本实用新型属于激光加工技术领域,特别是涉及一种具有激光功率实时反馈的紫外激光器加工装置。
背景技术:
目前市场紫外激光器性能参差不齐,故在批量生产时会出现出光功率不一致的情况,从而导致产品生产参数不一致的质量事故的发生;现有技术中的激光器控制系统中采用串口通讯,抗干扰能力较弱;且光路采样器件多采用热电堆采样,其采样速度较慢,对实时性采样要求无法满足,导致系统无法进行闭环控制,只能实现简单的监控。
因此,有必要提供一种新的具有激光功率实时反馈的紫外激光器加工装置来解决上述问题。
技术实现要素:
本实用新型的主要目的在于提供一种具有激光功率实时反馈的紫外激光器加工装置,抗干扰能力强,能够实时监控激光功率,能够有效控制激光器光量,保证产品质量。
本实用新型通过如下技术方案实现上述目的:一种具有激光功率实时反馈的紫外激光器加工装置,其包括上位机、与所述上位机电信号连接的紫外激光器、将所述紫外激光器发射出的激光进行垂直反射的第一45°全反透镜以及位于所述第一45°全反透镜背面的且与所述上位机电信号连接的功率反馈系统,所述功率反馈系统包括将所述第一45°全反透镜中的光信号转换成电信号的光电转换装置、与所述光电转换装置电信号连接的调理电路以及与所述调理电路电信号连接的控制器。
进一步的,还包括将所述第一45°全反透镜反射出的激光进行垂直反射的第二45°全反透镜以及将所述第二45°全反透镜反射出的激光进行垂直反射的聚焦镜。
进一步的,所述控制器包括串口通讯模块以及TCP/IP处理模块。
进一步的,所述串口通讯模块与所述上位机通讯连接。
进一步的,所述光电转换装置为光电转换二极管。
进一步的,所述光电转换装置安装在所述第一45°全反透镜的背面。
与现有技术相比,本实用新型一种具有激光功率实时反馈的紫外激光器加工装置的有益效果在于:实现了闭环控制,保证了激光器功率输出实时可控,确保了激光功率输出的一致性与稳定性。具体的,通过设置TCP/IP处理模块,采用TCP/IP通讯方式提高了抗干扰能力且方便设备联网控制;采用光电转换二极管,实现了采样速度达到ms级转换速度,配合网口通讯完全满足实时闭环控制条件;光路设计采样放置于透过率99.8%全反透镜后部,很好的实现了针对各个功率大小的紫外激光器光量的控制,由于光电转换二极管对光强的采样线性区间较小,因此实现了功率与电信号的线性对应关系。
【附图说明】
图1为本实用新型实施例的控制示意图;
图2为本实用新型实施例中功率反馈系统的模块控制示意图;
图中数字表示:
100具有激光功率实时反馈的紫外激光器加工装置;1上位机;2紫外激光器;3第一45°全反透镜;4功率反馈系统,41光电转换装置,42调理电路,43控制器,431串口通讯模块,432TCP/IP处理模块;5第二45°全反透镜,6聚焦镜,7加工区域。
【具体实施方式】
实施例:
请参照图1-图2,本实施例为具有激光功率实时反馈的紫外激光器加工装置100,其包括上位机1、与上位机1电信号连接的紫外激光器2、将紫外激光器2发射出的激光进行垂直反射的第一45°全反透镜3、位于第一45°全反透镜3背面的且与上位机1电信号连接的功率反馈系统4、将第一45°全反透镜3反射出的激光进行垂直反射的第二45°全反透镜5以及将第二45°全反透镜5反射出的激光进行垂直反射的聚焦镜6。
聚焦镜6将激光透射到加工区域7。
功率反馈系统4包括将第一45°全反透镜3中的光信号转换成电信号的光电转换装置41、与光电转换装置41电信号连接的调理电路42以及与调理电路42电信号连接的控制器43。控制器43包括串口通讯模块431以及TCP/IP处理模块432。串口通讯模块431与上位机1通讯连接。光电转换装置41为光电转换二极管。光电转换装置41安装在第一45°全反透镜3的背面。
本实施例具有激光功率实时反馈的紫外激光器加工装置100的工作原理为:通过对45°全反透镜后部安装的方式实现对激光进行实时采样,并通过光电转换二极管转换为电信号,通过调理电路转化为控制器所接受的电压信号,控制器通过内部运算将采样数据进行收集处理,待上位机发来采样信号后将采样数据反馈于上位机,上位机通过实时判断采样数据进行实时闭环控制。
本实施例具有激光功率实时反馈的紫外激光器加工装置100的有益效果在于:实现了闭环控制,保证了激光器功率输出实时可控,确保了激光功率输出的一致性与稳定性。具体的,通过设置TCP/IP处理模块,采用TCP/IP通讯方式提高了抗干扰能力且方便设备联网控制;采用光电转换二极管,实现了采样速度达到ms级转换速度,配合网口通讯完全满足实时闭环控制条件;光路设计采样放置于透过率99.8%全反透镜后部,很好的实现了针对各个功率大小的紫外激光器光量的控制,由于光电转换二极管对光强的采样线性区间较小,因此实现了功率与电信号的线性对应关系。
以上所述的仅是本实用新型的一些实施方式。对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型创造构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围。