技术特征：
技术总结
本发明提供一种抛光设备及方法，该抛光设备包括：催化研磨垫，其表面包含有催化剂；第一旋转装置，连接于催化研磨垫，并为催化研磨垫提供顺时针与逆时针两种旋转动力；晶圆固定盘，用于固定待研磨晶圆，使得待研磨晶圆与催化研磨垫接触；第二旋转装置，连接于晶圆固定盘，为晶圆固定盘及待研磨晶圆提供旋转动力，并提供待研磨晶圆与催化研磨垫的压力；及电压装置，用于为催化研磨垫及待研磨晶圆施加电压。本发明可以大大降低所述待研磨晶圆的缺陷或裂纹的产生，提高研磨质量。
技术研发人员：三重野文健
受保护的技术使用者：上海新昇半导体科技有限公司
技术研发日：2017.10.31
技术公布日：2019.05.10