光学元件、光学系统以及摄像装置的制造方法_3

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剂)等。此外,在分散剂的分子中也可W存在与树脂相互作用的官能 团、聚合性官能团。此外,可W单独地使用它们,也可W组合使用2种W上。
[0071]透明树脂材料中所添加的铁黑的比率优选0.3质量%W上且15质量%^下,更优 选为0.5质量%~13质量%。需要说明的是,该相当于10ym中的0D值为0.2W上且4.0 W下。小于0. 3质量%时,为了显示出期望的透射率,需要100ymW上的膜厚,有时成型非 常困难。另一方面,大于15质量%时,每单位膜厚的透射率的减少增大,因此在中屯、部分需 要残膜几乎为零,难W制作。
[007引也可W添加除铁黑W外的其它的材料来使用。尤其炭黑的透射率自800nm向 380皿单调地减少,显示出与铁黑相反的特性,因此通过组合该两者,可W减小透射率的波 长依存性。
[0073] (透明树脂材料)
[0074] 作为透明树脂材料,可W使用聚对苯二甲酸己二醇醋(PET)、聚蒙二甲酸己二醇醋 (PEN)、聚对苯二甲酸了二醇醋(PBT)、聚碳酸醋(PC)、环締姪(OP)等热塑性树脂;聚酷亚 胺(PI)、聚離酷亚胺(PEI)、聚酷胺(PA)、聚酷胺酷亚胺(PAI)等热固性树脂;丙締酸类树 月旨、环氧树脂等能量射线固化性树脂。使用热固性树脂、能量射线固化性树脂时,在低聚物、 单体等聚合前体化合物下称为聚合性化合物)的阶段添加吸收材料,然后进行固化即 可。它们之中,优选使用能量射线固化性树脂。作为该样的聚合性化合物,只要为利用聚合 反应进行固化而成为固化物的成分,就可W没有特别限制地使用。例如,可W没有特别限制 地使用自由基聚合型的固化性树脂、阳离子聚合型的固化性树脂、自由基聚合型的固化性 化合物(单体)。在它们之中,从聚合速度、后述的成型性的观点出发,优选为自由基聚合型 的固化性化合物(单体)。作为自由基聚合型的固化性树脂,可W列举出具有(甲基)丙締 酷氧基、(甲基)丙締酷氨基、(甲基)丙締酷基、締丙基氧基、締丙基、己締基、己締基氧基 等具有碳-碳不饱和双键的基团的树脂等。
[0075] 在本实施方式中,对聚合性化合物没有特别限定,可W列举出:己氧化邻苯基苯酪 丙締酸醋、甲基丙締酸-2-(全氣己基)己醋、(甲基)丙締酸环己醋、(甲基)丙締酸异冰 片醋、S环癸烧(甲基)丙締酸醋、S环癸烧甲醇(甲基)丙締酸醋、S环癸烧己醇(甲基) 丙締酸醋、1-金刚烷基丙締酸醋、1-金刚烷基甲醇丙締酸醋、1-金刚烷基己醇丙締酸醋、 2-甲基-2-金刚烷基丙締酸醋、2-己基-2-金刚烷基丙締酸醋、2-丙基-2-金刚烷基丙締 酸醋等单官能化合物;9, 9-双[4-(2-丙締酷氧基己氧基)苯基]巧、二己二醇二(甲基) 丙締酸醋、1,3-了二醇二(甲基)丙締酸醋、1,4-了二醇二(甲基)丙締酸醋、新戊二醇二 (甲基)丙締酸醋、二(甲基)丙締酸异冰片醋、S环癸烧二(甲基)丙締酸醋、S环癸烧二 甲醇二(甲基)丙締酸醋、S环癸烧二己醇二(甲基)丙締酸醋、金刚烧二丙締酸醋、金刚 烧二甲醇二丙締酸醋等二官能化合物;S哲甲基丙烷S(甲基)丙締酸醋等S官能化合物; 季戊四醇四(甲基)丙締酸醋等四官能化合物;二季戊四醇六(甲基)丙締酸醋等六官能 化合物等。此外,聚合性化合物可化含有1种或者2种W上。仅使用单官能化合物时,有时 成型后的脱模时发生内聚破坏,因此优选包含二官能W上的多官能化合物。聚合性化合物 组中的多官能化合物优选为1质量%W上且90质量% ^下,进而优选为10质量%W上且 80质量% ^下。多官能化合物的量不足1质量%时,能够改善内聚破坏的效果不充分,超过 90质量%时,有时聚合后的收缩大而成为问题。
