一种光学元件激光预处理系统的制造方法与工艺

本发明涉及光学材料激光预处理领域，具体而言，涉及一种光学元件激光预处理系统。

背景技术：
为了提高光学元件的激光损伤性能，通常在元件上架之前，用低于损伤阈值的激光能量对元件通光区域进行激光预处理，即用激光光束对光学元件进行辐照。通过激光预处理，元件损伤阈值最高可提升1到2倍，如此大幅度的损伤性能提升对于光学元件的应用来说具有重要意义，目前，激光预处理已成为高功率激光系统光学元件上架前的必要步骤。预处理过程中，激光脉冲的辐照通量需要从低到高逐渐增加，以避免元件可能出现的激光损伤。影响激光预处理效果的关键参数有：初始辐照通量、辐照通量增加幅度、每个通量下对元件的辐照发次、最高辐照通量。大量研究表明，辐照通量增幅(能量台阶)越小、元件被辐照发次(遍数)越多、最大辐照通量越高(不发生损伤的前提下)，预处理效果就越好。所以，为了获得好的预处理效果，需要用尽可能小的能量台阶对元件进行多发次的辐照。而激光系统中的元件口径可达几百毫米，要处理完一块元件，需要辐照的发次是相当可观的。如此多的辐照发次不仅耗时耗力，对于激光器的消耗也会使运行成本增加。

技术实现要素：
鉴于此，本发明的目的在于提供一种光学元件激光预处理系统，以改善上述问题。为了实现上述目的，本发明实施例采用的技术方案如下：第一方面，本发明实施例提供了一种光学元件激光预处理系统，包括光源装置、检偏器及反射装置，待处理样品设置在所述检偏器及所述反射装置之间的光传播路径中。所述光源装置输出的预处理激光光束入射到所述检偏器，透过所述检偏器的预处理激光光束入射至所述待处理样品的预设处理点，透过所述待处理样品的预处理激光光束经所述反射装置反射后再次入射至所述待处理样品的预设处理点，透过所述待处理样品的预处理激光光束经所述检偏器出射。结合第一方面，本发明还提供了第一方面的第一种可能实施方式，其中，所述光学元件激光预处理系统还包括偏振旋转器，所述偏振旋转器设置在所述检偏器与所述待处理样品之间。所述偏振旋转器用于将每次射入的预处理激光光束的偏振态在线偏振光与圆偏振光之间转换，直至由所述偏振旋转器入射到所述检偏器的预处理激光光束的偏振方向与所述检偏器的透振方向平行。结合第一方面或第一方面的第一种可能实施方式，本发明还提供了第一方面的第二种可能实施方式，其中，所述光学元件激光预处理系统还包括用于调节所述待处理样品的位置的平移台，所述待处理样品设置在所述平移台上。结合第一方面的第二种可能实施方式，本发明还提供了第一方面的第三种可能实施方式，其中，所述平移台的调节步长小于或等于入射到待处理样品的预处理激光光斑直径的预设倍数。结合第一方面的第三种可能实施方式，本发明还提供了第一方面的第四种可能实施方式，其中，所述预设倍数为结合第一方面的第二种可能实施方式，本发明还提供了第一方面的第五种可能实施方式，其中，所述平移台为二维电动平移台。结合第一方面，本发明还提供了第一方面的第六种可能实施方式，其中，所述光源装置包括激光器和光准直器，所述激光器发出的预处理激光光束经所述光准直器准直后入射到所述检偏器。结合第一方面，本发明还提供了第一方面的第七种可能实施方式，其中，所述光学元件激光预处理系统还包括偏振旋转器，所述偏振旋转器设置在所述待处理样品与所述反射装置之间，所述偏振旋转器用于将每次射入的预处理激光光束的偏振态在线偏振光与圆偏振光之间转换，直至由所述偏振旋转器入射到所述待处理样品的预设处理点的预处理激光光束的偏振方向与所述检偏器的透振方向平行。结合第一方面，本发明还提供了第一方面的第八种可能实施方式，其中，所述反射装置为激光高反镜。结合第一方面，本发明还提供了第一方面的第九种可能实施方式，其中，所述光学元件激光预处理系统还包括激光光束吸收装置，所述激光光束吸收装置设置于所述检偏器的靠近所述光源装置的一侧。本发明实施例提供的光学元件激光预处理系统通过设计检偏器及反射装置，使得预处理激光光束两次透过待处理样品，每一次透过待处理样品时均对待处理样品正面的第一预设处理点、待处理样品背面的第二预设处理点以及待处理样品内部相应的第一预设处理点和第二预设处理点之间预处理激光光束经过的区域进行激光预处理，有效地提高了光学元件的激光预处理效率，降低了光学元件激光预处理的成本。此外，本发明实施例在检偏器及反射装置的基础上还增设了偏振旋转器，使得预处理激光光束四次透过待处理样品，进一步提高了光学元件的激光预处理效率。本发明的其他特征和优点将在随后的说明书阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本发明实施例而了解。本发明的目的和其他优点可通过在所写的说明书、权利要求书、以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。附图说明为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。通过附图所示，本发明的上述及其它目的、特征和优势将更加清晰。在全部附图中相同的附图标记指示相同的部分。并未刻意按实际尺寸等比例缩放绘制附图，重点在于示出本发明的主旨。图1示出了本发明实施例提供的一种光学元件激光预处理系统的结构示意图；图2示出了本发明实施例提供的另一种光学元件激光预处理系统的结构示意图；图3示出了本发明实施例提供的第三种光学元件激光预处理系...