处理盒和电子照相设备的制造方法

文档序号:9221564阅读:413来源:国知局
处理盒和电子照相设备的制造方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及处理盒和电子照相设备。
【背景技术】
[0002] 在电子照相图像形成设备(下文称为"电子照相设备")中,例如充电、曝光、显影、 转印和清洁等处理反复进行。此处,在这些处理中,向向电子照相感光构件的表面施加电和 机械负载,并因此要求对抗这些负载的高耐久性。此外,在电子照相感光构件的表面和与电 子照相感光构件的表面相接触的处理构件(例如用于除去转印残余调色剂的清洁刮板)之 间要求高润滑性。
[0003] 对于上述润滑性的问题,专利文献1提出包括向电子照相感光构件的表面层添加 硅油如聚二甲基硅氧烷的方法。
[0004] 在电子照相设备中,充电构件与电子照相感光构件一直以预定的接触压力相接 触,并且跟随电子照相感光构件的旋转而旋转。充电构件需跟随具有增加的润滑性的电子 照相感光器件的旋转而一直稳定旋转。
[0005] 专利文献2提出一种用于改善对电子照相感光构件的握持性质(grip properties)的方法,其中在充电构件的涂层中包含复合颗粒,且复合颗粒通过用不同于母 颗粒的导电性材料涂布母颗粒而获得。
[0006] 引用列表
[0007] 专利文献
[0008] 专利文献1 :日本专利申请特开平07-13368号公报
[0009] 专利文献2 :日本专利申请特开2006-133590号公报

【发明内容】

[0010] 发明要解决的问题
[0011] 基于专利文献1和2的公开内容,本发明人研宄了具有高润滑性表面的电子照相 感光构件和对电子照相感光构件具有高握持性质的充电构件的组合。结果,该组合可在电 子照相感光构件与充电构件接触旋转时造成电子照相感光构件和充电构件之间的轻微滑 动,并且由于滑动可在电子照相图像上出现呈横条纹的不均匀。下文可将具有呈现出横条 纹的不均匀的电子照相图像称为"条带图像"。
[0012] 于是,本发明的目标是提供处理盒和电子照相设备,使得可抑制归结于电子照相 感光构件和充电构件之间的滑动的条带图像的产生,并因此可形成高质量的电子照相图 像。
[0013] 用于解决问题的方案
[0014] 本发明提供包括充电构件和当与充电构件接触时被充电的电子照相感光构件的 处理盒,其中充电构件包括导电性基体和在导电性基体上形成的导电性树脂层;所述导电 性树脂层含有粘结剂、导电性细颗粒和具有开口的碗形树脂颗粒;充电构件的表面具有源 自碗形树脂颗粒的开口的凹部和源自碗形树脂颗粒的开口的边缘的凸部,并且其中所述 电子照相感光构件包括支承体和在支承体上形成的感光层,以及含有下列树脂(a)、树脂 (0)和化合物(Y)的电子照相感光构件的表面层:
[0015] 树脂(a):选自由末端处不具有硅氧烷结构的聚碳酸酯树脂和末端处不具有硅 氧烷结构的聚酯树脂组成的组的至少一种树脂;
[0016] 树脂(0 ):选自由末端处具有硅氧烷结构的聚碳酸醋树脂和末端处具有硅氧烷 结构的聚酯树脂,以及末端处具有硅氧烷结构的丙烯酸系树脂组成的组的至少一种树脂; 和
[0017] 化合物(y):选自由苯甲酸甲醋、苯甲酸乙醋、乙酸苄醋、3-乙氧基丙酸乙酯和二 甘醇乙基甲基醚组成的组的至少一种化合物。
[0018] 此外,本发明提供具有上述处理盒的电子照相设备。
[0019] 发明的效果
[0020] 本发明可抑制归结于电子照相感光构件和充电构件之间的滑动的条带图像的产 生,并形成高质量的电子照相图像。
【附图说明】
[0021] 图1A是根据本发明的充电构件(以辊的形式)的剖面图。
[0022] 图1B是根据本发明的另一充电构件(以辊的形式)的剖面图。
[0023] 图2A是根据本发明的充电构件表面附近的部分剖面图。
[0024] 图2B是根据本发明的另一充电构件表面附近的部分剖面图。
[0025] 图2C是根据本发明的另一充电构件表面附近的部分剖面图。
[0026] 图2D是根据本发明的另一充电构件表面附近的部分剖面图。
[0027] 图3是根据本发明的充电构件表面附近的部分剖面图。
[0028] 图4A是描述本发明中使用的碗形树脂颗粒形状的图。
[0029] 图4B是描述本发明中使用的另一碗形树脂颗粒形状的图。
[0030] 图4C是描述本发明中使用的另一碗形树脂颗粒形状的图。
