一种立式胶囊抛光机及使用方法与流程

本发明属于胶囊抛光设备技术领域，特别涉及一种可同时抛光大量胶囊的立式胶囊抛光机，本发明还公开了立式胶囊抛光机的使用方法。

背景技术：

在生产中胶囊的外表面在灌装后都会带有若干细粉，这些细粉对胶囊的重量检验及药品的后续包装都有很大影响，如铝塑泡罩包装机在包装时由于药粒外表面附着大量的细粉，致使铝箔与塑料之间的粘合效果大大下降，达不到药品包装的要求，造成药品质量不合格或报废。胶囊抛光机是胶囊专用抛光设备，能除去胶囊表面上的粉尘，提高表面光洁度，适合于各种胶囊生产。

目前最为常用的胶囊抛光机为卧式胶囊抛光机，其靠中心滚轴固定的毛刷，带着胶囊旋转，毛刷不断触碰胶囊使胶囊表面的粉尘脱落，再通过吸尘器脱落的粉尘回收。卧式抛光机存在占用面积大、滚轴容易卡死等问题，影响了抛光效率和抛光质量。

为解决上述卧式胶囊抛光机的缺陷，一些厂家生产了立式胶囊抛光机，该抛光机从抛光筒下侧进料，胶囊通过一运动轨道板向上运输，同时采用转动轴上的毛刷对胶囊进行抛光处理，该立式抛光机很好地解决了卧式抛光机设备占用面积大，滚轴易卡死的问题，但通过运动轨道板向上运输胶囊存在一次性胶囊运输量有限，运输速度慢的问题，其不适用于大批量胶囊同时进行抛光的情况。

技术实现要素：

本发明的目的在于解决上述抛光机设备存在的缺陷，提供一种占地面积少、抛光效果好、抛光速度快的立式胶囊抛光机。

为了达到目的，本发明提供的技术方案为：

本发明涉及的一种立式胶囊抛光机包括抛光筒、动力装置和回收装置，所述的抛光筒设在一工作台上，抛光筒内壁设有若干层圆环状的挡板，挡板从外到内呈向下的倾斜坡度，所述的动力装置包括电机，电机上设有转动轴，转动轴上设有若干层圆环状的抛光板，抛光板从内到外呈向上的倾斜坡度，抛光板上设有抛光过滤孔，抛光板上表面还设有毛刷，抛光板与挡板交错布置；抛光筒底部设有倾斜的过滤网，过滤网四周与抛光筒内壁焊接连接，过滤网与抛光筒最低的连接点上侧设有胶囊出口，胶囊出口连接胶囊回收通道，过滤网与抛光筒最高的连接点下侧设有粉尘出口；所述的回收装置包括负风压装置和吸尘器，负风压装置通过负风压装置管道与胶囊回收通道连接，吸尘器通过吸尘器管道与粉尘出口连接；所述的抛光筒上侧还设有筒帽，筒帽上设有进料口。

作为优选，所述的抛光板的倾斜坡度为24.5°～35.5°，每一层抛光板的倾斜坡度均相同，抛光板与抛光筒内壁存在间隙，间隙大小大于两倍的胶囊粒径大小，但不大于抛光筒内径的1/4。

作为优选，所述的每一层抛光板的倾斜坡度也可均不相同，抛光板从上至下倾斜坡度依次变大或依次变小。不同的抛光坡度可使抛光力度的及抛光点有略微不同，适用于对各种粒径、各种质量的胶囊抛光，且能使抛光效果更好。

作为优选，所述的每一层挡板的倾斜坡度均与其上侧一层或下侧一层抛光板的倾斜坡度相同，挡板的内圈与转动轴之间存在间隙，间隙大小大于两倍的胶囊粒径大小，但大于抛光筒内径的1/4。

作为优选，所述的过滤网的倾斜角度为28.5°～37.5°，过滤网设有网孔，网孔的直径不得大于胶囊的粒径，防止胶囊穿过网孔与粉尘一起被吸尘器吸入。

作为优选，所述的抛光筒的内壁还设橡胶圈，橡胶圈外圈与抛光筒内壁粘贴连接。橡胶圈起到保护胶囊的作用，当胶囊由于离心作用被甩出抛光板后有可能撞击到抛光筒侧壁上，橡胶圈可防止由于冲击力过大导致胶囊破碎的隐患。

