构成，一体地载置在下台架部18b上。XY粗动台24是组合例如能够沿X轴方向以规定的长度行程移动的X粗动台和能够沿Y轴方向以规定的长度行程移动的Y粗动台而成的所谓龙门式的2轴台装置(X、Y粗动台省略图示)。
[0034]微动台26由俯视时呈矩形的板状(或箱形)的部件构成，包含吸附保持基板P的下表面的基板夹具。微动台26经由例如美国专利申请公开第2010/0018950号说明书中公开那样的重量取消装置(在图1中未图示)而载置在基座22上。微动台26被引导(诱导)到上述XY粗动台24，在X轴方向和/或Y轴方向上以规定的长度行程相对于投影光学系统16 (照明光IL)移动。
[0035]使用固定在微动台26上的Y条形镜27y并利用固定在装置主体18上的Y激光干涉仪28y，求出微动台26的Y轴方向的位置信息，基于该Y激光干涉仪28y的输出，进行基板P的Y位置控制。此外，如图2所示，使用固定在微动台26上的X条形镜27x并利用固定在作为装置主体18的一部分的干涉仪色谱柱18d上的X激光干涉仪28x，求出微动台26的X轴方向的位置信息，基于该X激光干涉仪28x的输出，进行基板P的X位置控制。能够分别设置多个Y激光干涉仪28y和X激光干涉仪28x，求出基板P的θ z方向的旋转量信息。此外，只要能够使基板P以与保持在上述掩模台装置14的掩模M同步的方式至少在X轴(扫描)方向上以规定的长度行程驱动，则对基板台装置20的结构没有特别限定。
[0036]如图2所示，掩模装载装置90在地板11上被设置在装置主体18的-X侧。掩模装载装置90具有:保管多个掩模M的掩模收容器92 ;以及从掩模收容器92向掩模台装置14输送掩模M的掩模输送装置94。掩模收容器92在上下方向上规定间隔保持多个掩模M。此外，虽然在图2中没有图示，但在掩模收容器92中保管的多个掩模M上分别预先安装有表膜Pe (参照图3)。掩模输送装置94具有:输送工作台94a ;用于使该输送工作台94a上下移动的升降装置94b ;以及在输送工作台94a与掩模收容器92之间进行掩模M的交接的一对滑动部件94c (在图2中，仅图示了一个)。
[0037]输送工作台94a由被设定为比掩模M外形略大的俯视时呈矩形的板状部件构成。升降装置94b具有例如气缸等一轴致动器，使支承在输送工作台94a上的掩模M上下移动。如图7(A)所示，一对滑动部件94c在Y轴方向上分离地配置，其中一个经由例如美国专利第6，761，482号说明书中公开那样的机械式X线性导轨装置94d而搭载在输送工作台94a的+Y侧的端部附近上，另一个搭载在输送工作台94a的-Y侧的端部附近上。一对滑动部件94c分别由YZ截面呈L字状且在X轴方向上延伸的部件构成，且被配置为彼此在纸面上左右对称。设定Y轴方向的间隔，使得一对滑动部件94c与表膜Pe不接触，能够从下方支承掩模M的+Y侧和-Y侧分别的端部附近(余白区域)。一对滑动部件94c分别借助未图示的X致动器，在X轴方向上以规定的行程相对于输送工作台94a同步驱动。
[0038]如图2所示，在送入掩模M时，在掩模输送装置94中，将输送工作台94a的Z位置定位为，在期望(输送对象)的掩模M的下方能够插入一对滑动部件94c，在该状态下，将一对滑动部件94c插入到期望的掩模M的下方，使该掩模M从掩模收容器92交接到滑动部件94cο在使掩模M从掩模输送装置94返回到掩模收容器92时，进行与上述相反的动作。关于掩模装载装置90与掩模台装置14之间的掩模M的交接动作，将在后面记述。此外，保管多个掩模M的装置的结构和输送掩模M的装置的结构不限于此，而可适当变更，例如，掩模输送装置也可以是多关节机械臂等。此外，掩模装载装置90也可以是设置在液晶曝光装置10的外部。
[0039]接下来，对掩模台装置14的结构进行说明。如图3所示，掩模台装置14具有掩模导流构件40、一对衬板50和一对掩模保持装置60。
[0040]掩模导流构件40以吊挂方式支承在掩模导流构件支承框架18e上。掩模导流构件支承框架18e经由多个脚部18f支承在上台架部18a上。因此，掩模导流构件40与照明系统12(在图3中未图示。参照图1)在振动方面分离。
