光学模块的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种光学模块、一种光学成像装置、一种支撑光学元件的方法、一种光学成像方法及一种结构化光学模块的接触部分的方法。本发明可与任何期望光学装置和光学成像方法结合应用。特别地，本发明可与用于生产微电子电路的微光刻技术结合使用。
【背景技术】
[0002]特别地，在微光刻领域，除了使用以最高可能精度构造的部件，此外还有必要在操作期间根据预定期望值尽可能精确地设定成像装置的光学模块(即，例如具有诸如透镜元件、反射镜或光栅的光学元件的模块)的位置和几何形状，还有使用的掩模和基板的位置和几何形状，或者将这种部件稳定在预定位置或几何形状，以实现对应高成像质量。
[0003]在微光刻领域中，精度要求处于几纳米或更小数量级的微小范围中。它们尤其是增加用于生产微电子电路的光学系统的分辨率的恒定需求的结果，以促进要生产的微电子电路的小型化。
[0004]随着分辨率增加且使用的光的波长通常伴随地减少，对使用的部件的定位和取向的精度的要求自然增加。尤其对于用于微光刻的UV范围(例如，193nm的范围)内的短工作波长，尤其在具有介于5nm和20nm之间的工作波长(通常在13nm的区域中)的所谓极UV范围(EUV)中，这当然会影响为了遵守对所涉及部件的定位和/或取向的精度的严格要求而付出的努力。
[0005]然而，与光学系统的上述稳定性有关，处理在系统中产生或从外部引入系统中的振动能被证明是特别有问题的。通常用于解决该问题的一种方法在于主动地影响使用的单独或多个系统部件(尤其是使用的光学元件)的位置和/或取向，以将相关部件保持在预定位置和/或预定取向。
[0006]与EUV系统的分面反射镜的分面元件的限定定位和取向有关，DE 102 05 425Al (Holderer等人)公开了单独地调节所述分面元件，然后通过对应固定力将它们保持在调节状态，该申请的公开内容通过引用并入本文。
[0007]尽管在该情况下借助对应大小的固定力可以防止由于引入的振动能而产生的分面元件相对于其承载件的未对准，但是有问题的是，承载件本身会因引入的振动能而变形，使得分面元件可偏离它们在光束路径中的期望位置和/或取向。
[0008]此外，主动影响成像系统的单独或多个光学元件的位置和/或取向通常是期望的，以增加光学系统的灵活性。在这方面，再一次在EUV系统的情况下，尤其在照明装置中，为了灵活的光瞳形成，期望使用具有大量可移动(通常可倾斜)微反射镜或分面元件的分面反射镜，那么当然要以高精度方式设定和保持分面反射镜的相应位置和/或取向。
[0009]特别地，在这种EUV系统的情况下，特别有挑战性的是在所述分面元件的非常小尺寸下实现大量分面元件的位置和/或取向的精确设定。在这方面，在这种EUV系统的分面反射镜的情况下，分面元件的数量通常为几十万个分面元件的数量级，而单独分面元件的光学有效表面的直径通常为几百微米的数量级。
[0010]例如从US 6，906，845 B2(Cho等人)中还已知包括几十万个微反射镜的类似的微反射镜阵列，该申请的公开内容通过引用并入本文。
【发明内容】
[0011]因此，本发明基于以下目的:提供一种包括光学元件的光学模块、一种光学成像装置、一种支撑光学元件的方法、一种光学成像方法及一种结构化光学模块的接触部分的方法，它们不具有上述缺点，或者至少在较小程度上具有上述缺点，并尤其确保以简单方式可靠地定位和/或取向光学元件。
[0012]本发明基于这样的见识，如果提供可选择性激活的接触装置，则在极小空间中以简单方式实现对可主动设定的光学元件、甚至尤其是极小分面元件的改进支撑及由此的光学元件在相应设定中的改进定位和/或取向，可选择性激活的接触装置包括可选择性地与光学元件的接触部分接触的接触部分，以对光学元件的接触部分施加接触力。优选地维持接触装置的激活状态及由此的接触或接触力，直到有必要重新调节(例如在校正期间实施)光学元件的位置和/或取向或者光学模块的操作结束为止。
[0013]对光学元件选择性施加的接触力使得可将光学元件保持在相应设定的位置和/或取向上。在该情况下，光学元件可通过接触装置充分牢固地固定。然而，还可通过至少一个阻尼部分(位于光学元件和/或接触装置的区域中)的对应振动阻尼构造来实现对引入光学元件中的振动的有目的的阻尼，或者减少、甚至可完全避免这种振动的引入。
[0014]为了在接触装置的接触部分和光学元件的接触部分之间产生接触，可致动或移动接触装置或光学元件(或两者)的接触部分。在该情况下，可根据任意期望的操作原理以任意期望的方式产生致动力。优选地，以非接触的方式产生致动力，以实现特别节省空间的构造。
