一种液晶面板和阵列基板的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及液晶显示技术领域，特别是涉及液晶面板和阵列基板。
【背景技术】
[0002]液晶显示装置是一种主要的平面显示装置，液晶面板主要由阵列基板和彩色滤光片基板组成。目前制造液晶面板时，分别制造阵列基板和彩色滤光片基板之后，将两个基板进行对合。
[0003]现有的液晶面板的阵列基板上经常出现数据线两侧漏光的现象，目前解决这个问题的方法通常是在彩色滤光片基板上设置黑矩阵作为遮光结构，防止数据线两侧出现的漏光；但是在传统的液晶面板制作工艺中，需要阵列基板和彩色滤光片基板的对位，由于阵列基板和彩色滤光片基板存在对位的误差，并且阵列基板和彩色滤光片基板距离较远，所以黑矩阵的宽度往往比数据线的宽度更大，这样在上下基板发生错位的时候仍然能够起到遮光作用，并防止漏光。但是，黑矩阵的宽度过大将对液晶面板的开口率和穿透率造成不利的影响。
【发明内容】
[0004]本发明主要解决的技术问题是提供一种液晶面板和阵列基板，能够防止数据线两侧漏光，同时提高遮光层与数据线相对位置的精度，从而进一步为减小遮光层的宽度提供可能，为提高开口率和穿透率提供可能。
[0005]为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是:提供一种液晶面板，包括:
[0006]阵列基板，包括:
[0007]多条扫描线，设置在所述阵列基板上；
[0008]多条数据线，设置在所述阵列基板上；
[0009]多个像素单元，形成在所述多条扫描线和所述多条数据线相互交叉所形成的多个像素区域内，且每个所述像素单元分别包括顶栅型薄膜晶体管和像素电极；
[0010]遮光层，位于所述多条数据线正下方，用于防止每条所述数据线两侧漏光；
[0011]彩色滤光片基板，与所述阵列基板相对设置；
[0012]液晶层，设置在所述阵列基板和彩色滤光片基板之间。
[0013]其中，在遮挡每条所述数据线的位置处，所述遮光层的宽度大于所述数据线的宽度。
[0014]其中，所述遮光层的宽度不大于所述数据线宽度的110%。
[0015]其中，每个所述顶栅型薄膜晶体管分别包括:
[0016]所述遮光层，设置在所述阵列基板的透明基板上；
[0017]第一绝缘层，覆盖在所述遮光层之上；
[0018]源极和漏极，其分别覆盖在所述第一绝缘层之上，且所述源极与所述漏极相邻间隔设置；
[0019]半导体层，覆盖在所述源极和所述漏极之上；
[0020]第二绝缘层，覆盖在所述半导体层之上；
[0021]栅极，设置在所述第二绝缘层之上，并位于所述源极和所述漏极之间；
[0022]其中，所述半导体层在所述源极和所述漏极之间形成沟道区，所述遮光层进一步延伸至所述沟道区的下方，以对所述遮光区进行遮光。
[0023]其中，每个所述顶栅型薄膜晶体管中的所述栅极电性连接一条对应的扫描线，所述源极电性连接一条对应的数据线，而所述漏极与所述像素电极电性连接。
[0024]其中，所述彩色滤光片基板包括:
[0025]透明基板，包括多个与所述阵列基板上的所述像素区域对应的像素区域；
[0026]彩色滤光片层，其由RGB三原色的彩色层而组成，且所述RGB三原色的彩色层按照RGB顺序而设置在对应的所述像素区域中。
[0027]其中，所述彩色滤光片基板进一步包括:
[0028]黑矩阵，设置在所述透明基板上，且其包括多条黑矩阵薄膜，所述多条黑矩阵薄膜相互交叉设置，以将所述彩色滤光片基板划分为所述多个像素区域；
[0029]其中，所述多条黑矩阵薄膜位于所述多条数据线正上方，且每条所述黑矩阵薄膜的宽度不大于每条所述数据线的宽度。
[0030]为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是:提供一种阵列基板，包括:
[0031]多条扫描线，设置在所述阵列基板上；
[0032]多条数据线，设置在所述阵列基板上；
[0033]多个像素单元，形成在所述多条扫描线和所述多条数据线相互交叉所形成的多个像素区域内，且每个所述像素单元分别包括顶栅型薄膜晶体管和像素电极；
[0034]遮光层，位于所述多条数据线正下方，用于防止每条所述数据线两侧漏光。
[0035]其中，在遮挡每条所述数据线的位置处，所述遮光层的宽度大于所述数据线的宽度。
[0036]其中，每个所述顶栅型薄膜晶体管分别包括:
[0037]所述遮光层，设置在所述阵列基板的透明基板上；
[0038]第一绝缘层，覆盖在所述遮光层之上；
[0039]源极和漏极，其分别覆盖在所述第一绝缘层之上，且所述源极与所述漏极相邻间隔设置；
[0040]半导体层，覆盖在所述源极和所述漏极之上；