[0041]掩模导流构件40具有:在X轴方向上延伸的、由厚度较薄的箱形的部件构成的主体部42 ;以及在X轴方向上延伸的板状地形成的多孔质部件44。多孔质部件44嵌入到在主体部42的下表面上形成的凹部中。掩模M被配置为其上表面(与图案面相反一侧的面)与多孔质部件44的下表面相对。多孔质部件44的长边方向的尺寸被设定为比掩模M的长边方向(X轴方向)的尺寸长，在曝光动作时，掩模M的上表面始终与多孔质部件44的下表面相对。
[0042]在多孔质部件44的下表面的大致整个面上，形成有多个微小孔部。掩模导流构件40与设置在掩模台装置14的外部的未图示的加压气体供给装置和真空装置连接。掩模导流构件40经由上述多孔质部件44具有的多个孔部的一部分，吸引多孔质部件44的下表面与掩模M的上表面之间的气体，向掩模M作用上浮力(+Z方向的力)，并且，经由上述多个孔部的其它部向掩模M的上表面喷出加压气体，由此，在多孔质部件44的下表面与掩模M的上表面之间形成微小的间隙(例如5 μπι?10 μπι)。即，掩模导流构件40作为所谓真空预加载空气轴承而发挥作用。此外，掩模导流构件40可以始终在整个面上喷出和吸引气体，也可以仅向掩模M的与上表面相对的区域局部地喷出和吸引气体。
[0043]此外，如图2所示，在掩模导流构件40中的照明系统12的正下方的位置形成有开口部46，该开口部46分别朝掩模导流构件40的上表面部和下表面部开口。如图5所不，开口部46形成为以Y轴方向为长边方向的俯视时呈矩形，从照明系统12射出的照明光IL (均未在图5中图示。参照图1)通过开口部46，照射于掩模Μ。此外，开口部46的形状没有特别限定，例如可根据掩模M上的照明区域的形状而适当变更(例如也可以是圆形)。
[0044]此处，如图2所示，在掩模导流构件40中，开口部46形成为比关于X轴方向的中央部稍靠+X侧。而且，在掩模导流构件40中，在曝光动作时，比开口部46靠+X侧的区域和比开口部46靠-X侧的一部分的区域引导掩模Μ(以下将这些区域称作曝光区域)，在比上述曝光区域靠-X侧的区域(图2中，相比干涉仪色谱柱18d而朝-X侧突出的区域)专门在掩模M的更换动作时使用(以下称作掩模更换区域)。上述掩模装载装置90的升降装置94b配置在掩模更换区域的正下方。
[0045]—对衬板50由与XY平面平行地配置且在X轴方向上延伸的板状的部件构成，如图4所示，其中一个在俯视时配置在掩模导流构件40的+Y侧，另一个在俯视时配置在掩模导流构件40的-Y侧。如图1所示，一对衬板50分别支承在掩模台支承框架36上，该掩模台支承框架36固定在照明系统框架30具有的多个脚部32上(参照图2)，一对衬板50相对于装置主体18和基板台装置20在振动方面相互分离。此外，在本实施方式中，一对衬板50支承在照明系统框架30上，但也可以是，在相对于装置主体18和基板台装置20在振动方面相互分离的状态下，搭载在设置在地板11上的另外的台架上。
[0046]如图4所示，在衬板50的上表面，在Y轴方向上以规定间隔固定有多条(在本实施方式中，例如2条)的X线性导轨52a。此外，在衬板50的上表面，例如在2条X线性导轨52a之间的区域固定有X磁铁单元54a，该X磁铁单元54a包含沿X轴方向排列的多个永久磁铁。
[0047]一对掩模保持装置60中的一个载置在+Y侧的衬板50上，另一个载置在-Y侧的衬板50上。一对掩模保持装置60中的一个相对于另一个，除了配置为绕Z轴旋转180°这点以外，是相同的结构，因此，以下除了没有特别说明的情况，对+Y侧的掩模保持装置60进行说明。如图3所示，掩模保持装置60具有X工作台62、X音圈电机64X、Y音圈电机64Υ(在图3中，掩藏在X音圈电机64Χ的纸面进深侧。参照-Y侧的掩模保持装置60)、吸附保持部66和气缸68a。
[0048]X工作台62由与XY平面平行地配置的俯视时呈矩形的板状的部件构成。在X工作台62的下表面，相对于I条X线性导轨52a固定有例如两个(在图3中纸面进深方向重合)的X滑动部件52b。X滑动部件5