彩色滤光基板及其制造方法、液晶显示装置的制造方法

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彩色滤光基板及其制造方法、液晶显示装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及平板显示领域,尤其涉及一种彩色滤光基板及其制造方法、液晶显示
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【背景技术】
[0002]液晶显示装置以体积小,重量轻,低辐射等优点广泛应用于各种领域。
[0003]液晶显示面板是液晶显示装置中最主要的组成部分。所述液晶显示面板包括阵列基板(即TFT基板)、与所述阵列基板相对的彩色滤光基板(CF基板)以及填充于阵列基板和彩色滤光基板之间的液晶。其中,所述阵列基板和彩色滤光基板上的电极通过控制液晶分子的偏转,以调节外界光的通过率,进而达到显示的目的。
[0004]参考图1,示出了现有技术一种彩色滤光基板的侧面示意图,所述彩色滤光基板包括:第一玻璃基板10、位于所述第一玻璃基板10上的黑色矩阵(Black Matrix, BM)层11、位于黑色矩阵之间的彩色光阻层(RGB层)12、覆盖在所述黑色矩阵和彩色光阻层12上的透明导电层(ΙΤ0层)13、设置于所述透明导电层13上的间隔柱(Photo Spacer,PS)140其中,彩色光阻层12包括:蓝色(B)光阻121、红色(R)光阻122和绿色(G) 123,用于分别透过白光中的蓝光、红光和绿光,所述透明导电层13用作公共电极。
[0005]参考图2,示出了现有技术一种液晶显示面板的侧面示意图,所述液晶显示面板的TFT基板包括:第二玻璃基板17、位于所述第二玻璃基板17上的电极层16,所述电极层16包括多条栅极线和多条数据线以及位于栅极线和数据线交界处的薄膜晶体管(Thin FilmTransistor, TFT),所述栅极线和数据线围成一个子像素(Sub Pixel),所述薄膜晶体管的漏极连接有像素电极。
[0006]CF基板上的B光阻121、R光阻122和G光阻123与TFT基板上的子像素——对应,三个子像素构成一个像素18。TFT基板上像素电极和CF基板上公共电极之间形成的电场可以控制液晶分子15的翻转的角度,进而改变从B光阻121、R光阻122和G光阻123出射的不同色彩的光量,再基于加法混色原理使像素18可以得到丰富的色彩表现。
[0007]所述间隔柱14设置于CF基板上,且与TFT基板相接触,用于使CF基板和TFT基板保持一定距离,以使液晶盒留有液晶注入的空间,以便于保持像素电极和公共电极之间电场的均匀性,避免影响液晶的灰阶显示。
[0008]现有技术中还发展了一种PS技术,PS包括主间隔柱(主PS)和副间隔柱(副PS),所述主PS高于所述副PS。液晶显示面板在使用时,如受到外力按压而形变,主PS处于压缩状态,但是由于副PS的存在,副PS会支撑液晶盒,避免液晶盒受到不可恢复形变的损伤。
[0009]现有技术常可以通过半掩膜法(HTM)或灰阶掩膜法(GTM)形成所述不同高度的主PS和副PS。
[0010]参考图3,示出了现有技术一种半掩膜方法形成彩色滤光基板的示意图。所述方法包括:在第一玻璃基板10上形成间隔柱材料层20 ;通过半色调曝光用掩膜板(MASK)对所述间隔柱材料层20进行图形化,所述半色调曝光用掩膜板设置透光区域192、不透光区域191以及半透光区域193 ;其中不透光区域191对应的间隔柱材料层20会被完全去除,透光区域192对应的间隔柱材料层20被保留而成为主PS141,而半透光区域193对应的间隔柱材料层20被部分去除而成为副PS142。
[0011]但是现有技术的半掩膜法所用的MASK的价格较高,制造成本较高。而灰阶掩膜法所形成的PS高度差离散性较大,制造形成彩色滤光基板的质量较难满足需求。

