本发明涉及物理气相沉积技术领域，尤其涉及一种镁合金高亮镜面的表面处理方法、镁合金复合材料。
背景技术：
镁合金材料具有密度小，强度高，消震性好，承受冲击载荷能力大，散热快，屏蔽性能好，易于回收的优点，广泛用于携带式的器械、3c产品和汽车行业达到轻量化目的。
但表面处理是目前压铸镁合金市场推广的主要技术瓶颈，镁的活性强极易氧化，其氧化膜(MgO)不致密且耐腐性能差。目前市面上的镁合金3c外壳主要以黑色、灰色为主。
从技术上讲，目前处理的工艺主要有阳极氧化、微弧氧化、表面渗层处理、金属涂层、有机涂层以及表面改性等，对于高亮镁合金外观处理没有较成熟之工艺，目前处理的工艺主要是钝化加电泳，这种处理方式会导致光泽度降低、产品颜色发黑、耐腐耐磨性能达不到产品要求的缺陷，另外，生产过程中会产生废水等环保问题。
技术实现要素：
本发明针对现有技术的不足，提供一种高致密、耐磨、防腐、防污的镁合金材料表面处理的方法、镁合金复合材料。
本发明通过以下技术手段实现解决上述技术问题的：一种镁合金高亮镜面的表面处理方法，包括如下步骤：
(1)将羊毛脂或者脱脂棉在酒精中完全浸润后，固定在夹具上，对衬底进行往返式抛光；
(2)在真空环境下，使用红外加热灯对衬底进行加热，同时，采用电子枪对第一陶瓷类介质进行加热，第一陶瓷类介质蒸发附着在衬底表面，形成底层薄膜层；
(3)在真空清洁的条件下，充入惰性气体，对底层薄膜层进行离子轰击处理；
(4)在真空环境下，使用红外加热灯对步骤(3)的产物进行加热；同时，采用电子枪对第二陶瓷类介质进行加热，第二陶瓷类介质蒸发附着在底层薄膜表面，形成介质薄膜层；
(5)在真空环境中，使用电子枪对第三陶瓷类介质进行加热，第三陶瓷类介质蒸发附着在介质薄膜层表面，形成介质过镀薄膜层；
(6)对介质过镀薄膜层进行离子轰击处理；
(7)在真空环境下，采用电阻加热蒸发的方式在介质过镀薄膜层的表面形成氟化物层。
优选地，所述步骤(1)中酒精的纯度大于或等于99.99％；抛光时，施加的压力为2.5～3.5N。
优选地，所述步骤(2)抽真空至1.0E-3Pa～5.0E-3Pa；红外加热温度区间80℃～150℃。
优选地，所述步骤(3)抽真空至6.0E-3PA；离子轰击处理时间为3～6min。
优选地，所述步骤(4)抽真空至13Pa～8.0E-3Pa；红外加热温度区间80℃～150℃。
优选地，所述步骤(5)的抽真空至1.0E-3Pa～5.0E-3Pa。
优选地，所述步骤(6)的离子轰击处理时间为3～10min。
优选地，所述步骤(7)的抽真空至1.0E-3Pa～5.0E-3Pa，所述氟化物为MgF2或CeF3。
一种使用上述的镁合金高亮镜面的表面处理方法处理得到的镁合金复合材料，所述镁合金复合材料从内之外依次包括衬底层、底层薄膜层、介质薄膜层、介质过镀薄膜层、氟化物层。
优选地，所述底层薄膜层厚度为0.01～0.1um；所述介质薄膜层的厚度为0.2～1.5um；所述介质过镀薄膜层的厚度为0.01～0.03um；所述氟化物层的厚度为0.1um～0.2um。
本发明的优点在于：本发明利用物理气相沉积针对镁合金材料进行高亮表面处理，把固(液)体镀料在高真空状态下通过高温蒸发、电子束、等离子体、离子束在固态表面沉积凝聚生成固态透明薄膜，针对膜层的结合力、匀性较差，在沉积过程提升成膜环境温度，同时复合膜层每层加入离子轰击清洁表面消除应力以提升膜层的附着力。并采用疏水性氟化物以提升材料的耐磨性、防腐性、防污性。
相比现有技术而言具有以下优点：
(1)材料表面抗腐蚀有明显提升，能满足手机、笔记本等各种消费电子相关产品的应用。材料抗腐蚀有效提升2倍以上，可以满足pH4.6溶液浸泡48h以上不腐蚀。
