一种On Cell结构触摸显示屏及其制作方法、显示装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种On Cell结构的触摸显示屏及其制作方法、显示装置。
【背景技术】
[0002]目前，随着液晶显示技术的发展，人们对液晶显示器的人机交互功能提出了越来越高的要求。而现有的技术中，人们一般采用On Cell技术将传统的液晶显示屏与触摸传感器结合，形成On Cell结构触摸屏，以提高液晶显示器的人机交互功能。
[0003]具体来说，On cell技术是指将触摸层嵌入到液晶显示屏的彩膜基板和偏光片之间的方法，且根据所嵌入的触摸层的厚度可以分为单层触摸层和多层触摸层；其中，多层触摸层一般包括氧化铟锡层、第一保护层，金属层以及第二保护层。而由于多层触摸层是在已经对盒后的液晶屏的彩膜基板上进行制作的，因此，需要使多层触摸层与液晶显示屏具有良好的对位精度才能保证触摸屏的触摸功能正常。但是由于氧化铟锡层、第一保护层、金属层以及第二保护层在制作过程中需要进行对位曝光，且对位曝光时所采用的对位标记均采用透明的氧化铟锡材料制成。因此，在对位曝光时，由透明的氧化铟锡材料制成的对位标记为透明的，其与周边的玻璃基板对比度比较低，曝光机不能清楚的识别；而且，在制作金属层时，金属层的对位标记被金属层所遮盖，且由于金属层的对位标记采用透明的氧化铟锡制成，其厚度很薄；因此，在对金属层进行对位曝光时，金属层的对位标记在曝光机所发出的强光下的凹凸感不强，导致曝光机根本无法识别金属层的对位标记。
[0004]可见，现有技术中，采用On Cell技术制作具有多层触摸层的触摸显示屏时，曝光机对相应的对位标记识别度不高，使得多层触摸层与液晶显示屏的对位精度低，导致曝光机报错率高。
【发明内容】
[0005]本发明的目的在于提供一种On Cell结构触摸显示屏及其制作方法、显示装置，以解决在对多层触摸层对位曝光过程中，曝光机报错率高的问题。
[0006]为了实现上述目的，本发明提供如下技术方案:
[0007]—种On Cell结构触摸显不屏的制作方法，在彩膜基板用于与偏光片相对的一侧沿光线传播方向依次制作透明半导体层、第一保护层、金属层和第二保护层，然后通过成盒工艺，得到On Cell结构触摸显示屏；其中，
[0008]所述透明半导体层的对位标记和所述第一保护层的对位标记均制作在所述彩膜基板的黑矩阵上，且所述透明半导体层的对位标记和所述第一保护层的对位标记所采用的材料均为遮光材料；所述金属层的对位标记采用光刻胶制成；所述第二保护层的对位标记采用反光材料制成。
[0009]优选的，所述透明半导体层的对位标记和所述第一保护层的对位标记所采用的材料均与黑矩阵的材料相同，所述金属层的对位标记制作在所述第一保护层上，所述第二保护层的对位标记制作在所述金属层上。
[0010]优选的，所述透明半导体层采用氧化铟锡制成。
[0011]优选的，所述金属层的对位标记的厚度为0.5 μ??-2 μπι。
[0012]较佳的，所述金属层的对位标记的厚度为1.5 μ m。
[0013]优选的，所述第一保护层和所述第二保护层均由光刻胶制成。
[0014]优选的，所述金属层的材料为Al、Cu或Fe。
[0015]较佳的，所述金属层的材料和所述反光材料的材料相同。
[0016]本发明还提供了一种On Cell结构触摸显示屏，由上述技术方案所述的On Cell结构触摸显示屏的制作方法制作而成
[0017]本发明还提供一种显示装置，包括上述技术方案所述的On Cell结构触摸显示屏。
[0018]与现有技术相比，本发明的有益效果在于:
[0019]本发明提供的On Cell结构触摸显示屏的制作方法中，透明半导体层的对位标记和第一保护层的对位标记均制作在彩膜基板的黑矩阵上，而且透明半导体层的对位标记和第一保护层的对位标记均采用遮光材料制成，因此，当对透明半导体层进行对位时，透明半导体层的对位标记与彩膜基板的玻璃基板具有显著的对比度，且对第一保护层进行对位时，第一保护层的对位标记与透明半导体层的对比度比较大；因此，曝光机在对位曝光是能够清楚的识别透明半导体层的对位标记和第一保护层的对位标记；而金属层的对位标记位是由光刻胶制成的，且因为采用光刻胶制成的金属层的对位标记较厚，因此，在对金属层进行对位曝光时，虽然金属层已经将金属层的对位标记覆盖，但是金属层的对位标记在曝光机所发出的强光下具有显著的凹凸感，使得曝光机够清楚的识别。
[0020]另外，本发明提供的OnCell结构触摸显示屏的制作方法中，第二保护层的对位标记是由反光材料制成，曝光机在对位曝光时通过由反光材料制成的对位标记的反光，即可成功识别第二保护层的对位标记。
[0021]因此，本发明通过对对位标记所在的位置以及其所采用的材料的限定，就可以使曝光机在多层触摸层对位曝光时，成功的识别各层的对位标记，提高了多层触摸层与液晶显示屏的对位精度低，避免在对多层触摸层对位曝光过程中，出现曝光机报错率高的问题。
【附图说明】
[0022]此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解，构成本发明的一部分，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中:
[0023]图1为本发明实施例提供的多层触摸层与彩膜基板以及偏光片的连接关系示意图；
[0024]图2为图1中透明半导体层的对位标记和第一保护层的对位标记示意图；
[0025]图3为图1中金属层的对位标记示意图；
[0026]图4为图1中第二保护层的对位标记示意图；
[0027]附图标记:
[0028]1-彩膜基板，21-透明半导体层；
[0029]210-透明半导体层的对位标记，22-第一保护层；
[0030]220-第一保护层的对位标记，22B-第一保护层的上表面；
[0031]23-金属层，230-金属层的对位标记；
[0032]23B-金属层的上表面，24-第二保护层；
[0033]240-第二保护层的对位标记；3-偏光片。
【具体实施方式】
[0034]为了进一步说明本发明实施例提供的On Cell结构触摸显示屏及其制作方法、显示装置，下面结合附图对本发明做进一步详细说明。
[0035]请参阅图1，本发明实施例提供的On Cell结构触摸显示屏的制作方法，具体包括:在彩膜基板I和偏光片3之间沿光线传播方向依次制作透明半导体层21、第一保护层22、金属层23和第二保护层24 ;其中，
[0036]请参阅图2-4，透明半导体层的对位标记210和第一保护层的对位标记220均制作在彩膜基板I的黑矩阵上；透明半导体层的对位标记210和第一保护层的对位标记220所采用的材料均为遮光材料；金属层的对位标记230采用光刻胶制成；第二保护层的对位标记240采用反光材料制成。
[0037]本实施例提供的On Cell结构触摸显示屏的制作方法中，透明半导体层的对位标记210和第一保护层的对位标记220均制作在彩膜基板I的黑矩阵上，而且透明半导体层的对位标记210和第一保护层的对位标记220均采用遮光材料制成，因此，当对透明半导体层21进行对位时，透明半导体层的对位标记210与彩膜基板I的玻璃基板具有显著的对比度，且对第一保护层22进行对位时，第一保护层的对位标记220与透明半导体层21的对比度比较大；因此，曝光机在对位曝光是能够清楚的识别透明半导体层的对位标记210和第一保护层的对位标记220;而金属层的对位标记位230是由光刻胶制成的，且因为采用光刻胶制成的金属层的对位标记230较厚，因此，在对金属层23进行对位曝光时，虽然金属层23已经将金属层的对位标记230覆盖，但是金属层的对位标230在曝光机所发出的强光下具有显著的凹凸感，使得曝光机够清楚的识别。
[0038]另外，本实施例提供的On Cell结构触摸显示屏的制作方法中，第二保护层的对位标记240是由反光材料制成，曝光机在对位