[0015]因此，根据第一方面，本发明涉及一种光学模块，尤其一种分面反射镜，其包括光学元件和支撑光学元件的支撑结构，其中，支撑结构包括定位装置，用于以至少一个自由度主动设定光学元件的位置和/或取向。支撑结构包括具有至少一个接触单元的可选择性激活的接触装置，接触单元具有第一接触部分，在接触装置的激活状态下，第一接触部分接触光学元件的第二接触部分，以对光学元件施加接触力，在接触装置的失活状态下，第一接触部分从第二接触部分移除。
[0016]根据另一方面，本发明涉及一种尤其用于微光刻的光学成像装置，包括具有第一光学元件组的照明装置、容纳包括投射图案的掩模的掩模装置、具有第二光学元件组的投射装置和容纳基板的基板装置，照明装置设计成尤其以EUV范围内的光照明投射图案，投射装置设计成将投射图案投射到基板上。照明装置和/或投射装置包括根据本发明的光学模块。
[0017]根据另一方面，本发明涉及一种支撑光学元件、尤其是分面反射镜的分面元件的方法，其中，光学元件由支撑结构支撑，其中，以至少一个自由度设定光学元件的位置和/或取向。在接触装置的激活状态下，可选择性激活的接触装置的第一接触部分与光学元件的第二接触部分接触，以对光学元件施加接触力，而在接触装置的失活状态下，第一接触部分从第二接触部分移除。
[0018]根据另一方面，本发明涉及一种尤其用于微光刻的光学成像方法，其中，照明装置尤其以EUV范围内的光照明投射图案，投射装置将投射图案投射到基板上。使用根据本发明的方法支撑照明装置和/或投射装置的光学元件、尤其是分面反射镜的分面元件。
[0019]根据另一方面，本发明涉及一种结构化根据本发明的光学模块的接触部分的方法，其中，两个接触部分之一、尤其是第一接触部分构造为至少分段地包括可结构化材料(在结构化之后可硬化)的可结构化接触部分，而两个接触部分的另一个、尤其是第二接触部分构造为至少分段地具有对于可结构化接触部分的限定结构化而言足够的硬度的结构化接触部分。可结构化接触部分在其可结构化状态下通过结构化接触部分而结构化，以产生互补结构化的第一和第二接触表面，并在该结构化之后硬化。
[0020]从从属权利要求和下面参考附图对优选实施例的描述，本发明的其它优选构造变得显而易见。所公开的特征的任意组合(不管是否在权利要求书中提到)都属于本发明的主题。
【附图说明】
[0021]图1是根据本发明的光学成像装置的优选实施例的示意图，其包括根据本发明的光学模块的优选实施例，其中应用根据本发明的支撑光学元件的方法的优选实施例；
[0022]图2是图1的根据本发明的光学模块的示意性顶视图；
[0023]图3是(沿图2的线II1-1II)穿过图2的处于第一操作状态的光学模块的优选变型的一部分的示意性截面图；
[0024]图4是(沿图2的线II1-1II)穿过图3的处于第二操作状态的光学模块的一部分的示意性截面图；
[0025]图5是(沿图2的线II1-1II)穿过图3的处于第三操作状态的光学模块的一部分的示意性截面图；
[0026]图6是(沿图2的线II1-1II)穿过图2的处于第一操作状态的光学模块的另一优选变型的一部分的示意性截面图；
[0027]图7是图6的细节VII的示意图；
[0028]图8是穿过图6的处于第二操作状态的光学模块的一部分的示意性截面图；
[0029]图9是穿过图6的处于第三操作状态的光学模块的一部分的示意性截面图；
[0030]图10(沿图2的线II1-1II)穿过图2的处于第一操作状态的光学模块的另一优选变型的一部分的示意性截面图；
[0031]图11是穿过图10的处于第二操作状态的光学模块的一部分的示意性截面图；
[0032]图12是穿过图10的处于第三操作状态的光学模块的一部分的示意性截面图。
【具体实施方式】
[0033]第一实施例
[0034]下面参考图1至5描述根据本发明的光学成像装置101的第一实施例。为了简化对下面说明的理解，正交xyz-坐标系引入附图中，其中，z方向与重力方向重合。然而，不必说，还可在本发明的其它变型中选择该xyz坐标系或光学成像装置的部件在空间中的任何其它取向。
[0035]图1是用于生产微电子电路的微光刻装置101形式的光学成像装置的示意图(未按比例)。成像装置101包括照明装置102和光学投射装置103，光学投射装置设计成在成像过程中将形成在掩模装置104的掩模104.1上的投射图案的像投射在基板装置105的基板105.1上。为此，照明装置102以照明光束(未更详细示出)照明掩模104.1。然后，投射装置103接收来自掩模104.1的投射光束(图1中由线101.1表示)，并将掩模104.1的投射图案的像投射到基板105.1上，例如所谓的晶片等。
[0036]照明装置102包括光学元件106的系统(图1中仅高度示意性示出)，此外，所述系统包括根据本发明的光学模块106.1。如下面更详细说明的，光学模块106.1构造为分面反射镜。光学投射装置103包括光学元件107的另一系统，其包括多个光学模块107.1。在此，光学系统106和107的光学模块沿成像装置101的折叠光轴101.1布置。<