(2)具有防污功能，表面污染物可以方便的使用纸巾毛巾擦拭清洁。
(3)涂层表面摩擦系数低，手感光滑，处理后表面水立角测试>90度，最大值118度。
(4)另外，由于本发明采用了光学介质材料，可以产生干涉效应，增加光线的散射反射，提高了10％～15％的表面光泽。
具体实施方式
为进一步描述本发明，下面结合实施例对其作进一步说明。
实施例1
一种镁合金高亮镜面的表面处理方法，包括如下步骤：
(1)将羊毛脂或者脱脂棉在酒精中完全浸润后，固定在夹具上，衬底进行往返式抛光，对其表面进行处理。
(2)在真空环境下，使用红外加热灯对衬底进行加热，同时，采用电子枪对第一陶瓷类介质进行加热，第一陶瓷类介质蒸发附着在衬底表面，形成底层薄膜层；该薄膜亲陶瓷类氧化物，能提升附着力。
(3)在真空清洁的条件下，充入惰性气体，对底层薄膜层进行离子轰击处理；清洁表面，在抛光面形成轻微蚀刻，同时消除材料间的应力，以提高后续涂层的附着力。
(4)在真空环境下，使用红外加热灯对步骤(3)的产物进行加热；同时，采用电子枪对第二陶瓷类介质进行加热，第二陶瓷类介质蒸发附着在底层薄膜表面，形成介质薄膜层。
(5)在真空环境中，使用电子枪对第三陶瓷类介质进行加热，第三陶瓷类介质蒸发附着在介质薄膜层表面，形成介质过镀薄膜层；该薄膜亲氟化物，提升附着力。
(6)对介质过镀薄膜层进行离子轰击处理，以消除介质层应力。
(7)在真空环境下，采用电阻加热蒸发的方式在介质过镀薄膜层的表面形成氟化物层。使材料表面具有疏水性能，降低材料的摩擦系数，使材料具有防污能力。
实施例2
一种镁合金高亮镜面的表面处理方法，包括如下步骤：
(1)将羊毛脂或者脱脂棉在酒精中完全浸润后，固定在夹具上，衬底进行往返式抛光；其中，酒精的纯度为99.99％；抛光时，施加的压力为2.5N。
(2)在1.0E-3Pa的真空环境下，使用红外加热灯对衬底进行加热至80℃，同时，采用电子枪产生高能电子束对第一陶瓷类介质进行加热，第一陶瓷类介质蒸发附着在衬底表面，形成底层薄膜层；
(3)在6.0E-3PA的真空清洁的条件下，充入惰性气体，如氩气，对底层薄膜层进行离子轰击处理轰击3min；
(4)在13Pa的真空环境下，使用红外加热灯对步骤(3)的产物进行加热至80℃；同时，采用电子枪对第二陶瓷类介质进行加热，第二陶瓷类介质蒸发附着在底层薄膜表面，形成介质薄膜层；
(5)在1.0E-3Pa的真空环境中，使用电子枪对第三陶瓷类介质进行加热，第三陶瓷类介质蒸发附着在介质薄膜层表面，形成介质过镀薄膜层；
(6)对介质过镀薄膜层进行离子轰击处理3min；
(7)在1.0E-3Pa真空环境下，采用电阻加热蒸发的方式在介质过镀薄膜层的表面形成MgF2层。
实施例3
一种镁合金高亮镜面的表面处理方法，包括如下步骤：
(1)将羊毛脂或者脱脂棉在酒精中完全浸润后，固定在夹具上，衬底进行往返式抛光；其中，酒精的纯度大于99.99％；抛光时，施加的压力为3N。
(2)在2.0E-3Pa的真空环境下，使用红外加热灯对衬底进行加热至100℃，同时，采用电子枪产生高能电子束对第一陶瓷类介质进行加热，第一陶瓷类介质蒸发附着在衬底表面，形成底层薄膜层；
(3)在6.0E-3PA的真空清洁的条件下，充入惰性气体，如氩气，对底层薄膜层进行离子轰击处理轰击4min；
(4)在2.0E-3Pa的真空环境下，使用红外加热灯对步骤(3)的产物进行加热至100℃；同时，采用电子枪对第二陶瓷类介质进行加热，第二陶瓷类介质蒸发附着在底层薄膜表面，形成介质薄膜层；
