本实用新型涉及稀土加工设备领域，特别涉及一种稀土萃取装置。
背景技术：
近年来，我国稀土分离工业得到了长足发展，尤其是镓、锗、铟萃取分离工艺已经达到国际领先水平，稀土行业正朝着大型化、自动化和连续化生产的发展方向，但是稀土萃取槽仍然依靠电机搅拌实现萃取过程中液体混合和液体流动，需要搅拌后再澄清，通常我们是采取先搅拌后转移到澄清槽内进行澄清，但由于萃取槽与澄清槽体积较大，使得其占地面积也较大，这无疑会增加场地成本，并且由于两种设备距离也较远，那么铺设用于转运稀土溶液的管道也需要较长，且通常都需要用到泵体进行抽取，这无疑也会增加生产成本。
如专利号为CN 204981998U的一种稀土萃取槽装置，其虽然也能解决上述问题，但也存在一些不足，如：其通过开闭控制阀使混合室与澄清室之间的液体进行流通，由于控制阀位于壳体内部的挡板上，在经常性的开闭控制阀，会很容易将其损坏，那么在其损坏后进行维修或更换无疑会很困难，还有就是其澄清室侧壁上的第一、二排液管虽然能将澄清室的液体排干，而其澄清室只能对残渣进行沉淀，但是由于液体中经常性的会有一些漂浮物，那么在通过第二排液管排液时，漂浮物会和清液一同排出，这就会影响澄清效果。
技术实现要素：
本实用新型的目的就是提供一种稀土萃取装置，不仅减小了设备的占地面积，同时还节约了生产成本。
本实用新型的技术问题主要通过下述技术方案得以解决：
一种稀土萃取装置，包括萃取槽，所述萃取槽底部设置有澄清槽，其中澄清槽顶部面积大于萃取槽底部面积，所述萃取槽内还设有搅拌机构，且萃取槽底部设有多根倒扣设置的L型出料管，所述出料管的其中一端与萃取槽侧壁底部连接，另一端贯穿澄清槽顶壁并延伸至澄清槽内底部，且位于萃取槽与澄清槽之间的出料管上设有控制阀，所述澄清槽内水平设有过滤网，其中澄清槽外侧壁上下并列设置有多根出液管，且位于澄清槽内的出液管的进料端向上弯曲，所述澄清槽侧壁上还竖直设置有观察窗，该澄清槽顶壁上设有人孔。优选的，所述搅拌机构包括与萃取槽同轴设置的搅拌轴及位于搅拌轴底端的搅拌叶片，且搅拌轴由位于萃取槽顶部的电机驱动。
优选的，所述出液管数量最少为两根，且分别位于过滤网上下两侧的澄清槽侧壁上。
优选的，所述出料管数量最少为两根，且出料管的出料端低于过滤网底端水平面。
本实用新型的有益效果是：相较以往将萃取槽及澄清槽两种设备设置在不同地方并通过较长的管路及泵体对两者的液体进行抽取流通的方式，本实用新型通过将萃取槽设置在澄清槽上并采用出料管连接，不仅减小了设备的占地面积，还通过两者的高度落差进行液体流通，同时还减短了出料管的所需长度，达到了节约成本的目的；并且过滤网能将液体中的漂浮物挡住，使其不会上浮，那么在通过位于过滤网上方的出液管将澄清液体排出时，漂浮物就不会随澄清液一同排出，而出液管的进料端向上弯折则能增加其与沉淀物的距离，那么也就是降低了沉淀物从出液管排出的可能性。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图。
图中：1、萃取槽，2、澄清槽，3、搅拌机构，301、搅拌轴，302、搅拌叶片，4、出料管，5、控制阀，6、过滤网，7、出液管，8、观察窗，9、人孔。
具体实施方式
下面通过实施例，并结合附图1，对本实用新型的技术方案作进一步具体的说明。
一种稀土萃取装置，包括萃取槽，所述萃取槽1底部设置有澄清槽2，其中澄清槽2顶部面积大于萃取槽1底部面积，通过将萃取槽1设置在澄清槽2上，达到了减小了设备占地面积的目的，同时澄清槽2还能替代以往支撑萃取槽1的底座，以此达到节约成本的目的，所述萃取槽1内还设有用于对液体起到搅拌作用的搅拌机构3，且萃取槽1底部设有多根倒扣设置的L型出料管4，所述出料管4的其中一端与萃取槽1侧壁底部连接，另一端贯穿澄清槽2顶壁并延伸至澄清槽2内底部，且位于萃取槽1与澄清槽2之间的出料管4上设有控制出料管4开闭合的控制阀5，所述澄清槽2内水平设有防止液体中漂浮物上浮的过滤网6，其中澄清槽2外侧壁上下并列设置有多根出液管7，且位于澄清槽2内的出液管4的进料端向上弯曲，本实施例需要说明的是，位于过滤网6上方的出液管7是用于排出澄清液的，所以它的进料端是向上弯曲的，而位于过滤网6下方的出液管7是用于排出与沉淀物及漂浮物混合的液体的，那么位于过滤网6下方的出液管7的进料端则无需弯折，水平设置即可，所述澄清槽2侧壁上还竖直设置有用于观察液体沉淀效果的观察窗8，该澄清槽2顶壁上设有人孔9。
所述搅拌机构3包括与萃取槽1同轴设置的搅拌轴301及位于搅拌轴301底端的搅拌叶片302，且搅拌轴301由位于萃取槽1顶部的电机驱动，所述出液管7数量最少为两根，且分别位于过滤网6上下两侧的澄清槽2侧壁上，所述出料管4数量最少为两根，而出料管4的出料端低于过滤网6底端水平面，以此达到通过过滤网6对液体中漂浮物起到过滤的目的。
以上对本实用新型的一个实施例进行了详细说明，但所述内容仅为本实用新型的较佳实施例，不能被认为用于限定本实用新型的实施范围。凡依本实用新型申请范围所作的均等变化与改进等，均应仍归属于本实用新型的专利涵盖范围之内。