作为优选，所述的抛光筒的侧壁上也设有若干粉尘出口，粉尘出口通过吸尘器管道与吸尘器连接，粉尘出口处的橡胶圈上设有不规则的微孔。部分脱落的粉尘在抛光筒中就被吸尘器吸入，使粉尘能更好地被吸收完全。

作为优选，所述的筒帽的上表面还设有把手。通过把手可将筒帽掀开，对抛光筒内部进行清洗。

本发明还公开了上述立式胶囊抛光机的使用方法，其包括以下步骤：

(1)将未抛光的胶囊从进料口倒入抛光筒中；

(2)启动电机，电机带动转动轴转动，转动轴又带动抛光板转动，胶囊上的粉尘在毛刷的作用下从胶囊上脱离，部分粉尘通过抛光过滤孔进入下一层抛光板，直至穿过过滤网后被吸尘器吸入；

(3)抛光板上的胶囊及残余的粉尘由于转动产生离心力，从抛光板外圆与抛光筒内壁的间隙内掉落至挡板上，又由于胶囊自身重力的作用落入下一层抛光板上进行下一次抛光处理；

(4)反复上述步骤2和步骤3，直至胶囊落入过滤网上，在过滤网的作用下胶囊被隔离在过滤网上侧，粉尘则落入过滤网下侧被吸尘器吸入。

作为优选，胶囊由于重力原因滚落至胶囊出口后进入胶囊回收通道，在负风压装置的作用下，剩余的粉尘及不合格的胶囊由于重量较轻被负风压装置吸收，合格的胶囊则从胶囊回收通道排出。

采用本发明提供的技术方案，与现有技术相比，具有如下有益效果：

本发明涉及的立式胶囊抛光机占用面积小，胶囊抛光从上到下依次经过多次抛光处理，抛光效果好，大批量胶囊抛光处理可同时进行，抛光过程中不会出现转动轴卡死的现象。

附图说明

图1是本发明立式胶囊抛光机结构示意图；

图2是本发明抛光板与抛光筒、转动轴的位置关系示意图；

图3是本发明挡板与抛光筒、转动轴的位置关系示意图；

图4是本发明实施例二立式胶囊抛光机结构示意图。

示意图中的标注说明：1抛光筒，2筒帽，3工作台，4电机，5负风压装置，6吸尘器，7胶囊回收通道，8胶囊回收箱，11橡胶圈，12挡板，13胶囊出口，14粉尘出口，15过滤网，21进料口，22把手，31废料收集箱，41转动轴，42抛光板，51负风压装置管道，61吸尘器管道，421抛光过滤孔。

具体实施方式

为进一步了解本发明的内容，结合附图和实施例对本发明作详细描述，以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。

实施例一

结合图1，本发明涉及的一种立式胶囊抛光机包括抛光筒1、动力装置和回收装置，所述的回收装置包括负风压装置5和吸尘器6。

所述的抛光筒1为圆柱体筒体结构，其设在一工作台3上，抛光筒1内壁设有一圈橡胶圈11，以防止胶囊在抛光过程中撞击抛光筒1内壁而导致胶囊破碎，抛光筒1内壁上设有若干层圆环状的挡板12(本实施例中设有5层挡板12)，挡板12外圈与抛光筒内壁焊接，挡板12从外到内存在向下的倾斜坡度，本实施例中挡板的倾斜坡度均为29.3°。所述的电机4设置在工作台3的内部，电机4设有一贯穿工作台3的转动轴41，转动轴41上设有与挡板12相互错开设置的抛光板42(本实施例中设有6层抛光板42)，抛光板42也为圆环形状，抛光板42从内到外均呈29.3°的倾斜坡度向上倾斜，抛光板42上设有毛刷(图中未标注)和抛光过滤孔421，抛光过滤孔421的孔径小于所抛光的胶囊粒径。如图2和图3所示，挡板12与转动轴41之间存在间隙，抛光板42外圈与抛光筒之间存在间隙，间隙大小均为所抛光胶囊粒径的3～5倍，但不得大于抛光筒直径的1/4。抛光筒1上侧设有一筒帽2，筒帽2上设有进料口21和把手22，筒帽2与抛光筒1顶部采用卡扣连接，抛光机不使用时操作人员可握住把手22打开筒帽2，对抛光筒1内侧进行清理。

