连续而不重合，且各烧蚀区域对应的反射子槽的深度(也即每次的烧蚀深度)依次增大。请参见图7-9，图7-9所示的为加工光波导反射镜过程中，对光波导烧蚀后光波导上形成的反射槽的截面图。图7为第一次对光波导烧蚀后，光波导上形成的反射槽的截面图，用方格表示该反射槽的大小，由图可见，第一次烧蚀后，反射槽的长度和深度都为一个方格的边长。第二次烧蚀区域与第一次烧蚀区域相邻，且没有重合，烧蚀深度为第一次烧蚀深度的两倍。请参考图8，图8为对光波导进行第二次烧蚀后，光波导上形成的反射槽的截面图。第三次烧蚀区域与第二次烧蚀区域相邻，且没有重合，烧蚀深度为第一次烧蚀深度的三倍。请参考图9，图9为对光波导进行第三次烧蚀后，光波导上形成的反射槽的截面图。从图9中可见，通过对光波导上进行多次相邻区域、深度加深的烧蚀操作，光波导上便形成了一个烧蚀深度逐渐增大的连续的阶梯型，在光波导上剩余的部分自然而然就形成了一个反射镜。
[0053]实施例二:
[0054]本实施例提供一种更具体的反射镜加工方法，在本实施例中，采用波长193nm的ArF准分子激光器进行反射镜的加工。准分子激光器可以选择不同形状的掩膜，这里选用边长为82 μ m长度的正方形掩膜。激光器的能量选用1.3 mj，频率为50Hz。采用上述实施例一中的示例一的方式烧蚀光波导，将小方块的长度设置为正方形掩膜的边长的1/13，此时激光打在光波导芯层和包层的深度与激光烧蚀次数为13次。本发明采用激光器沿直线烧蚀样品的方式。激光器穿过掩膜对光波导进行第一次烧蚀，烧蚀后在光波导的截面上形成的烧蚀部分为一个长度等于82um，深度等于82um/13的反射槽。激光器沿水平方向移动82um/13进行第二次烧蚀，烧蚀深度同样为82um/13，激光器再移动，再烧蚀，激光器一共对光波导烧蚀13次，移动12次，最后光波导上上形成的反射槽的截面形状如图2所示。可见，光波导被烧蚀出了两个45°的反射镜。
[0055]实施例三:
[0056]本实施例提供了一种光波导反射镜加工系统，请参见图10，该系统包括控制平台201和加工平台202 ;控制平台201用于在光波导的侧面确定至少两个连续的或至少部分重合的加工区域，并确定在各加工区域待加工形成反射子槽的槽深度；以及用控制加工平台202根据确定的各加工区域对应的反射子槽的深度，在各加工区域进行加工形成对应的反射子槽，各反射子槽相通形成至少有一个面为阶梯面的反射槽，将所述阶梯面作为光波导的反射镜。
[0057]在本实施例中，控制平台201可采用下述方法在光波导的侧面确定至少三个部分重合的加工区域:
[0058]在光波导上确定第一加工区域，在第一加工区域的基础上沿着光波导的轴向移动一定距离，且保证移动后的加工区域与第一加工区域有重合；在移动后的加工区域的基础上再沿相同方向移动一定距离，获得新的移动后的加工区域，且保证新的移动后的加工区域与之前的所有加工区域都有重合，重复执行上述移动操作从而确定多个加工区域。
[0059]在本实施例中，当控制平台201在光波导的侧面确定的加工区域为连续的时，确定连续的加工区域待加工形成反射子槽的槽深度依次增大。
[0060]实施例四:
[0061]本实施例提供了一种光波导，该光波导上设置有反射镜，反射镜采用上述实施例一和实施例二提供的的光波导反射镜加工方法制得。
[0062]以上内容是结合具体的实施方式对本发明所作的进一步详细说明，不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本发明的保护范围。
【主权项】
