圆偏振板及能够弯曲的显示装置的制造方法_3

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得具有相对于膜长度方向为角 度0的取向角的长状的拉伸膜,例如于进行与偏振片的层叠时,变得可采用卷对卷方式, 而可简化制造步骤。
[0065] 作为斜向拉伸所使用的拉伸机,例如可列举巧对横向及/或纵向附加左右速度 不同的推送力或拉伸力或者拉取力的拉幅机式拉伸机。作为拉幅机式拉伸机,有横向单轴 拉伸机、同时双轴拉伸机等,只要可将长状的树脂膜连续地斜向拉伸,则可使用任意适当的 拉伸机。
[0066] 作为斜向拉伸的方法,例如可列举:日本专利特开昭50-83482号公报、日本专利 特开平2-113920号公报、日本专利特开平3-182701号公报、日本专利特开2000-9912号公 报、日本专利特开2002-86554号公报、日本专利特开2002-22944号公报等中所记载的方 法。
[0067] 第1相位差膜(拉伸膜)厚度优选为20ym~100ym,更优选为30ym~80ym。
[0068] 第1相位差膜20可直接使用市售的膜,亦可视目的对市售的膜进行2次加工 (例如拉伸处理、表面处理)而使用。作为市售膜具体例,可列举帝人公司制造的商品名 「PURE-ACEWR」。
[0069] 对于第1相位差膜20的偏振片10侧表面,亦可进行表面处理。作为表面处理,例 如可列举;电晕处理、等离子体处理、火焰处理、底涂剂涂布处理、皂化处理。作为电晕处理, 例如可列举利用电晕处理机于常压空气中进行放电的方式。等离子体处理例如可列举利用 等离子体放电机于常压空气中进行放电的方式。火焰处理例如可列举直接使火焰接触膜表 面的方式。底涂剂涂布处理例如可列举利用溶剂将异氯酸醋化合物、硅烷偶联剂等加W稀 释,并较薄地涂布该稀释液的方式。皂化处理例如可列举浸溃于氨氧化钢水溶液中的方式。 优选为电晕处理、等离子体处理。
[0070] A-3.第2相位差膜
[0071] 第2相位差膜30如上所述配置于偏振片10的与第1相位差膜20相反一侧的面 (即,圆偏振板的外侧(观察侧)表面)。于一个实施方式中,第2相位差膜30具有将自偏 振片出射至观察侧的直线偏振转换为精圆偏振或圆偏振的功能。目P,于该实施方式中,第2 相位差膜30可作为所谓A/4板而发挥功能。第2相位差膜30配置成其迟相轴与偏振片 10的吸收轴成为优选为30。~60。、更优选为40。~50。、进而优选为45。左右角度。通 过将此种第2相位差膜30W如上述的轴关系较偏振片10配置于更靠近观察侧,即便于隔 着偏振太阳眼镜等偏振透镜而观察显示画面的情形时,亦可实现优异的观察性。因此,对于 可于室外使用的显示装置,亦可适宜地应用本发明的圆偏振板。于该实施方式中,可使用能 够作为A/4板而发挥功能的任意适当的相位差膜作为第2相位差膜30。例如第2相位差 膜30的面内相位差Re巧50)优选为100皿~180皿、更优选为135皿~155皿。其他光学 特性、机械特性、结构材料及制造方法等可视目的而适当地设定或选择。例如第2相位差膜 30可为上述A-2项中所记载的膜,亦可为使用其他聚合物(例如环締姪系树脂)膜,亦可为 液晶材料的涂布膜。
[0072] 于另一个实施方式中,第2相位差膜30例如可为面内相位差Re巧50)为3000nmW 上的超高相位差膜。通过使用此种膜,可使由波长引起的偏振状态偏差不对观察性产生影 响。因此,与上述同样地,即便于隔着偏振太阳眼镜等偏振透镜而观察显示画面的情形时, 亦可实现优异的观察性。于该实施方式中,第2相位差膜30例如可为聚对苯二甲酸己二醋 (PET)拉伸膜。
[0073] A-4.保护膜
[0074] 保护膜40由可用作偏振片的保护层的任意适当的膜所形成。作为成为该膜主成 分的材料的具体例,可列举S己酷纤维素(TAC)等纤维素系树脂、或聚醋系、聚己締醇系、 聚碳酸醋系、聚酷胺系、聚酷亚胺系、聚離讽系、聚讽系、聚苯己締系、聚降冰片締系、聚締姪 系、(甲基)丙締酸系、己酸醋系等透明树脂等。另外,亦可列举(甲基)丙締酸系、氨基甲 酸醋系、(甲基)丙締酸氨基甲酸醋系、环氧系、聚娃氧系等热固化型树脂或紫外线固化型 树脂等。此外,例如亦可列举硅氧烷系聚合物等玻璃质系聚合物。另外,可使用日本专利特 开2001-343529号公报(W001/37007)中所记载的聚合物膜。作为该膜材料,例如可使用含 有支链上具有经取代或未经取代的亚胺基的热塑性树脂、与支链上具有经取代或未经取代 的苯基及膳基的热塑性树脂的树脂组合物,例如可列举具有包含异了締与N-甲基马来酷 亚胺的交替共聚物、及丙締膳-苯己締共聚物的树脂组合物。该聚合物膜例如可为上述树 脂组合物的挤出成形物。