抛光筒1底部设有倾斜坡度为31.3°的过滤网15(倾斜坡度可根据所抛光的胶囊的重量和粒径调整，重量越大则倾斜坡度越小，以此控制胶囊进入胶囊回收通道7的速度，速度过快则可能导致后续不合格胶囊剔除不彻底，速度过慢则影响了抛光效率)，过滤网15上设有直径小于抛光胶囊粒径的网孔(图中未标注)，胶囊落在过滤网15上时，粉尘可穿过网孔而胶囊隔离在过滤网之上，过滤网15四周与抛光筒内壁焊接连接，过滤网15与抛光筒最低的连接点上侧设有胶囊出口13，胶囊出口连接胶囊回收通道7，过滤网15与抛光筒最高的连接点下侧设有粉尘出口14；负风压装置5通过负风压装置管道51与胶囊回收通道7连接，用于吸收残留的粉尘和不合格的胶囊(值得注意的是：负风压装置的风压也是根据胶囊重量调整的，一般情况下胶囊重量越大则负风压压力则越大，这样可以保证不合格胶囊剔除效果)，吸尘器6通过吸尘器管道61与粉尘出口14连接，用于吸收分离出来的粉尘，不合格的胶囊以及粉尘分别进过负风压装置5和吸尘器6排入废料收集箱31内，合格的胶囊则落入胶囊回收箱8内。

上述立式胶囊抛光机的使用方法包括以下步骤：

(1)将未抛光的胶囊从筒帽2的进料口21处倒入抛光筒1中；

(2)启动电机4，电机带动转动轴41转动，转动轴41又带动抛光板42转动，胶囊上的粉尘在毛刷的作用下从胶囊上脱离，部分粉尘通过抛光过滤孔421进入下一层抛光板42，直至穿过过滤网15后被吸尘器6吸入；

(3)抛光板42上的胶囊及残余的粉尘由于转动产生离心力，从抛光板外圆与抛光筒1内壁的间隙内掉落至挡板12上，又由于胶囊自身重力的作用落入下一层抛光板42上进行下一次抛光处理；

(4)反复上述步骤2和步骤3，直至胶囊落入过滤网15上，在过滤网的作用下胶囊被隔离在过滤网上侧，粉尘则落入过滤网下侧被吸尘器吸入；

(5)胶囊由于重力原因滚落至胶囊出口13后进入胶囊回收通道7，在负风压装置5的作用下，剩余的粉尘及不合格的胶囊由于重量较轻被负风压装置5吸收，合格的胶囊则从胶囊回收通道排出。

(6)合格的胶囊落入胶囊回收通道下放的胶囊回收箱8内，不合格的胶囊及粉尘分别通过负风压装置5和吸尘器6排到工作台内的废料收集箱内31。

实施例二

如图4所示，本实施例的立式胶囊抛光机的结构与实施例一基本相同，不同之处在于：本实施例的立式胶囊抛光机在侧壁上也设有粉尘出口14，粉尘出口同样与吸尘器6连接，与之对应的侧壁上的橡胶圈11也设有只允许空气和粉尘穿过的微孔，此设计的优点在于胶囊在抛光筒内部抛光时，部分粉尘通过抛光筒上的粉尘出口排出，其粉尘去除更加彻底。

本实施例的胶囊抛光方法与实施例一相同，本实施例不再阐述。

实施例三

本实施例的结构基本与实施例一相同，不同之处在于：本实施例的转动轴41上设有6层抛光板42，抛光筒1内设有5层挡板12，其中从上到下每层抛光板的倾斜坡度依次为：28.5°、30.3°、32.1°、33.9°、35.7°、37.5°；从上到下每层挡板的倾斜坡度为28.5°、30.3°、32.1°、33.9°、35.7°。不同的抛光坡度可使抛光力度的及抛光点有略微不同，适用于对各种粒径、各种质量的胶囊抛光，能使抛光效果更好。

以上示意性的对本发明及其实施方式进行了描述，该描述没有限制性，附图中所示的也只是本发明的实施方案之一，实际的结构并不局限于此。所以本领域的普通技术人员受其启示，在不脱离本发明创造宗旨的情况下，不经创造性的设计出与该技术方案相似的结构方式及实施例，均应属于本发明的保护范围。