示例性说明，但本发明对存储环境中掩模板的放入数量并不作限定。
[0032]通常的掩模板12包括基板14，并在基板14具有光刻图形的一侧表面贴有保护膜13，一起组成了掩模板12。保护膜13具有微小的气孔，以避免在基板14表面与其之间产生水汽聚集。
[0033]在进行掩模板12存储时，使其有保护膜13的一面面对紫外光光源11放置。
[0034]如框02所示，步骤S02:对掩模板表面进行紫外光照射。
[0035]请继续参阅图2。掩模板12进入存储环境10后，即可打开紫外光发生装置(即紫外光光源)11，使其产生紫外光，对掩模板12表面进行紫外光照射。较佳的，当紫外光从掩模板12的保护膜13—侧向基板14方向照射时，由于保护膜13和基板14的透光性，可以确保掩模板12上的所有图形区域也被照射到。
[0036]本发明所使用的紫外光使用广泛，紫外光的波长可包含所有的紫外线波长，此类发生装置类型多，因此使用成本较低。作为优选，所述紫外光的波长可采用接近于掩模板在使用过程中的实际曝光光波波长，例如可为193纳米。因此，在进行紫外光照射时，对掩模板的伤害也是最低的，可以避免其它光源对保护膜的破坏。
[0037]作为进一步的实施方式，照射的紫外光光源11可以为点状或者发散状，但必须要能够照射到存储环境中存放的所有掩模板的全部区域。为此，当紫外光光源为点状紫外光时，可实施对掩模板表面进行紫外光扫描照射，以便使掩模板表面的全部区域都受到紫外光的照射。如果紫外光光源11采用图示的发散状紫外光(如图中空心箭头方向所指)时，更可对掩模板12的整体表面同时进行均衡的紫外光照射。当然，也可以在存储环境中安装多个紫外光发生装置，来满足对多个掩模板的同时处理需求。
[0038]作为另外可选的实施方式，还可以采用对掩模板的所有表面区域进行紫外光持续照射或者周期性照射的方式进行处理，以便使掩模板表面存在的有机物结晶能够及时地被分解为气体状态。
[0039]如框03所示，步骤S03:对存储环境进行气体置换。
[0040]请继续参阅图2。有机物结晶体具有可以被紫外光激发后分解成气体成分的特性。因此，当掩模板12的表面区域受到紫外光不断的照射时，所有被紫外光照射到的区域环境内的有机物结晶就会持续的分解成气体。然后，这些气体就会从掩模板保护膜13上的气孔溢出。这时，就可以通过气体管路，向存储环境10中通入置换气体，用于对存储环境进行气体置换(如图中自左向右的实心箭头方向所指)。其中，所述置换气体可以采用干燥纯化空气或者氮气，并可向存储环境10中进行持续通入。有机物结晶分解成的气体将被干燥纯化空气或者氮气逐渐排出存储环境，这样就可以有效地降低有机物结晶的发生和积累。
[0041]实际上，在对掩模板进行紫外光照射处理的同时，甚至是之前，就可以向存储环境中持续通入置换气体，以增强气体置换的效果。
[0042]在应用本发明所公开的上述存储方法时，只需对现有大部分存储系统进行增加紫外光光源的改造即可，避免了大规模的改造和改变。
[0043]综上所述，本发明通过对放置在存储环境中的掩模板所有表面区域进行紫外光持续照射或者周期性照射，可将掩模板上的有机物结晶激发分解为气体状态，并被存储环境中充入的置换气体排净，从而可有效地降低掩模板的有机物结晶缺陷，保障了掩模板的存放和使用安全，并延长了掩模板的使用寿命。
[0044]以上所述的仅为本发明的优选实施例，所述实施例并非用以限制本发明的专利保护范围，因此凡是运用本发明的说明书及附图内容所作的等同结构变化，同理均应包含在本发明的保护范围内。
【主权项】
1.一种掩模板的存储方法，其特征在于，包括以下步骤: 步骤SOI:将掩模板放入一存储环境中； 步骤S02:对掩模板表面进行紫外光照射； 步骤S03:对存储环境进行气体置换。2.根据权利要求1所述的掩模板的存储方法，其特征在于，通过在所述存储环境设置紫外光光源产生紫外光，对掩模板表面进行紫外光照射。3.根据权利要求2所述的掩模板的存储方法，其特征在于，通过在所述存储环境设置紫外光光源产生点状紫外光，对掩模板表面进行紫外光扫描照射。4.根据权利要求2所述的掩模板的存储方法，其特征在于，通过在所述存储环境设置紫外光光源产生发散状紫外光，对掩模板整体表面同时进行紫外光照射。5.根据权利要求1-4任意一项所述的掩模板的存储方法，其特征在于，所述紫外光的波长包含所有的紫外线波长。6.根据权利要求5所述的掩模板的存储方法，其特征在于，所述紫外光的波长为193纳米。7.根据权利要求1-4任意一项所述的掩模板的存储方法，其特征在于，对掩模板表面进行紫外光持续照射或者周期性照射。8.根据权利要求1-4任意一项所述的掩模板的存储方法，其特征在于，所述掩模板包括基板，所述基板具有图形的一侧表面设有保护膜，所述保护膜带有气孔，紫外光照射方向为从掩模板的保护膜一侧向基板方向照射。9.根据权利要求1-4任意一项所述的掩模板的存储方法，其特征在于，通过向存储环境中持续通入置换气体，对存储环境进行气体置换。10.根据权利要求9所述的掩模板的存储方法，其特征在于，所述置换气体包括干燥纯化空气或者氮气。
【专利摘要】本发明公开了一种掩模板的存储方法，通过对放置在存储环境中的掩模板表面区域进行紫外光照射，可将掩模板上的有机物结晶激发分解为气体状态，并被存储环境中充入的置换气体排净，从而可有效地降低掩模板的有机物结晶缺陷，保障掩模板的存放和使用安全，并延长掩模板的使用寿命。
【IPC分类】G03F1/82
【公开号】CN105573051
【申请号】CN201610163757
【发明人】马兰涛, 朱骏, 张旭升
【申请人】上海华力微电子有限公司
【公开日】2016年5月11日
【申请日】2016年3月22日