电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备的制造方法

文档序号:9825714阅读:661来源:国知局
电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备的制造方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备。
【背景技术】
[0002] 电子照相设备使用者如今已经多样化。期望的是电子照相设备能够在使用期间输 出比以往更高的品质的图像而不改变图像品质。因此,还期望的是引入这样的电子照相设 备中的电子照相感光构件对应于这些需求。
[0003] 为了从开始起经过长时间仍形成高品质图像,日本专利特开No. 2013-142705公 开了包括具有表面层的感光层的电子照相感光构件,所述表面层含有100质量ppm至2500 质量ppm的芳族经类。
[0004] 为了抑制感光度的劣化,日本专利特开No. 2004-4159公开了包括含有相对于固 成分含量的含量在3000ppm至50000ppm的范围内的饱和脂环族酮的感光层的电子照相感 光构件。
[0005] 为了抑制电位变动,日本专利特开No. 7-5703公开了包括含有0.05重量%至10. 0 重量%的环戊酮的光导电层(感光层)的电子照相感光构件。
[0006] 电子照相设备的应用在扩大。一些电子照相设备开始用于快速打印而不是限定于 在办公室中的使用。因此,期望适合于高速处理的电子照相感光构件。
[0007] 然而,当日本专利特开No. 2013-142705中公开的电子照相感光构件用于在与普 通处理中基本上相同的图像曝光光量的情况下的高速处理时,电子照相感光构件显示出差 的感光度,并且未获得期望的亮部电位。
[0008] 日本专利特开No. 2004-4159和No. 7-5703中公开的电子照相感光构件在一些情 况下也显示出相同的缺点。

【发明内容】

[0009] 本公开内容提供更高度感光的电子照相感光构件、以及引入更高度感光的电子照 相感光构件的处理盒和电子照相设备。
[0010] 根据本公开内容的一方面,提供了包括支承构件、以及配置在支承构件上的电荷 产生层和电荷输送层的电子照相感光构件。电荷输送层含有(α)电荷输送化合物;(β) 相对于所述电荷输送化合物的质量,比例在50质量%至200质量%的范围内的粘结树脂; (γ)相对于所述电荷输送层的总质量,含量在0. 01质量%至2. 00质量%的范围内的为二 甲苯和甲苯中至少之一的化合物,和(δ )相对于所述电荷输送层的总质量,含量在〇. 〇1质 量%至1. 20质量%的范围内的环烧酮。
[0011] 根据本公开内容的另一方面,提供了能够可拆卸地安装至电子照相设备的处理 盒。处理盒包括上述电子照相感光构件;和选自由充电装置、显影装置、转印装置和清洁装 置组成的组的至少一种装置。电子照相感光构件与所述装置被一体化地保持。
[0012] 此外,还提供电子照相设备。电子照相设备包括上述电子照相感光构件、充电装 置、曝光装置、显影装置、和转印装置。
[0013] 本发明的进一步特征将参考附图从以下示例性实施方案的描述中变得明显。
【附图说明】
[0014] 附图为设置有包括根据本发明实施方案的电子照相感光构件的处理盒的电子照 相设备的结构的示意图。
【具体实施方式】
[0015] 如上所述,这里公开的电子照相感光构件包括支承构件和感光层,所述感光层包 括在支承构件上的电荷输送层,并且电荷输送层含有上述组分(α )、( β )、( γ)和(S )。在 以下描述中,组分(α)、(β)、(γ)和(δ)可以分别称为化合物α、树脂β、化合物γ和 化合物δ。电子照相感光构件可以简称为感光构件。
[0016] 相较于日本专利特开No. 2013-142705、No. 2004-4159和No. 7-5703,本公开内容 以电荷输送层至少含有各自为特定含量的二甲苯或(化合物γ)和环烷酮(化合物s)为 特征。
[0017] 本发明人推测含有各自为特定含量的化合物γ和δ的电荷输送层有效地提供更 高度感光的电子照相感光构件的原因如下。
[0018] 本发明人认为电荷输送物质(例如,具有二苯胺结构的电荷输送化合物)的电荷 输送性(空穴输送性)通过将特定量的化合物γ和S添加至电荷输送层来提高。因此, 即使潜像通过在低的发光能量下的曝光而形成,电荷输送物质也可以将产生的空穴输送至 电荷输送层的表面,因而感光构件可以显示出比已知的感光构件高的感光度。
[0019] 为了提高电荷输送层的空穴输送性,可以增加电荷输送物质与粘结树脂的比例。 可是鉴于感光构件的耐久性的劣化和用于形成感光构件的涂布液的贮存稳定性要限定可 变比例的范围。根据这里公开的构成,即使电荷输送层中电荷输送物质与粘结树脂的比例 与已知的感光构件中的相同,也可以提高电荷输送物质的空穴输送性。
[0020] 化合物α
[0021] 化合物α是电荷输送物质中至少之一。可以用于本公开内容的实施方案的电荷 输送物质包括三芳胺类化合物、腙类化合物、苯乙烯基化合物、芪类化合物和烯胺类化合 物。这些化合物是具有二苯胺结构的电荷输送化合物。
[0022]
[0023] 通式(Α)中,Ph1和Ph 2各自表示取代或未取代的苯基。
[0024] 期望地,化合物α由式(A-1)至(A-9)中任一个表示,并且分子量为3000以下。更 期望地,化合物α是具有由下述通式(Β)表示的部分结构的电荷输送物质,如化合物(Α-1) 至(Α-3)、(Α-5)和(Α-6)。化合物(Α-1)至(Α-3)是特别期望的。
[0025]
[0026] 通式(B)中,Ph1和Ph 2各自表示取代或未取代的苯基,Ar1表示取代或未取代的芳 基。


