进行曝光时，容易造成阵列基板和黑色矩阵的对位偏差，从而影响该BOA阵列基板的制作质量，进而影响液晶显示面板的画面显示品质。
[0004]故，有必要提供一种B0A阵列基板的制作方法及BOA阵列基板，以解决现有技术所存在的冋题。
【发明内容】
[0005]本发明的目的在于提供一种不易造成阵列基板和彩色滤光片对位偏差的BOA阵列基板的制作方法及BOA阵列基板；以解决现有的BOA阵列基板容易产生阵列基板和彩色滤光片的对位偏差，进而影响液晶显示面板的画面显示品质的技术问题。
[0006]为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下:
[0007]本发明实施例提供一种BOA阵列基板的制作方法，其包括:
[0008]制作阵列基板，其中所述阵列基板包括显示区域以及非显示区域，在所述阵列基板的所述非显示区域设置金属层，以阻挡所述非显示区域的漏光；以及
[0009]在所述阵列基板的所述显示区域涂布黑色矩阵，并对所述黑色矩阵进行图形化处理。
[0010]在本发明所述的BOA阵列基板的制作方法中，所述对所述黑色矩阵进行图形化处理的步骤之后还包括步骤:
[0011]在所述阵列基板上涂布彩色光阻层，对所述彩色光阻层进行图形化处理，以在所述阵列基板上形成彩色光阻；
[0012]其中所述彩色光阻包括红色光阻、蓝色光阻以及绿色光阻。
[0013]在本发明所述的BOA阵列基板的制作方法中，所述在所述阵列基板上设置彩色光阻的步骤包括:
[0014]在所述阵列基板的所述非显示区域设置用于遮光的所述彩色光阻。
[0015]在本发明所述的BOA阵列基板的制作方法中，所述用于遮光的所述彩色光阻为红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻的叠层结构；红色光阻和蓝色光阻的叠层结构；或红色光阻和绿色光阻的叠层结构。
[0016]本发明还提供一种BOA阵列基板的制作方法，其包括:
[0017]制作阵列基板，其中所述阵列基板包括显示区域以及非显示区域；
[0018]在所述阵列基板的所述显示区域涂布黑色矩阵，并对所述黑色矩阵进行图形化处理；以及
[0019]在所述阵列基板上设置彩色光阻，其中在所述阵列基板的非显示区域设置用于遮光的所述彩色光阻，以阻挡所述非显示区域的漏光。
[0020]在本发明所述的BOA阵列基板的制作方法中，所述在所述阵列基板上设置彩色光阻的步骤包括:
[0021]在所述阵列基板上涂布彩色光阻层，对所述彩色光阻层进行图形化处理，以在所述阵列基板上形成彩色光阻；
[0022]其中所述彩色光阻包括红色光阻、蓝色光阻以及绿色光阻。
[0023]在本发明所述的BOA阵列基板的制作方法中，所述用于遮光的所述彩色光阻为红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻的叠层结构；红色光阻和蓝色光阻的叠层结构；或红色光阻和绿色光阻的叠层结构。
[0024]本发明还提供一种BOA阵列基板，其包括:
[0025]阵列基板层，包括用于显示图像的显示区域以及用于间隔不同像素的非显示区域；以及
[0026]黑色矩阵，设置在所述阵列基板层的所述显示区域，用于吸收所述阵列基板层的所述非显示区域的出射光；
[0027]其中在所述阵列基板层的所述非显示区域设置有用于阻挡非显示漏光的金属层。
[0028]在本发明所述的BOA阵列基板中，所述BOA阵列基板还包括:
[0029]彩色光阻层，设置在所述阵列基板层的所述显示区域，用于将所述BOA阵列基板的出射光转换为各种单色光，所述彩色光阻层包括红色光阻、蓝色光阻以及绿色光阻；以及
[0030]遮光色阻层，设置在所述阵列基板层的所述非显示区域的所述金属层上；
[0031]其中所述遮光色阻层为红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻的叠层结构；红色光阻和蓝色光阻的叠层结构；或红色光阻和绿色光阻的叠层结构。
[0032]本发明还提供一种BOA阵列基板，其包括:
[0033]阵列基板层，包括用于显示图像的显示区域以及用于间隔不同像素的非显示区域；
[0034]黑色矩阵，设置在所述阵列基板层的所述显示区域，用于吸收所述阵列基板层的所述非显示区域的出射光；
[0035]彩色光阻层，设置在所述阵列基板层的所述显示区域，用于将所述BOA阵列基板的出射光转换为各种单色光，所述彩色光阻层包括红色光阻、蓝色光阻以及绿色光阻；以及
[0036]遮光色阻层，设置在所述阵列基板层的所述非显示区域上；
[0037]其中所述遮光色阻层为红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻的叠层结构；红色光阻和蓝色光阻的叠层结构；或红色光阻和绿色光阻的叠层结构。
[0038]相较于现有的BOA阵列基板的制作方法及BOA阵列基板，本发明的BOA阵列基板的制作方法及BOA阵列基板通过仅在BOA阵列基板的显示区域设置黑色矩阵，从而不易造成阵列基板和彩色滤光片的对位偏差；解决了现有的BOA阵列基板的制作方法及BOA阵列基板容易产生阵列基板和黑色矩阵的对位偏差，进而影响液晶显示面板的画面显示品质的技术问题。
[0039]为让本发明的上述内容能更明显易懂，下文特举优选实施例，并配合所附图式，作详细说明如下:
【附图说明】
[0040]图1为本发明的BOA阵列基板的制作方法的第一优选实施例的流程图；
[0041]图2为本发明的BOA阵列基板的制作方法的第二优选实施例的流程图；
[0042]图3为本发明的BOA阵列基板的制作方法的第三优选实施例的流程图；
[0043]图4A为本发明的BOA阵列基板的第一优选实施例的结构示意图；
[0044]图4B为沿图4A的A_A’截面线的截面图；
[0045]图5A为本发明的BOA阵列基板的第二优选实施例的结构示意图；
[0046]图5B为沿图5A的B-B ’截面线的截面图；
[0047]图6A为本发明的BOA阵列基板的第三优选实施例的结构示意图；
[0048]图6B为沿图6A的C-C’截面线的截面图。
【具体实施方式】
[0049]以下各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。
[0050]在图中，结构相似的单元是以相同标号表示。
[0051]请参照图1，图1为本发明的BOA阵列基板的制作方法的第一优选实施例的流程图。本优选实施例的BOA阵列基板的制作方法包括:
[0052]步骤S101，制作阵列基板，其中阵列基板包括显示区域以及非显示区域，在阵列基板的非显示区域设置金属层，以阻挡非显示区域的漏光；
[0053]步骤S102，在阵列基板的显示区域涂布黑色矩阵，并对黑色矩阵进行图形化处理；
[0054]步骤S 103，在阵列基板上设置彩色光阻；
[0055]下面详细说明本优选实施例的BOA阵列基板的制作方法的各步骤的具体流程。
[0056]在步骤SlOl中，制作阵列基板，该阵列基板可包括数据线、扫描线、薄膜晶体管以及像素电极等。该阵列基板包括用于显示图像的显示区域以及用于间隔或区分不同像素的非显示区域。使用金属层制作阵列基板的数据线或扫描线时，在阵列基板的非显示区域也设置该金属层，如数据线的第一金属层或扫描线的第二金属层，这样可阻挡光线从非显示区域漏出，避免漏光现象的产生；随后转到步骤S102。
[0057]在步骤S102中，使用狭缝式涂布(Slit Coating)机台在阵列基板