1.一种光波导反射镜加工方法，其特征在于，包括: 在光波导的侧面确定至少两个连续的或至少部分重合的加工区域，并确定在各加工区域待加工形成反射子槽的槽深度； 根据确定的各加工区域对应的反射子槽的深度，在各加工区域进行加工形成对应的反射子槽，各反射子槽相通形成至少有一个面为阶梯面的反射槽，将所述阶梯面作为光波导的反射镜。2.如权利要求1所述的光波导反射镜加工方法，其特征在于，当所述在光波导的侧面确定至少三个部分重合的加工区域时，该步骤包括: 在所述光波导上确定第一加工区域，在所述第一加工区域的基础上沿着光波导的轴向移动一定距离，获得移动后的加工区域，且保证移动后的加工区域与第一加工区域有重合；在移动后的加工区域的基础上再沿相同方向移动一定距离，获得新的移动后的加工区域，且保证新的移动后的加工区域与之前的所有加工区域都有重合，重复执行上述移动操作从而确定多个加工区域。3.如权利要求2所述的光波导反射镜加工方法，其特征在于，每次加工区域移动的距离s都相同和/或各加工区域对应的反射子槽的深度d都相同。4.如权利要求3所述的光波导反射镜加工方法，其特征在于，当每次加工区域移动的距离s都相同，且各加工区域对应的反射子槽的深度d都相同时，采用以下式子根据所需的反射镜与光波导的轴间的锐角Θ确定加工区域移动距离s和各加工区域对应的反射子槽的深度d的关系:tan Θ = d/s ο5.如权利要求1所述的光波导反射镜加工方法，其特征在于，当在光波导的侧面确定的加工区域为连续的时，所述确定在各加工区域待加工形成反射子槽的槽深度包括:确定所述连续的加工区域待加工形成反射子槽的槽深度依次增大。6.如权利要求2-5任一项所述的光波导反射镜加工方法，其特征在于，所述根据确定的各加工区域对应的反射子槽的深度，在各加工区域进行加工形成对应的反射子槽包括: 沿着同一个方向，根据确定的各加工区域对应的反射子槽的深度，逐次对各加工区域进行加工形成对应的反射子槽。7.如权利要求2-5任一项所述的光波导反射镜加工方法,其特征在于,每次确定的加工区域沿光波导的轴向的长度L都相同。8.一种光波导反射镜加工系统，其特征在于，包括控制平台和加工平台；所述控制平台用于在光波导的侧面确定至少两个连续的或至少部分重合的加工区域，并确定在各加工区域待加工形成反射子槽的槽深度；以及用控制加工平台根据确定的各加工区域对应的反射子槽的深度，在各加工区域进行加工形成对应的反射子槽，各反射子槽相通形成至少有一个面为阶梯面的反射槽，将所述阶梯面作为光波导的反射镜。9.如权利要求8所述的光波导反射镜加工系统，其特征在，所述控制平台采用下述方法在光波导的侧面确定至少三个部分重合的加工区域: 在所述光波导上确定第一加工区域，在所述第一加工区域的基础上沿着光波导的轴向移动一定距离，且保证移动后的加工区域与第一加工区域有重合；在移动后的加工区域的基础上再沿相同方向移动一定距离，获得新的移动后的加工区域，且保证新的移动后的加工区域与之前的所有加工区域都有重合，重复执行上述移动操作从而确定多个加工区域。10.如权利要求8所述的光波导反射镜加工系统，其特征在于，当所述控制平台在光波导的侧面确定的加工区域为连续的时，确定所述连续的加工区域待加工形成反射子槽的槽深度依次增大。11.一种光波导，其特征在于，所述光波导上设置有反射镜，所述反射镜采用上述权利要求1-7任一项所述的光波导反射镜加工方法制得。
【专利摘要】本发明提供了一种光波导反射镜加工方法、系统及光波导，该光波导反射镜加工方法包括：在光波导的侧面确定至少两个连续的或至少部分重合的加工区域，并确定在各加工区域待加工形成反射子槽的槽深度；根据确定的各加工区域对应的反射子槽的深度，在各加工区域进行加工形成对应的反射子槽，各反射子槽相通形成至少有一个面为阶梯面的反射槽，将阶梯面作为反射镜。本发明提供的方法通过在光波导上加工出至少有一个面为阶梯面的反射槽，并将阶梯面作为光波导的反射镜，从而加工出光波导的反射镜。在该方法中，不需要将光波导相对于加工机器倾斜放置，光波导一直处于水平放置状态，节省空间，且过程简单。
【IPC分类】B23K26/362, G02B6/122, B23K26/70
【公开号】CN105397300
【申请号】CN201410419210
【发明人】庞拂飞, 王廷云, 顾鑫, 贾娜娜, 张仁武, 赵丽, 刘哲, 王玉
【申请人】中兴通讯股份有限公司
【公开日】2016年3月16日
【申请日】2014年8月22日