[0030] 树脂 β
[0031] 树脂β是粘结树脂,并且其实例包括聚酯树脂、丙烯酸类树脂、聚乙烯基咔唑树 月旨、苯氧基树脂、聚碳酸酯树脂、聚乙烯醇缩丁醛树脂、聚苯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、 聚砜树脂、聚丙烯酸酯树脂、偏二氯乙烯-丙烯腈共聚物、和聚(乙烯基亚苄基)树脂。这 些粘结树脂可以单独使用,或者可以作为混合物或共聚物组合使用。
[0032] 如果聚碳酸酯树脂用作粘结树脂,则具有由下述通式(C)表示的重复结构单元的 聚碳酸酯树脂是有益的。如果聚酯树脂用作粘结树脂,则具有由下述通式(D)表示的重复 结构单元的聚酯树脂是有益的。
[0033]
[0034] 通式(C)中,R11至R 14各自表示氢或甲基。X1表示单键、亚环己基或由以下通式 (Ε)表示的二价基团。式(D)中,R 21至R24各自表示氢或甲基。X2表示单键、亚环己基或由 以下通式(Ε)表示的二价基团。Υ 1表示间亚苯基、对亚苯基或通过将两个对亚苯基与氧原 子键合而形成的二价基团。
[0035]
[0036] 通式(E)中,R31和R32各自表示氢、甲基、或苯基。由通式(C)表示的聚碳酸酯树 脂的重复结构单元的实例如下:

[0039] 聚碳酸酯树脂可以是重复结构单元(C-1)至(C-8)中任一个的均聚物,或这些重 复结构单元中任两个或多个的共聚物。重复结构单元(C-l)、(C-2)和(C-4)是更有益的。
[0040] 由式⑶表示的聚酯树脂的重复结构单元的实例如下:


[0044] 聚酯树脂可以是重复结构单元(D-1)至(D-9)中任一个的均聚物,或这些重复结 构单元中任两个或多个的共聚物。重复结构单元(D-l)、(D-2)、(D-3)、(D-6)、(D-7)和 (D-8)是更有益的。
[0045] 聚碳酸酯树脂和聚酯树脂可以通过例如已知的光气法来合成。合成可以通过酯交 换来进行。
[0046] 如果聚碳酸酯或聚酯树脂是共聚物,则其可以为任何形式,如嵌段共聚物、无规共 聚物或交替共聚物。
[0047] 聚碳酸酯或聚酯树脂的重均分子量可以在20000至300000的范围内,如50000至 250000。这里提到的重均分子量是指通过日本专利特开No. 2007-79555中公开的方法测量 的聚苯乙烯换算的重均分子量。
[0048] 作为树脂β的聚碳酸酯树脂或聚酯树脂可以是除了由式(C)或(D)表示的重复 结构单元以外还具有包括硅氧烷结构的重复结构的共聚物。例如,这样的结构单元可以由 下式(F-1)或(F-2)表示。树脂β可以具有由式(F-3)表示的重复结构单元。

[0051 ] 用于电荷输送层中的粘结树脂不限于聚碳酸酯树脂或聚酯树脂,并且可以具有由 以下示出的式(G-1)表示的结构。此外,粘结树脂可以含有具有通过下述方法合成的硅氧 烷结构的树脂。
[0052]
[0053] 硅氣烷树脂的合成
[0054] 在10%氢氧化钠水溶液中溶解12. 0g由以下示出的式(h-Ι)表示的二醇。将二氯 甲烷添加至所得溶液,接着搅拌,并且将15g光气经1小时吹入溶液同时将溶液保持在10°C 至15°C范围内的温度下。当已吹入约70%的光气时,将4. 2g由式(h-2)表示的硅氧烷衍 生物和4. 0g由式(h-3)表示的二醇添加至溶液中。在完成引入光气之后,将反应液猛烈搅 拌用于乳化,然后添加三乙胺。将混合物搅拌1小时。然后,将二氯甲烷相用磷酸中和,并 且进一步用水冲洗直至pH达到约7。随后,将所得液相滴入异丙醇中,并且沉淀物通过过滤 收集且干燥从而得到白色聚合物(树脂A3)。所得树脂A3的重均分子量为20, 000。
[0055]
[0056] 表1示出树脂β的实例。
[0057] 表 1
[0058]
[0059] 如果必要,电荷输送层可以进一步含有抗氧化剂、紫外线吸收剂、增塑剂、硅油或 任何其他添加剂。
[0060] 期望地,电荷输送层中树脂β与化合物α的比例在50质量%至200质量%的范 围内。当该比例小于50质量%时,感光构件显示出低的耐久性;并且当该比例为200%以 上时,感光构件显示出低的感光度。如果电荷输送层由单层构成,则电荷输送层的厚度期望 在6μηι至40μηι的范围内,如在8 μπι至35 μπι的范围内。如果电荷输送层具有多层结构, 则更靠近支承构件的电荷输送层的厚度期望在6 μ m至30 μ m的范围内,而更靠近感光构件 的表面的电荷输送层的厚度期望在6 μ m至10 μ m的范围内。
[0061] 化合物γ
[0062] 化合物γ是二甲苯和甲苯中至少之一。二甲苯可以是邻二甲苯、间二甲苯、对二 甲苯、或这些异构体的混合物。在本公开内容的实施方案中,可以使用任意的二甲苯。然而, 邻二甲苯是有益的。
[0063] 为了产生满意的效果,电荷输送层中化合物γ的含量相对于电荷输送层的总质 量在0
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