液晶面板的制造方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及液晶显示器的制造领域，特别是涉及一种液晶面板的制造方法。
【背景技术】
[0002] 液晶显示器的主要制程包括液晶面板（liquid crystal panel)的制作以及液晶 显示模块（liquid crystal module,LCM)的组装。液晶面板的制作方法主要是将液晶封存 于作为上基板的彩色滤光板以及作为下基板的薄膜晶体管阵列基板之间。对于液晶显示器 而言，让液晶分子的长轴方向与基板表面有均匀倾斜角度的配向是相当重要的，而可使液 晶分子排列成均匀预倾角（pre-tilt angle)的配向材料称为配向膜（alignment layer)。 现有的液晶面板制造方法中，一般选取光敏感性高分子化合物作为配向液来制造配向膜， 并利用一定波长的光源去照射光敏感性高分子化合物使其发生光化学反应进而诱导液晶 分子朝特定方向排列，由于能用于制造配向膜的光敏感性高分子化合物有多种类型，并且 不同种类的光敏感性高分子化合物在结构上存在差异，若不同类型的光敏感性高分子化合 物仍然采用同样的方法制造，会导致制得的配向膜出现辉点，进而导致液晶面板的显示效 果不佳。
【发明内容】
[0003] 有鉴于此，有必要提供一种能克服上述不足的液晶面板的制造方法。
[0004] -种液晶面板的制造方法，包括：提供第一基板、第二基板、第一工作线及第二工 作线，该第一工作线用于实现预固化、固化以及曝光的制程工艺，该第二工作线用于实现清 洗与干燥的制程工艺；涂布第一配向液于该第一基板上，涂布第二配向液于该第二基板上， 该第一配向液为光分解型高分子化合物，该第二配向液为光异构化高分子化合物；将涂布 有该第一配向液的第一基板及涂布有该第二配向液的第二基板同时提供给该第一工作线， 在该第一工作线上同步进行预固化、固化、曝光步骤，再仅将曝光后的第一基板提供至该第 二工作线进行清洗与干燥步骤，从而形成具有配向膜的该第一基板与该第二基板；形成框 胶于该第一基板与该第二基板其中之一上；封装液晶材料及利用框胶贴合该第一基板与第 二基板以形成液晶面板。
[0005] -种液晶面板的制造方法，包括：提供第一基板、第二基板、第一工作线及第二工 作线，该第一工作线用于实现预固化、固化以及曝光的制程工艺，该第二工作线用于实现清 洗与干燥的制程工艺；涂布第一配向液于该第一基板上，涂布第三配向液于该第二基板上， 该第一配向液为光分解型高分子化合物，该第二配向液为光二聚体化高分子化合物；对涂 布有该第一配向液的第一基板及涂布有该第三配向液的第二基板同时提供给该第一工作 线，在该第一工作线上同步进行预固化；并在该第一工作线上对第一基板进行固化、曝光步 骤，再将曝光后的第一基板提供至该第二工作线进行清洗与干燥步骤，形成具有配向膜的 该第一基板，在该第一工作线上对该第二基板进行曝光、固化形成具有配向膜的该第二基 板；形成框胶于该第一基板与该第二基板其中之一上；封装液晶材料及利用框胶贴合该第 一基板与第二基板以形成液晶面板。
[0006] -种液晶面板的制造方法，包括：提供第一基板、第二基板及第一工作线，该第一 工作线用于实现预固化、固化以及曝光的制程工艺；涂布第二配向液于该第一基板上，涂布 第三配向液于该第二基板上，该第二配向液为光异构化高分子化合物，该第三配向液为光 二聚体化高分子化合物；在该第一工作线上对涂布有该第二配向液的第一基板、涂布有该 第三配向液的第二基板进行预固化；在该第一工作线上对第一基板进行固化、曝光步骤，形 成具有配向膜的该第一基板，在该第一工作线上对该第二基板进行曝光、固化形成具有配 向膜的该第二基板；形成框胶于该第一基板与该第二基板其中之一上；封装液晶材料及利 用框胶贴合该第一基板与第二基板以形成液晶面板。
[0007] 与现有技术相比，本发明的液晶面板的制造方法，对于光分解型高分子化合物在 曝光之后增加了清洗与干燥的步骤；而对于光二聚体化高分子化合物与光异构化高分子化 合物，曝光之后不进行清洗；从而克服了光二聚体化高分子化合物与光异构化高分子化合 物形成配向膜时与溶剂接触，避免配向膜出现的辉点现象，改善了液晶面板的显示效果。
【附图说明】
[0008] 图1为本发明第一实施例提供的一种液晶面板的制造方法的流程图。
[0009] 图2为本发明第二实施例提供的一种液晶面板的制造方法的流程图。
[0010] 图3为本发明第三实施例提供的一种液晶面板的制造方法的流程图。
[0011] 图4为图1-图3提供的液晶面板制造方法的工作线路图。
[0012] 主要元件符号说明
如下【具体实施方式】将结合上述附图进一步说明本发明。
【具体实施方式】
[0013] 下面将结合附图，对本发明作进一步的详细说明。
[0014] 请参阅图1与图4,本发明第一实施例提供的液晶面板的制造方法，图1为液晶面 板制造方法的流程图100,图4是与图1流程图相对应的生产线工作站示意图，箭头的方向 代表整个生产流程的走向，本实施例的制造方法包括以下步骤： SlO :提供第一基板、第二基板、第一工作线10及第二工作线20,该第一工作线10用 于实现预固化、固化以及曝光的制程工艺，该第二工作线20用于实现清洗与干燥的制程工 艺；在本实施方式中该第一基板与该第二基板分别为TFT (Thin Film Transistor)基板与 CF (color filter)基板。
