显示面板的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种显示面板，尤其涉及一种具有非矩形显示区域的显示面板。
【背景技术】
[0002]—般而言，显示装置的显示区域是以矩形为主，例如方形、长方形或正方形。然而，由于显示装置的应用领域多元化，显示区域的形状逐渐由矩形衍生为非矩形，例如圆形、椭圆形、半圆形等不规则形状。当画素配置于非矩形的显示区域中时，显示区域的边缘可能会出现锯齿状，并且当画素的尺寸不够小，显示区域边缘的锯齿状会更加明显，以致于会影响显示装置的显示品味。若要优化锯齿状的问题，可将画素以更微观地依不同位置及不同曲率进行配置，但是在画素无法微小化时，锯齿状的情况仍无法完全消除。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型提供一种显示面板，可通过黑矩阵遮蔽显示区域外的部分、以避免使用者看到非矩形显示区域中像素所形成的锯齿状边缘，进而优化显示面板的显示品味。
[0004]本实用新型的显示面板包括画素阵列及黑矩阵。画素阵列具有以阵列排列的多个画素。黑矩阵配置于画素阵列上，且在部分的画素上形成弧状边缘以遮蔽这些画素中超出显示面板的一显示区域的部分，其中显示区域为非矩形区域。
[0005]在本实用新型的一实施例中，显示面板还包括一主动阵列基板及一彩色滤波基板，并且画素阵列位于主动阵列基板与彩色滤波基板之间。并且，黑矩阵形成于彩色滤波基板。
[0006]在本实用新型的一实施例中，彩色滤波基板还包括多个彩色滤波片，并且黑矩阵与彩色滤波片形成于彩色滤波基板上的同一侧。
[0007]在本实用新型的一实施例中，彩色滤波基板还包括多个彩色滤波片，并且黑矩阵与彩色滤波片分别形成于彩色滤波基板上的相对两侧。
[0008]在本实用新型的一实施例中，显示面板还包括一透明盖板，并且画素阵列与彩色滤波基板位于主动阵列基板与透明盖板之间。并且，黑矩阵形成于该透明盖板上，即黑矩阵可形成于透明盖板且相对于一显示面。
[0009]在本实用新型的一实施例中，黑矩阵还定义画素的透光区域。
[0010]在本实用新型的一实施例中，画素为多个液晶画素。
[0011]基于上述，在本实用新型实施例的显示面板中，由于形成弧状边缘的黑矩阵会遮蔽画素超出显示区域所形成的锯齿状边缘。藉此，可避免使用者看到非矩形显示区域中像素所形成的锯齿状边缘，以优化显示面板的观看体验。
[0012]为让本实用新型的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合附图作详细说明如下。
【附图说明】
[0013]图1是根据本实用新型一实施例的部分显示面板的俯视示意图；
[0014]图2是根据本实用新型一实施例的显示面板的结构示意图；
[0015]图3是根据本实用新型另一实施例的显示面板的结构示意图；
[0016]图4是根据本实用新型又一实施例的显示面板的结构示意图。
[0017]附图标记说明:
[0018]100、200、300、400:显示面板；
[0019]110:画素阵列；
[0020]120、120a、120b、120c、120d:黑矩阵；
[0021]130:主动阵列基板；
[0022]140a、140b:彩色滤波基板；
[0023]141:基板；
[0024]143:彩色滤波片；
[0025]145:电极层；
[0026]150:透明盖板；
[0027]AA:显示区域；
[0028]AT:透光区；
[0029]SDP:显示面；
[0030]PX:画素。
【具体实施方式】
[0031]图1是根据本实用新型一实施例的部分显示面板的俯视示意图。请参照图1，在本实施例中，显示面板100包括画素阵列110及黑矩阵120。画素阵列110具有以阵列排列的多个画素PX，并且在显示面板100的显示区域AA为非矩形时，例如圆形、椭圆形、半圆形等不规则形状，为了填满显示区域AA，部分画素PX可能会超出显示区域AA。因此，黑矩阵120会配置于画素阵列110上，且在部分的画素PX上形成弧状边缘以遮蔽画素PX中超出显示面板100的显示区域AA的部分。换言之，由于黑矩阵120遮蔽了画素PX超出显示区域AA的部分，因此使用者只会看到黑矩阵120所形成的弧状边缘，但不会看到画素阵列110所形成的锯齿状边缘。藉此，可避免使用者看到非矩形显示区域中像素所形成的锯齿状边缘，以优化显示面板的观看体验。
[0032]在本实施例中，画素PX可以是液晶画素，并且黑矩阵120配置于画素PX上，以遮蔽画素PX的走线部分，进而避免画素PX中的走线影响显示面板100的显示品质。换言之，黑矩阵120也定义了画素PX的透光区AT。其中，画素PX的走线部分例如包括扫描线(未示出)、资料线(未示出)、形成储存电容(未示出)的走线、以及主动元件(例如晶体管)，上述为举例以说明，本实用新型的实施例不以此为限。
[0033]在本实用新型的实施例中，黑矩阵120可以是金属铬(Cr)黑矩阵、树脂型黑矩阵、无电解电镀镍(Ni)黑矩阵、或者石墨(Graphite)黑矩阵。当黑矩阵120为金属铬黑矩阵时，黑矩阵120的形成流程为将铬涂布在基板上、洗净含铬基板、干燥含铬基板、将光阻涂布在含铬基板上、烘烤光阻、洗净含光阻及铬的基板、进行光阻剥离、对铬进行蚀刻、进行显影、进行曝光、洗净含铬基板、以及干燥含铬基板。当黑矩阵120为树脂型黑矩阵时，黑矩阵120的形成流程为洗净基板、将树脂旋转涂布(Spin Coating)于基板上、对基板进行预烤(Pre-bake) 、对基板进行曝光 (Exposure )、 对基板进行显影(Developing) 、 以及对应基板进行曝后烤(Post-bake)。当黑矩阵120为无电解电镀镍黑矩阵时，黑矩阵120的形成流程为将感光性树脂旋转涂布于基板上、对光阻进行曝光、对光阻进行显影、通过氯化钯(PdC12)水溶液将镍镀于基板上。当黑矩阵120为石墨黑矩阵时，黑矩阵120的形成流程为将光阻沉积于基板上、对光阻进行曝光、对光阻进行显影、将石墨沉积于光阻与基板上、以及将光阻剥离，或者黑矩阵120的形成流程也可以为将石墨沉积于基板上、以及对石墨进行蚀刻，其中蚀刻可以分是湿蚀刻(wet etching)或干蚀刻(dry etching)。图2是根据本实用新型一实施例的显示面板的结构示意图。请参照图1及图2，其中相同或相似元件使用相同或相似标号。在本实施例中，显示面板200包括画素阵列110、主动阵列基板130及彩色滤波基板140a，其中画素阵列110是位于主动阵列基板130与彩色滤波基