网板曝光机监控系统的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及网板制造领域，特别是涉及一种可改善网板曝光质量的网板曝光机监控系统。
【背景技术】
[0002]随着电路板微型化以及功能强化的发展下，对于线路板的图形导线的宽度及其线距的要求亦越来越高，而于电路板的整体制造过程中，电路板的曝光程序又是其中至关重要的一个步骤。
[0003]然而，于现有生产工业中，PCB板经常由于曝光度掌握不够精准，而导致PCB板的导电性及美观性受到影响，故如何克服上述缺陷，即为本发明待解决的技术课题。
【发明内容】
[0004]鉴于上述先前技术之种种问题，本发明之目的在于提供一种网板曝光机监控系统，可全程监控网板曝光机的曝光装置的工作状态，以轻易筛选出曝光不良品并分析产生曝光不良之原因。
[0005]本发明之另一目的在于提供一种网板曝光机监控系统，可控制所述曝光装置自动调整工作状态，以确保产品之曝光质量，并延长机台零部件之工作寿命。
[0006]为达到上述目的以及其他目的，本发明提供一种网板曝光机监控系统，应用于具有曝光装置的网板曝光机，用于监控所述网板曝光机的曝光装置的工作状态，所述系统包括:曝光监控模块，具有:曝光参数设定单元，用于提供设定所述曝光装置的曝光参数值及其对应的异常处理操作流程；曝光侦测器，设于所述网板曝光机的曝光装置中，且所述曝光装置还具有光学元件，所述曝光侦测器用于持续地侦测所述光学元件的即时光功率(mW)，并输出所侦测的即时光功率(mW)值；曝光分析单元，用于收集所述曝光侦测器所输出的所述光学兀件的即时光功率(mW)值,并于分析所述输出的即时光功率(mW)值与所述曝光参数设定单元所设定的曝光参数值不吻合时，输出异常信号；以及异常处理模块，于接收到所述曝光分析单元所输出的异常信号时，依据所述设定的异常处理操作流程执行相应的操作。
[0007]较佳地，藉由所述曝光参数设定单元所设定的异常处理操作流程至少包括:输出警报信号、调整所述光学元件的工作状态以及令所述网板曝光机停止操作的所组群组之其中一者。
[0008]较佳地，所述系统还包括:记录模块，记录所述网板曝光机对网板进行曝光的曝光处理信息，且其还于所述曝光分析单元输出异常信号时，记录所述输出的异常信号所对应的曝光作业数据。其中，所述曝光作业数据包括:输出所述异常信号的时间及在输出所述异常信号时间下的光学元件的光功率(mW)值所组群组之其中一者。
[0009]较佳地，所述系统中的曝光参数设定单元还提供客制化标准作业程序(SOP)测光功能的设定，用以供用户设定其所欲输入的光能量值(mj)，以在曝光作业时，所述曝光分析单元依据用户所设定的光能量值，以线性处理方式来控制累积光能量。此外，所述曝光参数设定单元还提供二次曝光的功能设定，且所述光学元件的光路径中设有一可动式滤片，所述曝光分析单元依据曝光参数设定单元所设定的二次曝光的功能，于曝光作业中，使光学元件提供预定波长，待一预定时间后，控制所述滤片的移动来调整所述光学元件所提供的所述预定波长，而达到以单一波长进行多重波长的曝光。
[0010]较佳地，所述系统还设有数据传输接口，藉由所述数据传输接口供用户近端或远程设定所述曝光装置的曝光参数值及其对应的异常处理操作流程。
[0011]较佳地，所述网板曝光机监控系统还包括:真空监控模块，用于侦测所述曝光装置的曝光室内的真空压力值，所述真空监控模块具有:真空参数设定单元，用于提供设定所述曝光室内的真空参数值及其对应的异常处理操作流程；压力传感器，用于感测所述曝光室内的真空压力，并输出所感测的真空压力值；以及真空分析单元，用于接收所述压力传感器所输出的真空压力值，并于分析所述输出的真空压力值与所述真空参数设定单元所设定的真空参数值不吻合时，输出异常信号。较佳地，所述异常处理模块还包括:于接收到所述真空分析单元所输出的异常信号时，依据所述真空参数设定单元所设定的异常处理操作流程执行相应的操作。再者，所述异常处理模块判定在一预定时间真空压力无法到达所设定的真空参数值时，停止曝光作业及发出警报状态消息。
[0012]较佳地，所述系统还包括:温度监控模块，其具有:温度参数设定单元，用于提供设定所述曝光装置内的光学元件的工作温度参数值；散热单元，设于所述曝光装置上，用于调降所述光学元件的工作温度；温度传感器，用于感测所述光学元件当前的工作温度，并输出所感测到的工作温度值；以及温控单元，用于接收所述温度传感器所输出的工作温度值，并于分析所述输出的工作温度值高于所述温度参数设定单元所设定的工作温度参数值时，启动所述散热单元对所述光学元件实施降温操作。
[0013]较佳地，所述系统还包括:接触式温度传感器中，其接触于所述曝光玻璃台面，用以感测曝光玻璃台面的温度，当所述温控单元分析出所述接触式温度传感器所输出的温度值高于所述温度参数设定单元所设定的工作温度参数值时，启动所述网板曝光机内的散热单元对所述曝光玻璃台面实施降温操作。此外，所述异常处理模块判定在一预定时间下未能使所述曝光玻璃台面温度降温时，停止曝光作业及发出警报状态消息。
[0014]相较于现有技术，本发明可侦测网板曝光机的曝光装置的工作状态，俾于分析机台运作发生异常时输出警示信号，故可轻易找出在机台曝光不良情况下生产出的不良品。再者，本发明还可于侦测机台曝光装置产生曝光不良的问题时，透过默认的异常处理操作流程控制机台的曝光装置自动调整工作状态，以减少曝光不良品的产生。还有，本发明更可供用户于网板曝光机本端、近端或远程的输入方式来设定曝光作业所需的参数，提高了曝光作业的便利性。另外，因应用户的使用需求可供用户自行设定所需的灯管光能量值(mj)，提供一种客制化的标准作业程序的功能设定。
【附图说明】
[0015]图1用以说明本发明的网板曝光机监控系统的第一实施例系统架构图。
[0016]图2用以说明本发明的网板曝光机监控系统的第二实施例系统架构图。
[0017]图3用以说明本发明的网板曝光机监控系统的第三实施例系统架构图。
[0018]图4用以说明本发明的网板曝光机监控系统的第四实施例系统架构图。
[0019]图5为应用所述图1的系统架构图所执行的曝光监控运作流程图。
[0020]图6为应用所述图3的系统架构图所执行的真空监控运作流程图。
[0021]图7为应用所述图4的系统架构图所执行的温度监控运作流程图。
[0022]组件标号说明
[0023]100, 100A, 100B, 100C 网板曝光机监控系统
[0024]110曝光监控模块
[0025]111曝光参数设定单元
[0026]113曝光侦测器
[0027]115曝光分析单元
[0028]120异常处理模块
[0029]130记录模块
[0030]150真空监控模块
[0031]151真空参数设定单元
[0032]153压力传感器
[0033]155真空分析单元
[0034]160温度监控模块
[0035]161温度参数设定单元
[0036]163散热单元
[0037]165温度传感器
[0038]167温控单元
[0039]200, 200A, 200B, 200C 网板曝光机
[0040]201网板
[0041]210曝光装置
[0042]211光学元件
[0043]300信息处理设备
[0044]SlOl ?S107步骤
[0045]S201 ?S207步骤
[0046]S301 ?S305步骤