偏振片的制造方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及偏振片的制造方法。
【背景技术】
[0002] 在图像显示装置（特别是液晶显示装置）中使用了偏振片。
[0003] 这样的偏振片使用于在起偏器的单面或两面上利用粘接剂粘贴了透明保护薄膜 (例如，酰化纤维素薄膜等）的偏振片。
[0004] 近年来，液晶显示装置、特别是中小型用途的液晶显示装置的薄型化急剧发展，例 如，要求将包括硬涂层在内的偏振片整体的厚度薄型化至100 μ m以下左右，所使用的构件 (薄膜、起偏器）的薄膜化成为当务之急。
[0005] 例如，在专利文献1中，从薄型化的观点等出发，记载了"一种偏振片，其特征在 于，其是含有拉伸层叠体的偏振片，所述拉伸层叠体为对将基材层与亲水性高分子层层叠 而成的层叠体进行拉伸处理得到的，且所述拉伸层叠体在亲水性高分子层中至少吸附了二 色性物质，在上述基材层与上述亲水性高分子层层叠而成的上述层叠体中，上述基材层与 上述亲水性高分子层直接层叠，上述拉伸层叠体中的亲水性高分子层的厚度为2~10 μ m， 上述拉伸层叠体中的基材层的厚度为5~100 μ m，且透湿度为120g/m2/24小时以下的范 围，上述拉伸层叠体中的亲水性高分子层作为起偏器发挥功能，上述拉伸层叠体中的基材 层作为起偏器的透明保护薄膜使用。"（[权利要求1] [0020])。
[0006] 现有技术文献
[0007] 专利文献
[0008] 专利文献1 :日本特开2011-100161号公报
【发明内容】
[0009] 发明所要解决的问题
[0010] 本发明者们对专利文献1中记载的偏振片进行了研究，结果弄清楚，在使亲水性 高分子层（例如聚乙烯醇薄膜等）吸附二色性物质（例如碘等）时，基材层也与亲水性高 分子层同时被染色（着色），其结果是，存在偏振片的透射率降低的问题。
[0011] 因此，本发明的课题是，提供即使在将起偏器薄膜化的情况下，也能够抑制起因于 染色处理的基材层的染色、抑制透射率的降低的偏振片的制造方法。
[0012] 用于解决问题的手段
[0013] 本发明者们为了达成上述课题而进行了深入研究，结果发现，作为实施染色处理 的层叠体，通过使用将低透湿层、基材层和亲水性高分子层依次层叠而成的层叠体，从而即 使在将起偏器薄膜化的情况下，也能够抑制基材层的染色，抑制所制作的偏振片的透射率 的降低，从而完成本发明。
[0014] 即，发现通过以下的构成能够达成上述目的。
[0015] [1] 一种偏振片的制造方法，其是制作具有起偏器的偏振片的偏振片的制造方法， 其具有以下起偏器形成工序：
[0016] 通过对将低透湿层、基材层及亲水性高分子层依次层叠而成的层叠体实施染色处 理而使所述亲水性高分子层吸附二色性物质，从而使所述亲水性高分子层作为所述起偏器 发挥功能。
[0017] [2]根据[1]所述的偏振片的制造方法，其中，所述起偏器形成工序为在所述染色 处理之前、与所述染色处理同时、或在所述染色处理之后进一步实施拉伸处理的工序。
[0018] [3]根据[1]所述的偏振片的制造方法，其中，所述起偏器形成工序为在对所述层 叠体实施拉伸处理后实施所述染色处理的工序。
[0019] [4]根据[1]~[3]中任一项所述的偏振片的制造方法，其中，所述低透湿层的透 湿度为l〇〇g/m 2/24小时以下。
[0020] [5]根据[1]~[3]中任一项所述的偏振片的制造方法，其中，所述起偏器的厚度 为 0· 5 ~30 μ m。
[0021] [6]根据[4]所述的偏振片的制造方法，其中，所述起偏器的厚度为0.5~30μπι。
[0022] 发明的效果
[0023] 根据本发明，能够提供即使在将起偏器薄膜化的情况下，也能够抑制起因于染色 处理的基材层的染色、抑制透射率的降低的偏振片的制造方法。
[0024] 另外，根据本发明，由于可以将实施染色处理的层叠体中的基材层作为偏振片的 功能层（透明保护薄膜）来利用，所以本发明的制造方法在具有未被薄膜化的起偏器的偏 振片的制作中也可以有效地利用。
【附图说明】
[0025] 图1是表示本发明的偏振片的制造方法的一个例子的示意性剖视图。
[0026] 图2是表示本发明的偏振片的制造方法的另一个例子的示意性剖视图。
【具体实施方式】
[0027] 以下，对本发明进行详细说明。
[0028] 以下记载的构成要件的说明有时基于本发明的代表性实施方式来进行，但本发明 并不限定于那样的实施方式。
[0029] 另外，在本说明书中，使用"~"表示的数值范围是指包含"~"的前后记载的数值 作为下限值及上限值的范围。
[0030] 本发明的偏振片的制造方法（以下，也简记为"本发明的制造方法"。）为以下偏 振片的制造方法，其是制作具有起偏器的偏振片的偏振片的制造方法，其具有以下起偏器 形成工序：通过对将低透湿层、基材层及亲水性高分子层依次层叠而成的层叠体实施染色 处理，使亲水性高分子层吸附二色性物质，从而使亲水性高分子层作为起偏器发挥功能。
[0031] 具有这样的起偏器形成工序的本发明的制造方法即使在将起偏器薄膜化的情况 下，也能够抑制起因于染色处理的基材层的染色，抑制透射率的降低。
[0032] 这里，在染色处理中使用的染色液中，通常含有水溶性的二色性物质（例如，碘或 有机染料等），该二色性物质在水溶剂中与水分子成为一体，能够与水分子同样地进入薄膜 内。
[0033] 因此，通过设置低透湿层来降低水分子的透过性，从而也能够降低与水分子成为 一体的成为染色的原因的二色性物质的透过性。
[0034] 因而认为，在本发明中，通过具有将低透湿层、基材层和亲水性高分子层依次层叠 而成的层叠体、特别是低透湿层，不仅能够抑制偏振片的制作环境中的水分等的影响，而且 能够抑制成为染色的原因的碘络合物的透过，抑制在染色处理（在染色浴中的浸渍）时基 材层被染色。
[0035] 图1是表示本发明的偏振片的制造方法的一个例子的示意性剖视图。
[0036] 图1㈧中所示的层叠体10为实施染色处理前的层叠体，为依次具有低透湿层12、 基材层14及亲水性高分子层16的层叠体。
[0037] 另一方面，图I (B)中所示的偏振片20为对图I (A)中所示的层叠体10实施染色处 理而使亲水性高分子层中吸附二色性物质后的形态，为依次具有低透湿