一种用于浸没式光刻机的气密封及水平和垂直注液回收装置的制造方法
【专利说明】
置
技术领域
[0001]本发明涉及一种流场密封与注液回收装置，特别是涉及一种用于浸没式光刻机的气密封及水平和垂直注液回收装置。
【背景技术】
[0002]光刻机是制造超大规模集成电路的核心装备之一，现代光刻机以光学光刻为主，它利用光学系统把掩膜版上的图形精确地投影并曝光在涂过光刻胶的硅片上。它包括一个激光光源、一个光学系统、一块由芯片图形组成的投影掩膜版、一个对准系统和一个涂有光敏光刻胶的硅片。
[0003]浸没式光刻(Immers1n Lithography)设备通过在最后一片投影物镜与娃片之间填充某种高折射率的液体，相对于中间介质为气体的干式光刻机，提高了投影物镜的数值孔径(NA)，从而提高了光刻设备的分辨率和焦深。在已提出的下一代光刻机中，浸没式光刻对现有设备改动最小，对现在的干式光刻机具有良好的继承性。目前常采用的方案是局部浸没法，即将液体限制在硅片上方和最后一片投影物镜的下表面之间的局部区域内，并保持稳定连续的液体流动。在步进-扫描式光刻设备中，硅片在曝光过程中进行高速的扫描运动，这种运动会将曝光区域内的液体带离流场，从而引起泄漏，泄漏的液体会在光刻胶上形成水迹，影响曝光质量。已有的气密封装置在回收过程中都存在气液两相流的问题，将两者放在一起回收将会引起管路的振动，从而严重影响曝光质量。因此，浸没式光刻技术中必须重点解决回收过程中由气液两相流引起的振动问题。
[0004]目前已有的解决方案中，重点解决的问题是填充液体的密封问题，采用气密封或液密封构件环绕投影物镜组末端元件和硅片之间的缝隙流场。气密封技术是在环绕填充流场的圆周周边上，通过施加高压气体形成环形气幕，将填充液体限定在一定的圆形区域内。液密封技术则是利用与填充液体不相容的第三方液体(通常是磁流体或水银等)，环绕填充流场进行密封。但是存在以下不足:
[0005](I)液密封方式对密封液体有十分苛刻的要求，在确保密封性能要求的同时，还必须保证密封液体与填充液体不相互溶解、与光刻胶(或Topcoat)及填充液体不相互扩散。在衬底高速运动过程中，外界空气或密封液体一旦被卷入或溶解或扩散到填充液体中，都会对曝光质量产生负面的影响。
[0006](2)现有的气密封方式采用气幕施加在填充流体周围，造成流场边缘的不稳定，在硅片高速步进和扫描过程中，可能导致液体泄漏及密封气体卷吸到流场中；同时，填充液体及密封气体一起回收时将形成气液两相流，由此引发振动，影响曝光系统的稳定工作。
【发明内容】
[0007]为了解决局部浸没式光刻技术中的缝隙流场密封问题，本发明的目的在于提供一种用于浸没式光刻机的气密封及水平和垂直注液回收装置，在流场边缘使用气密封结构防止液体泄漏，采用水平注液结构满足注液出口流速的均匀性要求，采用水平回收结构通过水平回收引流流道结构减小回收口高度进而减小水平回收气液两相流引起的振动和噪声，采用垂直注液回收结构进行缝隙流场密封及污染控制。
[0008]本发明采用的技术方案如下:
[0009]在浸没式光刻机中的投影物镜组和硅片之间置有本发明气密封及水平和垂直注液回收装置；所述气密封及水平和垂直注液回收装置包括浸没单元下端盖、浸没单元基体、垂直注液孔板、焊接盖板和注气盖板，浸没单元下端盖、垂直注液孔板及注气盖板安装在浸没单元基体下表面，浸没单元基体上表面开有气和液的流道，流道通过焊接盖板密封覆盖。
[0010]所述的浸没单元基体包括:在浸没单元基体上开有中心锥孔，浸没单元基体下表面从中心锥孔向外依次开有方形槽结构的垂直注液腔、方形槽结构的垂直回收腔、放置浸没单元下端盖的外正八边形内正方形凹槽和环形槽结构的注气腔；浸没单元基体上表面上开有均为条形凹槽结构的一条水平注液流道、一条水平回收流道、两条注气流道、两条垂直注液流道和四条垂直回收流道，各个流道外端均与浸没单元基体侧面各自的流道进出口相通；