[0015] 该第一工作线10包括预固化工作站12、固化工作站14与曝光工作站16,具体地， 固化工作站14与曝光工作站16正对设置，从而预固化步骤后可以实现先固化、再曝光或 者先曝光、再固化的步骤，也即可以根据实际需要，选择先进行曝光步骤还是先进行固化步 骤。
[0016] 该第二工作线20包括清洗站21与干燥站22,分别用于实现对基板的清洗与以及 清洗后的干燥步骤。
[0017] Sll :涂布第一配向液于该第一基板上，涂布第二配向液于该第二基板上，该 第一配向液为光分解型（photo decomposition)高分子化合物，该第二配向液为光异 构化（photo isomerization)高分子化合物；该光分解型高分子化合物可以为聚酰胺 (polyamide, PA)或聚酰亚胺（polyimide, PI)或者是二者的混合物,该光异构化高分子化 合物是指含有叠氮苯（azobenzene)的高分子化合物。在本实施方式中，涂布第一配向液与 该第二配向液是在图4所示的涂布站101进行。
[0018] S12 :对涂布有该第一配向液的第一基板、涂布有该第二配向液的第二基板同时提 供给该第一工作线10,在该第一工作线10上利用预固化工作站12进行预固化（pre-cure)、 固化工作站14进行固化（main-cure)、曝光工作站16进行曝光（irradiation)步骤，再仅 将曝光后的该第一基板提供至该第二工作线20,利用清洗站22进行清洗及利用干燥站24 进行干燥步骤，从而形成具有配向膜的该第一基板与该第二基板。预固化的作用是使配向 液初步固化于该第一基板与该第二基板上。对光分解型高分子化合物形成的配向液以及该 光异构化高分子化合物形成的配向液预固化的温度均为80°C，预固化的时间均为105S。
[0019] 对配向液进行固化的作用是挥发掉配向液中所含的溶剂（solvent)，并排列有机 高分子。在本实施方式中，对光分解型高分子化合物进行固化的温度为230°C，时间为30分 钟；对光异构化高分子化合物固化的温度为230°C，时间为40分钟。
[0020] 对该配向液进行曝光的具体方法为提供紫外（UV)光，利用该紫外光照射该第一 基板与该第二基板上的该配向液。对光分解型高分子化合物进行曝光的紫外光的能量为 I. 5J，波长为254nm。在此能量以及波长的光照下时，光分解型高分子化合物发生分解，导致 聚酰亚胺键结不均向的断裂，从而在第一基板上，形成对液晶起配向排列作用的配向结构。 对光异构化高分子化合物进行曝光的紫外光的能量为40mJ，紫外光波长介于300-320nm， 优先为313nm ;在此波长的紫外光照射下，导致光异构化高分子化合物的顺式反式结构互 变（cis-trans transition)，利用这样的构形转变造成异向性而诱导液晶分子排列，固化 与曝光完成之后即形成配向膜。
[0021] 对该第一基板表面的配向膜进行清洗所用的溶剂为异丙醇与水的混合溶液。该混 合溶液中异丙醇与水的比例介于〇. 5:9. 5与5:5之间。采用异丙醇与水的混合溶液可以清 洗掉曝光后未完全反应的化合物以及聚亚酰胺残留物。对该第一基板洗净之后紧接着进行 干燥化处理，干燥的温度为80°C，时间为5分钟。
[0022] S13 :形成框胶于该第一基板与该第二基板其中之一上；优选地，形成框胶是在真 空环境中进行，从而可以进一步的防止空气中的水分与第二基板接触，避免第二基板上的 配向膜与空气中的水分接触形成辉点。在本实施方式中，利用框胶形成站30来形成框胶于 该第一基板与该第二基板的其中之一上。
[0023] S14:封装液晶材料及利用框胶贴合上述该第一基板与第二基板以形成液晶面板。 在本实施方式中，利用液晶提供站40来提供液晶于该第一基板与该第二基板的其中之一 上。
[0024] 请参阅图2与图4,本发明第二实施例提供的液晶面板的制造方法，图2为液晶面 板制造方法的流程图200,图4是与图2流程图相对应的生产线工作站，箭头的方向代表整 个流程的走向，本实施例的制造方法包括以下步骤： S20 :提供第一基板、第二基板、第一工作线10及第二工作线20,该第一工作线10用 于实现预固化、固化以及曝光的制程工艺，该第二工作线20用于实现清洗与干燥的制程工 艺；在本实施方式中该第一基板与该第二基板分别为TFT (Thin Film Transistor)基板与 CF (color filter)基板。
[0025] 该第一工作线10包括预固化工作站12、固化工作站14与曝光工作站16,具体地， 该第一工作线10可以设置为弧形，固化工作站14与曝光工作站16正对设置，该预固化工 作12站设置在弧形的顶点位置，从而预固化步骤后可以实现先固化、再曝光或者先曝光、 再固化的步骤，也即可以根据实际需要，选择先进行曝光步骤还是先进行固化步骤。
[0026] 该第二工作线20包括清洗站21与干燥站22,分别用于实现对基板的清洗与干燥。
[0027] S21 :涂布第一配向液于该第一基板上及涂布第三配向液于该第二基板上，该第一 配向液为光分解型高分子化合物，该第三配向液为光二聚体化高分子化合物；该光分解型