[0031] 图4D是描述本发明中使用的另一碗形树脂颗粒形状的图。
[0032] 图4E是描述本发明中使用的另一碗形树脂颗粒形状的图。
[0033] 图5是说明用于测量充电辊的电阻值的设备的图。
[0034] 图6是说明根据本发明的电子照相设备的一种形态的示意剖面图。
[0035] 图7是用于生产充电辊的十字头挤出机的剖面图。
[0036] 图8A是根据本发明的充电构件和根据本发明的电子照相感光构件之间的接触区 域附近的放大视图。
[0037] 图8B是根据本发明的另一充电构件和根据本发明的电子照相感光构件之间的接 触区域附近的放大视图。
[0038] 图8C是根据本发明的另一充电构件和根据本发明的电子照相感光构件之间的接 触区域附近的放大视图。
[0039] 图8D是根据本发明的另一充电构件和根据本发明的电子照相感光构件之间的接 触区域附近的放大视图。
[0040] 图9是说明本发明中使用的电子束照射设备的一个实例的示意图。
[0041] 图10是说明根据本发明的处理盒的一种形态的示意图。
【具体实施方式】
[0042] 本申请人假定在根据本发明的处理盒中展现效果的机构如下所述。充电构件的表 面具有源自碗形树脂颗粒的凹部和凸部。使充电构件与电子照相感光构件接触时,凸部弹 性地变形来抑制充电构件的振动,并且凸部及其周围部分总是与电子照相感光构件接触。 同时,在电子照相图像的形成中,DC电压施加于充电构件。此时,化合物Y在电子照相感 光构件的表面层中极化,并且电吸引力在电子照相感光构件和接触电子照相感光构件的充 电构件的凸部之间作用。结果,充电构件和电子照相感光构件互相吸引,从而抑制充电构件 和电子照相感光构件接触和旋转时轻微滑动的产生,结果抑制条带图像。
[0043] 〈电子照相感光构件〉
[0044] 由根据本发明的充电构件接触充电的电子照相感光构件包括支承体和在支承体 上形成的感光层。感光层的实例包括同一层中含有电荷输送物质和电荷产生物质的单层型 感光层,以及含有电荷产生物质的电荷产生层与含有电荷输送物质的电荷输送层相分离的 层压型(功能分离型)感光层。在本发明中,层压型感光层是优选的。可选地,电荷产生层 可具有层压结构,或者电荷输送层可具有层压构造。此外,为改善电子照相感光构件的耐久 性,可在感光层上形成保护层。
[0045] [表面层]
[0046] 在根据本发明的电子照相感光构件中,"表面层"意指下文的层。即,当电荷输送层 是最顶层时,电荷输送层是表面层。当保护层设置在电荷输送层上时,保护层是表面层。
[0047] 在根据本发明的电子照相感光构件中,其中表面层含有树脂(a)、树脂(0)和化 合物(Y)。树脂U)是选自由末端处不具有硅氧烷结构的聚碳酸酯树脂和末端处不具有 硅氧烷结构的聚酯树脂组成的组的至少一种树脂。树脂(0)是选自由末端处具有硅氧烷 结构的聚碳酸酯树脂、末端处具有硅氧烷结构的聚酯树脂,以及末端处具有硅氧烷结构的 丙烯酸系树脂组成的组的至少一种树脂。化合物(Y)是选自由苯甲酸甲酯、苯甲酸乙酯、 乙酸苄酯、3-乙氧基丙酸乙酯和二甘醇乙基甲基醚组成的组的至少一种化合物。
[0048] [树脂(a)]
[0049] 在树脂(a)中,末端处不具有硅氧烷结构的聚碳酸酯树脂可以是具有由下列式 (A)表示的重复结构单元的聚碳酸酯树脂A。末端处不具有硅氧烷结构的聚酯树脂可以是 具有由下列式(B)表示的重复结构单元的聚酯树脂B。
[0050]
[0051] 在式(A)中,R21至R24各自独立地表示氢原子或甲基;X1表示单键、环己叉基、或具 有由下列式(C)表示的结构的二价基团。
[0052]
[0053] 在式(B)中,R31至R34各自独立地表示氢原子或甲基;X2表示单键、环己叉基、或具 有由下列式(C)表示的结构的二价基团;Y1表示间-亚苯基、对-亚苯基、或表示两个对-亚 苯基通过氧原子键合的二价基团。
[0054]
[0055] 在式(C)中,R41和R42各自独立地表示氢原子、甲基或苯基。
[0056] 由式(A)表示的聚碳酸酯树脂A当中的重复结构单元的具体实例如下所示:
[0057]
[0058] 聚碳酸酯树脂A可以是包括选自由上述式(A-1)至(A-8)表示的重复结构单元的 仅一种重复结构单元的聚合物,或者包括两种或更多种的这些重复结构单元的共聚物。在 这些重复结构单元中,由式(A-l)、(A-2)和(A-4)表示的重复结构单元是优选的。