[0011]垂直注液腔在方形槽其中两个对角点处开有垂直注液孔，垂直注液腔经两个垂直注液孔分别与两条垂直注液流道相通；垂直回收腔的方形槽四边中点处向外延伸，并均开有垂直回收孔，垂直回收腔经四个垂直回收孔分别与四条垂直回收流道相通；注气腔上开有两个注气孔，浸没单元基体下表面开有一弯曲凹槽结构的注气流道，两个注气孔和该注气流道间隔均布在注气腔环形槽的圆周上；注气腔经浸没单元基体下表面的注气流道与浸没单元基体侧面该注气流道对应的流道进出口相通，注气腔分别经两个注气孔与浸没单元基体上表面的两条注气流道相通；水平注液流道和水平回收流道分别位于浸没单元基体中心锥孔的两侧并与浸没单元基体中心锥孔相通。
[0012]所述的水平注液流道靠近浸没单元基体中心锥孔处的过渡结构为引流阶梯，水平注液流道靠近浸没单元基体中心锥孔一侧的流道内设有分流结构，分流结构为锯齿状分流结构或者凹半圆状分流结构。
[0013]所述的水平回收流道经与锥孔斜面平行的水平回收引流流道后与浸没单元基体中心锥孔相通。
[0014]所述的浸没单元下端盖包括:浸没单元下端盖外边沿呈正八边形，浸没单元下端盖开有与浸没单元基体中心通孔相通的方形中心通孔，方形中心通孔与浸没单元下端盖外边沿之间的浸没单元下端盖下表面设有圆角方形的液体密封凸台，液体密封凸台与靠近方形中心通孔的浸没单元下端盖下表面之间开有沿液体密封凸台内边沿圆角方形阵列的垂直回收方孔阵列。
[0015]所述的垂直回收方孔阵列包括沿液体密封凸台内边沿圆角方形台阶间隔均布的一圈方孔，方孔一半开在液体密封凸台上，方孔的另一半开在液体密封凸台台阶下的浸没单元下端盖下表面上，形成垂直回收方孔阵列的阶梯状结构。
[0016]所述的垂直回收方孔阵列与所述浸没单元基体上的垂直回收腔相通，浸没单元下端盖外边沿与所述浸没单元基体上的外正八边形内正方形凹槽的外边沿相契合。
[0017]所述的垂直注液孔板包括:垂直注液孔板上表面开有方形凹槽，方形凹槽底面沿着圆角方形间隔均布有垂直注液圆孔阵列，垂直注液圆孔阵列即沿圆角方形间隔均布的一圈圆形微孔；垂直注液圆孔阵列与垂直注液腔相通。
[0018]所述的焊接盖板包括:焊接盖板为扁平结构，焊接盖板通过焊接封盖在注气腔、水平注液流道，水平回收流道、三条注气流道、两条垂直注液流道、四条垂直回收流道上。
[0019]所述的注气盖板包括:注气盖板沿其边沿的圆周间隔均布有注气圆孔阵列，注气圆孔阵列与浸没单元基体下表面的注气腔配合相通。
[0020]本发明具有的有益效果是:
[0021]在浸没单元外侧采用气密封结构，利用气体对缝隙流场密封，同时对硅片起到温度补偿作用。
[0022]本装置采用的水平注液结构采用锯齿形和凹半圆形的分流结构，可以获得较好的出口流速分布，保证核心流场的流速均匀性。
[0023]本装置采用的水平回收结构采用水平回收引流流道结构减小回收口高度进而减小水平回收气液两相流引起的振动和噪音。
[0024]本装置加入的垂直注液结构可有效补偿由于垂直气液回收带走的浸没液体，使垂直气液回收不至于对核心流场产生过大高度方向的速度影响。
[0025]本装置采用的垂直气液回收结构采用的方形阶梯孔结构相对于圆孔结构，回收气液两相流，密封缝隙流场的效果更好。
[0026]本装置各部件装配采用焊接工艺，相对于螺钉连接以及胶接密封内部流道的效果更好。
【附图说明】
[0027]图1是本发明与投影透镜组相装配的简化示意图。
[0028]图2是本发明气密封及水平和垂直注液回收装置的爆炸视图。
[0029]图3是本发明的锯齿状分流结构的立体视图。
[0030]图4是本发明的凹半圆状分流结构的立体视图。
[0031]图5是浸没单元下端盖立体视图。
[0032]图6是浸没单元下端盖上方孔处的局部放大图。
[0033]图7是浸没单元垂直注液孔板立体视图。
[0034]图8是浸没单元垂直注液孔板上圆孔处的局部放大图。
[0035]图9是浸没单元基体下表面的立体视图。
[0036]图10是浸没单元基体上表面的立体视图。
[0037]图11是浸没单元俯视图。
[0038]图12是图11中垂直回收流道部分的B-B剖视