【发明内容】

[0012]本发明解决的问题是提供一种彩色滤光基板及其制造方法、液晶显示装置,以提高彩色滤光基板的质量、简化制造方法。
[0013]为解决上述问题,本发明提供一种彩色滤光基板,包括:第一玻璃基板;位于所述第一玻璃基板上的多个彩色光阻和位于彩色光阻之间的黑色矩阵;位于所述黑色矩阵上的多个主间隔柱结构和多个副间隔柱结构,所述主间隔柱结构高于所述副间隔柱结构;其中,所述主间隔柱结构包括:位于所述黑色矩阵上的第一底座,所述第一底座包括一层或多层彩色光阻垫块;位于所述第一底座上的间隔柱;所述副间隔柱结构包括:位于所述黑色矩阵上的间隔柱;或者,所述副间隔柱结构还包括:位于所述黑色矩阵和所述间隔柱之间的第二底座,所述第二底座包括彩色光阻垫块,且所述第二底座中彩色光阻垫块的层数少于所述第一底座中彩色光阻垫块的层数。
[0014]可选的,所述彩色光阻至少包括:蓝色光阻、红色光阻和绿色光阻,所述多个彩色光阻呈矩阵式、条状、岛状、马赛克或三角的排布方式。
[0015]可选的,所述多个彩色光阻呈矩阵式排布,所述主间隔柱结构和所述副间隔柱结构设置于彩色光阻行间的黑色矩阵上。
[0016]可选的,所述主间隔柱结构中的第一底座为单层结构,由蓝色光阻垫块、红色光阻垫块或绿色光阻垫块的任意一种组成;所述副间隔柱结构仅包括位于所述黑色矩阵上的间隔柱。
[0017]可选的,所述主间隔柱结构中的第一底座由蓝色光阻垫块组成,所述主间隔柱结构设置于列方向排布的蓝色光阻之间,所述副间隔柱结构设置于列方向排布的红色光阻之间和列方向排布的绿色光阻之间。
[0018]可选的,所述主间隔柱结构中的第一底座为双层结构,由蓝色光阻垫块、红色光阻垫块或绿色光阻垫块中任意两种组成;所述副间隔柱结构包括位于所述黑色矩阵上的间隔柱,或者,所述副间隔柱结构还包括:位于黑色矩阵和所述间隔柱之间的单层结构的第二底座,所述第二底座由蓝色光阻垫块、红色光阻垫块或绿色光阻垫块的任意一种组成。
[0019]可选的,所述第一底座包括:位于黑色矩阵上的蓝色光阻垫块、位于所述蓝色光阻垫块上的红色光阻垫块或绿色光阻垫块;所述主间隔柱结构设置于列方向排布的蓝色光阻之间;第二底座为红色光阻垫块或绿色光阻垫块,具有红色垫块第二底座的副间隔柱结构设置于列方向排布的红色光阻之间,具有绿色垫块第二底座的副间隔柱结构设置于列方向排布的绿色光阻之间。
[0020]可选的,所述主间隔柱结构中的第一底座为三层结构,包括蓝色光阻垫块、红色光阻垫块和绿色光阻垫块;所述副间隔柱结构包括位于所述黑色矩阵上的间隔柱;或者,所述副间隔柱结构还包括:位于黑色矩阵和所述间隔柱之间的单层结构的第二底座,所述第二底座由蓝色光阻垫块、红色光阻垫块或绿色光阻垫块的任意一种组成。
[0021]可选的,所述第一底座包括:依次位于黑色矩阵上的蓝色光阻垫块、红色光阻垫块、绿色光阻垫块;所述主间隔柱结构设置于列方向排布的蓝色光阻之间;第二底座为红色光阻垫块或绿色光阻垫块,具有红色垫块第二底座的副间隔柱结构设置于列方向排布的红色光阻之间,具有绿色垫块第二底座的副间隔柱结构设置于列方向排布的绿色光阻之间。
[0022]可选的,所述多个彩色光阻和黑色矩阵上还覆盖有透明导电层或OC层,所述第一底座与间隔柱之间还设置有所述透明导电层或OC层。
[0023]可选的,所述多个彩色光阻和黑色矩阵上还覆盖有透明导电层或OC层,所述副间隔柱结构包括第二底座,所述第一底座与间隔柱之间、所述第二底座与间隔柱之间均设置有透明导电层或OC层。
[0024]相应的,本发明还提供一种彩色滤光基板的制造方法,包括:提供第一玻璃基板;在所述第一玻璃基板上形成黑色矩阵;在黑色矩阵之间形成多个彩色光阻;在形成彩色光阻的过程中,在黑色矩阵上主间隔柱结构对应位置处形成包括一层或多层彩色光阻垫块的第一底座;在第一底座上和副间隔柱结构对应位置处的黑色矩阵上形成间隔柱;或者,在形成彩色光阻的过程中,在黑色矩阵上主间隔柱结构对应位置处形成包括一层或多层彩色光阻垫块的第一底座,在黑色矩阵上副间隔柱结构对应位置处形成层数少于所述第一底座的第二底座;在第一底座和第二底座上均形成间隔柱。
[0025]可选的,形成多个彩色光阻的步骤包括:至少形成蓝色光阻、红色光阻和绿色光阻,并使多个彩色光阻呈矩阵式、条状、岛状、马赛克或三角的排布方式。
[0026]可选的,形成多个彩色光阻的步骤至少包括:形成行方向间隔排布的多列蓝色光阻、多列红色光阻和多列绿色光阻,以形成矩阵式排布的多个彩色光阻;形成第一底座的步骤包括:采用第一光罩形成多列蓝色光阻时,在列方向排布的蓝色光阻之间形成蓝色光阻垫块;在第一底座上形成间隔柱的步骤包括:在蓝色光阻垫块上形成间隔柱;或者,形成第一底座的步骤包括:采用第二光罩形成多列红色光阻时,在列方向排布的红色光阻之间形成红色光阻垫块;在第一底座上形成间隔柱的步骤包括:在红色光阻垫块上形成间隔柱;或者,形成第一底座的步骤包括:采用第三光罩形成多列绿色光阻时,在列方向排布的绿色光阻之间形成绿色光阻垫块;在第一底座上形成间隔柱的步骤包括:在绿色光阻垫块上形成间隔柱。
[0027]可选的,形成第一底座的步骤包括:米用第一
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