[00巧]作为上述(甲基)丙締酸系树脂,Tg(玻璃化转变温度)优选为115°CW上,更优 选为120°CW上,进而优选为125°CW上,特别优选为130°CW上。其原因在于可使耐久性优 异。上述(甲基)丙締酸系树脂的Tg的上限值并无特别限定,就成形性等观点而言,优选 为 170°CW下。
[0076] 作为上述(甲基)丙締酸系树脂,于无损本发明的效果的范围内,可采用任意适当 的(甲基)丙締酸系树脂。例如可列举:聚甲基丙締酸甲醋等聚(甲基)丙締酸醋、甲基 丙締酸甲醋-(甲基)丙締酸共聚物、甲基丙締酸甲醋-(甲基)丙締酸醋共聚物、甲基丙締 酸甲醋-丙締酸醋-(甲基)丙締酸共聚物、(甲基)丙締酸甲醋-苯己締共聚物(MS树脂 等)、具有醋环族姪基的聚合物(例如:甲基丙締酸甲醋-甲基丙締酸环己醋共聚物、甲基 丙締酸甲醋-(甲基)丙締酸降冰片醋共聚物等)。优选可列举聚(甲基)丙締酸甲醋等聚 (甲基)丙締酸Ci_e烷基醋。更优选可列举W甲基丙締酸甲醋为主成分(50~100重量%, 优选为70~100重量% )的甲基丙締酸甲醋系树脂。
[0077] 作为上述(甲基)丙締酸系树脂的具体例,例如可列举;S菱丽阳公司制造的 ACRYPETVH或ACRYPETV化20A、日本专利特开2004-70296号公报中所记载的分子内具有 环状结构的(甲基)丙締酸系树脂、通过分子内交联或分子内环化反应而获得的高Tg(甲 基)丙締酸系树脂。
[007引作为上述(甲基)丙締酸系树脂,就具有较高的耐热性、较高的透明性、较高的机 械强度方面而言,特别优选为具有内醋环状结构的(甲基)丙締酸系树脂。
[0079] 作为上述具有内醋环状结构的(甲基)丙締酸系树脂,可列举:日本专利特开 2000-230016号公报、日本专利特开2001-151814号公报、日本专利特开2002-120326号公 报、日本专利特开2002-254544号公报、日本专利特开2005-146084号公报等中所记载的具 有内醋环状结构的(甲基)丙締酸系树脂。
[0080] 关于上述具有内醋环状结构的(甲基)丙締酸系树脂,其质均分子量(亦有称 为重均分子量的情形)优选为1000~2000000,更优选为5000~1000000,进而优选为 10000 ~500000,特别优选为 50000 ~500000。
[0081] 关于上述具有内醋环状结构的(甲基)丙締酸系树脂,其Tg(玻璃化转变温度) 优选为115°CW上,更优选为125°CW上,进而优选为130°CW上,特别优选为135°C,最优选 为140°CW上。其原因在于可使耐久性优异。上述具有内醋环状结构的(甲基)丙締酸系 树脂的Tg的上限值并无特别限定,但就成形性等观点而言,优选为170°CW下。
[0082] 再者,本说明书中所谓「(甲基)丙締酸系」指丙締酸系及/或甲基丙締系。
[0083] 保护膜40的厚度优选为10ym~200ym,更优选为10ym~100ym,进而优选为 15ym~95ym。保护膜40的面内相位差Re(550)例如为Onm~lOnm,厚度方向的相位差 I?th(550)例如为-80nm~+80nm。
[0084] 可视需要对保护膜40的与偏振片相反一侧的表面进行硬涂处理、防反射处理、抗 粘连处理、抗眩处理等表面处理。保护膜厚度代表性而言为5mmW下,优选为1mmW下,更 优选为1ym~500ym,进而优选为5ym~150ym。
[0085] 于设置内侧保护膜(未图示)的情形时,该内侧保护膜优选为光学各向同性。本 说明书中所谓「光学各向同性」指面内相位差Re巧50)为Onm~lOnm,且厚度方向的相位差 I?th(550)为-lOnm~+10nm。
[0086] 内侧保护膜厚度优选为20ym~200ym,更优选为30ym~100ym,进而优选为 35ym~95ym。
[0087] A-5.易粘接层
[008引于一个实施方式中,亦可于第1相位差膜20的偏振片10侧的表面设置易粘接层 (未图示)。于设置易粘接层的情形时,第1相位差膜20可经上述表面处理,亦可不进行。 优选为第1相位差
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