1.一种高效率抛光垫刻整与梳理装置，其特征在于，包含：
一载盘；以及
一刻整层，设置于所述载盘；所述刻整层具有复数个交错设置的凹沟，使该刻整层具有复数个呈规则排列的凸部，各该凸部概呈等高且各该凹沟概呈等深。
2.如权利要求1所述的高效率抛光垫刻整与梳理装置，其特征在于，该等凹沟具有复数个沿一第一方向延伸的第一凹沟；该等凹沟具有复数个沿一第二方向延伸的凹沟，该第一方向与该第二方向的夹角为垂直。
3.如权利要求1所述的高效率抛光垫刻整与梳理装置，其特征在于，该等凹沟具有复数个沿一第一方向延伸的第一凹沟；该等凹沟具有复数个沿一第二方向延伸的凹沟，该第一方向与该第二方向的夹角不等于90°。
4.如权利要求1所述的高效率抛光垫刻整与梳理装置，其特征在于，各该凸部的侧面具有斜边。
5.如权利要求1所述的高效率抛光垫刻整与梳理装置，其特征在于，各该凹沟的底面为一个平面。
6.如权利要求1所述的高效率抛光垫刻整与梳理装置，其特征在于，各该凸部为一尖端，且该等尖端概呈等高。
7.如权利要求1所述的高效率抛光垫刻整与梳理装置，其特征在于，该等凸部的侧面宽度概呈一致。
8.如权利要求1所述的高效率抛光垫刻整与梳理装置，其特征在于，该等凹沟的宽度概呈一致。
9.如权利要求1所述的高效率抛光垫刻整与梳理装置，其特征在于，该等凸部分别具有一上表面，该等上表面概呈等高。