[0076] 此外,除上述的具有碳-碳不饱和双键的官能团W外,也可W使用发生如环氧基 那样的开环反应的聚合性化合物。没有特别地进行例示,但该情况下,仅为单官能化合物 时,有时也会在成型后的脱模时引起内聚破坏,因此优选包含二官能W上的多官能化合物。 聚合性化合物组中的多官能化合物优选为1质量%W上且90质量% ^下,进而优选为10 质量%W上且80质量%W下。
[0077] (光透射部30)
[007引在本实施方式的光学元件中,光透射部30由上述的透明树脂材料形成。需要说明 的是,为了形成光透射部30而使用的后述的液体状的光透射性树脂材料30a中包含上述的 透明树脂材料。
[0079](透明树脂层110)
[0080] 在本实施方式中,透明树脂层110由通过照射紫外线而固化的不饱和聚醋系、氨 基甲酸醋-丙締酸醋系、环氧-丙締酸醋系、聚醋-丙締酸醋系的光固化型树脂形成。
[0081] 在本实施方式的光学元件中,透明树脂层110也可W为用于保护透明基板10的表 面不受损伤的硬涂层。此时,形成硬涂层的材料优选由比形成透明基板10的材料硬的材料 形成,此外,在铅笔硬度(JIS-K-5600JIS-K-5400)中优选为HW上。作为用于形成硬涂层 的材料,优选使无机微粒分散在丙締酸类UV固化树脂、丙締酸类树脂中而成的材料等。
[0082] 此外,透明树脂层110可W为防反射膜(AR涂膜)。具体而言,可W为由折射率低 的透明的树脂材料形成的膜,也可W为通过层叠折射率不同的树脂材料而形成的多层膜。
[0083] 此外,透明树脂层110也可W为抗静电膜(抗静电涂膜)。具体而言,可W为通过 涂布具有横酸盐基的长链烷基化合物、在主链具有被离子化了的氮原子的聚合物等离子导 电性的抗静电剂而形成的膜。此外,也可W为通过涂布包含氧化锡颗粒、渗杂有铜、铺的氧 化锡颗粒等导电性材料的抗静电剂而形成的膜。
[0084] 此外,透明树脂层110可W利用喷涂、浸溃、漉涂、模涂、旋转涂布、逆旋式涂布、凹 版涂布、线椿涂布等涂布法涂布、或者利用凹版印刷、丝网印刷、胶版印刷、喷墨印刷等印刷 法印刷之后,通过紫外线照射、或者加热而形成。
[0085](光学元件的制造方法)
[0086] 接着,基于图9~图11,对本实施方式的光学元件的制造方法进行说明。
[0087] 首先,如图9的(a)所示,在透明基板10的另一面形成透明树脂层110。作为透明 树脂层110的形成方法,通过在透明基板10的另一面涂布用于形成透明树脂层110的树脂 材料并固化等而形成。通过该样使树脂材料固化而产生固化收缩,透明基板10的形成有透 明树脂层110的另一面翅曲为凹状。在本实施方式中,作为透明树脂层110,形成2ym的硬 涂层,由此,光学元件的形成有透明树脂层110的面的表面翅曲为曲率半径R为9. 135cm的 凹状。由该曲率半径R算出的4为6mm的光学元件的表面的高低差S约为49ym。需要说 明的是,作为透明基板10,例如,使用厚度约50ym的PET薄膜等。
[008引接着,如图9的化)所示,准备用于形成光吸收部20的模具40。该模具40中,在 中央部分形成高度为25ym的凸部41。该凸部41为与所形成的光吸收部20的凹状的形状 相对应的形状。需要说明的是,该模具40可W整体由镶、不诱钢、铜、树脂等材料形成,在表 面实施锻NiP并将其加工成凹形状。
[0089] 接着,如图9的(C)所示,滴加用于形成光吸收部20的光吸收性树脂材料20a。该 光吸收性树脂材料20a为通过照射紫外线而固化的光固化性树脂、利用热而固化的热固性 树脂、热塑性树脂等,包含作为吸收光的材料的铁黑W及炭黑等黑色材料。在W下W使用光 固化性树脂的情况为例进行说明。
[0090] 接着,如图9的(d)所示,在所滴加的光吸收性树脂材料20a之上载置透明基板 10。此时,透明基板10W使与形成有透明树脂层110的另一面相反一侧的一个面为所滴加 的光吸收性树脂材料20a侧的方式载置。作为透明基板10,从薄型化的观点出发,例如,使 用阳T
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