[0059] 由式⑶表示的聚酯树脂B当中的重复结构单元的具体实例如下所示:
[0060]
[0061] 聚酯树脂B可以是包括选自由上述式(B-1)至(B-8)表示的重复结构单元的仅一 种重复结构单元的聚合物,或者包括两种或更多种的上述重复结构单元的共聚物。在这些 重复结构单元中,由式(B-1)、(B-2)、(B-3)、(B-6)、(B-7)和(B-8)表示的重复结构单元是 优选的。
[0062] 上述聚碳酸酯树脂A和上述聚酯树脂B可通过例如已知的光气法合成。可选地, 上述聚碳酸酯树脂A或上述聚酯树脂B可通过酯交换来合成。当上述聚碳酸酯树脂A或 聚酯树脂B是共聚物时,共聚形式可以是嵌段共聚、无规共聚或交替共聚(alternating copolymerization)等任何形式。这些聚碳酸醋树脂A和聚醋树脂B可通过已知方法合成。 例如,这些可通过日本专利申请特开2007-047655和2007-072277号公报当中记载的方法 合成。
[0063] 聚碳酸酯树脂A和聚酯树脂B的质量平均分子量优选20, 000以上且300, 000以 下,更优选50, 000以上且200, 000以下。在本发明中,树脂的质量平均分子量意指根据以 日本专利申请特开2007-79555号公报中记载的方法进行测量的标准方法,以聚苯乙烯换 算的质量平均分子量。
[0064] 如同树脂(a)的聚碳酸酯树脂A或聚酯树脂B可以是具有主链中除了上述式(A) 或式(B)表示的重复结构单元以外还包含硅氧烷结构的重复结构单元的共聚物。具体地, 此类重复结构单元的实例包括下列式(H-1)或(H-2)表示的重复结构单元。此外,这些树 脂可具有下列式(H-3)表示的重复结构单元。
[0065]
[0066] 作为树脂(a)使用的具体的树脂将在下文示出。
[0067] [表 1]
[0068] 表 1
[0069]
[0070] 在表1中,树脂B(l)和树脂B(2)中由上述式(B-1)和(B-6)表示的重复结构单 元当中,对苯二甲酸结构对间苯二甲酸结构的摩尔比(对苯二甲酸骨架/间苯二甲酸骨架) 是 5/5。
[0071] [树脂(0)]
[0072] 树脂(0)是选自由末端处具有硅氧烷结构的聚碳酸酯树脂、末端处具有硅氧烷 结构的聚酯树脂,以及末端处具有硅氧烷结构的丙烯酸系树脂组成的组的至少一种树脂。 这些树脂(0)具有与树脂(a)的高混溶性,在电子照相感光构件中保持表面层的高机械 耐久性。由于树脂(0)在末端处具有硅氧烷部位,表面层可获得高润滑性,并且可降低表 面层的初始摩擦系数。据推测,由于当树脂(0)在末端处具有硅氧烷部位时,硅氧烷部位 自由度增加而提高树脂(e)向表面层的表面部分迀移的可能性;结果,树脂(e)可能出现 在电子照相感光构件的表面中。
[0073] 在本发明中,末端处具有硅氧烷结构的聚碳酸酯树脂可以是具有由下列式(A') 表示的重复结构单元和由下列式(D)表示的末端结构的聚碳酸酯树脂A'。此外,末端处具 有硅氧烷结构的聚酯树脂可以是具有由下列式(B')表示的重复结构单元和由下列式(D) 表示的末端结构的聚酯树脂B'。
[0074]
[0075] 在式(A')中,R25至R28各自独立地表示氢原子或甲基;X3表示单键、环己叉基、 或具有由下列式(C')表示的结构的二价基团。
[0076]
[0077] 在式(B')中,R35至R38各自独立地表示氢原子或甲基;X4表示单键、环己叉基、 或具有由下列式(C')表示的结构的二价基团;Y2表示间-亚苯基、对-亚苯基、或表示两 个对-亚苯基通过氧原子键合的二价基团。
[0078]
[0079] 在式(C')中,R43和R44各自独立地表示氢原子、甲基或苯基。
[0080]
[0081] 在式⑶中,a和b表示括号内结构单元的重复数,a的平均值为20以上且100以 下,并且b的平均值为1以上且10以下。更优选地,a的平均值为30以上且60以下,并且 b的平均值为3以上且10以下。
[0082] 在本发明中,聚碳酸酯树脂A'和聚酯树脂B'在树脂的一个末端或两个末端具 有由上述式(D)表示的末端结构。当树脂在其一个末端具有由上述式(D)表示的末端结构 时,使用分子量调节剂(链终止剂)。分子量调节剂的实例包括苯酚、对异丙基苯酚、对叔丁 基苯酚或苯甲酸
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