[0041]第二绝缘层，覆盖在所述半导体层之上；
[0042]栅极，设置在所述第二绝缘层之上，并位于所述源极和所述漏极之间；
[0043]其中，所述半导体层在所述源极和所述漏极之间形成沟道区，所述遮光层进一步延伸至所述沟道区的下方，以对所述遮光区进行遮光。
[0044]本发明的有益效果是:区别于现有技术的情况，本发明在液晶面板的阵列基板上设置遮光层，使其处于多条数据线正下方，从而对多条数据线进行遮光，防止数据线两侧出现漏光现象；由于遮光层和数据线均位于阵列基板上，所以两者的位置是固定的，相对位置精度高，不会出现对位误差的情况，因此，可以为遮光层的宽度设置地更小提供可能，同时，由于遮光层和数据线均位于阵列基板上，两者距离较短，因此，可以为遮光层的宽度进一步减小提供可能，由于遮光层宽度较小，使得液晶面板的开口率和穿透率能够得到提高。
【附图说明】
[0045]图1是本发明一种液晶面板的阵列基板一实施方式的结构示意图；
[0046]图2是图1中A-A向的液晶面板的剖视图；
[0047]图3是图1中B-B向的阵列基板的剖视图；
[0048]图4是本发明一种阵列基板一实施方式的结构示意图；
[0049]图5是图4中A-A向的剖视图；
[0050]图6是图4中B-B向的剖视图。
【具体实施方式】
[0051]下面结合附图和实施方式对本发明进行详细说明。
[0052]如图1和图2，本发明实施方式提供一种液晶面板，包括阵列基板5、彩色滤光片基板6和液晶层7，阵列基板5和彩色滤光片基板6相对设置，液晶层7封装在阵列基板5和彩色滤光片基板6之间。
[0053]其中，阵列基板5包括多条扫描线1、多条数据线2、多个像素单元3和遮光层4，多条扫描线I相互平行设置，多条数据线2相互平行设置，多条扫描线I与多条数据线2相互交叉设置，将阵列基板5分成多个像素区域，多个像素单元3分别形成在多条扫描线I和多条数据线2围成的多个像素区域内，每个像素单元3包括顶栅型薄膜晶体管31和像素电极32，顶栅型薄膜晶体管31的栅极设置在源极和漏极的上方，顶栅型薄膜晶体管31连接扫描线1、数据线2和像素电极32，通过扫描线I的扫描信号控制顶栅型薄膜晶体管31将数据线2的资料信号传送至像素电极32，使像素电极32产生电场而使液晶发生偏转。
[0054]遮光层4设置于多条数据线2正下方，即每条数据线2的正下方均设置有遮光层4，遮光层4用于防止每条数据线2两侧漏光，由于背光是从遮光层4向数据线2方向照射，在数据线2下方设置遮光层4，能将射向数据线2的光线遮挡，从而防止数据线2两侧出现漏光现象，一般地，遮光层4能覆盖住数据线2即可，遮光层4的面积不宜过大，遮光层4的面积过大将影响开口率和穿透率。遮光层4可以是金属遮光层，金属遮光层可以是钥薄膜，或铝薄膜，或铬薄膜，或铜薄膜，或钥、铝、铬以及铜中至少两种构成的合金薄膜。
[0055]本发明实施方式在阵列基板5上设置遮光层4，使其处于多条数据线2正下方，从而对多条数据线2进行遮光，防止数据线2两侧出现漏光现象；由于遮光层4和数据线2均位于阵列基板5上，所以两者的位置是固定的，相对位置精度高，不会出现对位误差的情况，因此，可以为遮光层4的宽度设置地更小提供可能，同时，由于遮光层4和数据线2均位于阵列基板5上，两者距离较短，因此，可以为遮光层4的宽度进一步减小提供可能，由于遮光层4宽度较小，使得液晶面板的开口率和穿透率能够得到提高。
[0056]其中，在遮挡每条数据线2的位置处，遮光层4的宽度大于数据线2的宽度。
[0057]在本发明实施方式中，可将遮光层4分布的图案设置为与数据线2分布的图案相同，即沿着数据线2的走向在数据线2下方设置遮光层4，使遮光层4正好能遮住数据线2，而不对其它区域产生影响，由于遮光层4离数据线2有一定距离，所以需要设置在遮挡每条数据线2的位置处，遮光层4的宽度大于数据线2的宽度，在相同位置处是指在遮光层4与数据线2对应的位置处，遮光层4的宽度稍大于数据线2的宽度即可，具体地，可设置遮光层4向数据项两侧方向分别延伸出一定宽度；本发明实施方式的遮光层4的宽度要比现有技术中设置在彩色滤光片基板上用于遮光的黑矩阵宽度小。
[0058]其中，遮光层4的宽度不大于数据线2宽度的110%，具体地，可设置遮光层4在与数据线2相同宽度的情况下向数据线2两侧分别延伸出占数据线2宽度不大于5%的宽度；在本发明其它实施方式中，也可设置遮光层4的宽度不大于数据线2宽度的105%或遮光层4的宽度不大于数据线2宽度的115%。
[0059]如图3，其中，每个顶栅型薄膜晶体管31分别包括遮光层4、第一绝缘层314、源极312、漏极313、半导体层316、第二绝缘层315和栅极311，其中，遮光层4设置在阵列基