(5)在3.0E-3Pa的真空环境中，使用电子枪对第三陶瓷类介质进行加热，第三陶瓷类介质蒸发附着在介质薄膜层表面，形成介质过镀薄膜层；
(6)对介质过镀薄膜层进行离子轰击处理7min；
(7)在3.0E-3Pa真空环境下，采用电阻加热蒸发的方式在介质过镀薄膜层的表面形成CeF3层。
实施例4
一种镁合金高亮镜面的表面处理方法，包括如下步骤：
(1)将羊毛脂或者脱脂棉在酒精中完全浸润后，固定在夹具上，衬底进行往返式抛光；其中，酒精的纯度为99.99％；抛光时，施加的压力为3.5N。
(2)在5.0E-3Pa的真空环境下，使用红外加热灯对衬底进行加热至150℃，同时，采用电子枪产生高能电子束对第一陶瓷类介质进行加热，第一陶瓷类介质蒸发附着在衬底表面，形成底层薄膜层；
(3)在6.0E-3PA的真空清洁的条件下，充入惰性气体，如氩气，对底层薄膜层进行离子轰击处理轰击6min；
(4)在8.0E-3Pa的真空环境下，使用红外加热灯对步骤(3)的产物进行加热至150℃；同时，采用电子枪对第二陶瓷类介质进行加热，第二陶瓷类介质蒸发附着在底层薄膜表面，形成介质薄膜层；
(5)在5.0E-3Pa的真空环境中，使用电子枪对第三陶瓷类介质进行加热，第三陶瓷类介质蒸发附着在介质薄膜层表面，形成介质过镀薄膜层；
(6)对介质过镀薄膜层进行离子轰击处理10min；
(7)真空环境下，采用电阻加热蒸发的方式在介质过镀薄膜层的表面形成MgF2层。
实施例5
一种使用上述的镁合金高亮镜面的表面处理方法处理得到的镁合金复合材料，所述镁合金复合材料从内之外依次包括衬底层、底层薄膜层、介质薄膜层、介质过镀薄膜层、氟化物层。
在有些实施例中，所述底层薄膜层厚度为0.01～0.1um；所述介质薄膜层的厚度为0.2～1.5um；所述介质过镀薄膜层的厚度为0.01～0.03um；所述氟化物层的厚度为0.1um～0.2um。
实施例6
本发明实施例2-4的复合材料进行表面性能测试，其中实施例2中底层薄膜层厚度为0.01um、薄膜层的厚度为0.2um、介质过镀薄膜层的厚度为0.01um、氟化物层的厚度为0.1um。实施例3中底层薄膜层厚度为0.08um；介质薄膜层的厚度为1um；介质过镀薄膜层的厚度为0.02um；氟化物层的厚度为0.15um.实施例4中的底层薄膜层厚度为0.1um、介质薄膜层的厚度为1.5um、介质过镀薄膜层的厚度为0.03um、氟化物层的厚度为0.2um。
本发明采用的底层薄膜层及过渡薄膜层介质优选为TiO2，第二陶瓷类介质薄膜层采用ZrO2，也可以采用Al2O3或其他现有的陶瓷类氧化物。厚度选择根据外观颜色、测试要求作调整，温度选择根据膜层厚度作调整。当然，本发明的各光学介质均采用ZrO2、SiO2、Al2O3、TiO2或其他陶瓷类氧化物，也应该在本发明的保护范围之内。
表面性能测试：缓冲液(PH4.6)浸泡48h测试、高温高湿(50℃、95％湿度)72h的测试、盐雾(35℃、PH8.0)72h测试、高低温(--40℃、80℃)72h冲击测试，观察材料表面外观点蚀、线蚀及面蚀现象。
测试后，本发明相对表面处理前的材料其抗腐蚀有效提升2倍以上，能满足pH4.6溶液浸泡48h以上不腐蚀。具有防污功能，表面污染物可以方便的使用纸巾毛巾擦拭清洁。涂层表面摩擦系数低，手感光滑，处理后表面水立角测试>90度，最大值118度。增加光线的散射反射，提高产品的表面光泽(10％～15％)。
以上仅为本发明创造的较佳实施例而已，并不用以限制本发明创造，凡在本发明创造的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明创造的保护范围之内。