一种镀膜机的制作方法

本公开涉及镀膜领域，特别涉及一种镀膜机。

背景技术：

在镀膜领域，镀膜后薄膜样品的厚度是影响薄膜性能的一个重要因素。因此，当评价某薄膜样品的性能时，需要检测该薄膜样品不同厚度下的性能。对于真空镀膜的情形，这往往需要进行多次试样的制备。

而这样多次制备样品存在两个问题：首先，不同次生长的样品，仪器的状态不同，以至于影响薄膜样品性能的因素可能不仅仅是厚度；其次，真空镀膜实验装取样品需要重新进行真空的获得，非常耗时。增加了生产和检测的成本。

因此，需要提供一种能在同一基片上生长不同厚度薄膜的设备来解决现有技术的不足。

技术实现要素：

有鉴于此，本公开提供一种镀膜机，能在同一基片上生长出一系列不同厚度的薄膜，确保不同厚度薄膜生长状态的一致性。

具体地，本公开是通过如下技术方案实现的：

一种镀膜机，包括托台、动力装置以及传动装置，所述托台组装于所述动力装置的基座上，所述传动装置与所述动力装置传动连接；所述传动装置的末端设置有遮挡件，所述托台上设置有收容基材的第一收容部及收容所述遮挡件的第二收容部，所述遮挡件在所述传动装置的推动下沿所述第二收容部运动完全或部分遮挡所述基材。

进一步的，所述托台具有上表面、下表面及连接所述上下表面的若干端面，所述第一收容部上设有贯穿所述下表面并与所述第一收容部连通的镭射孔，所述第二收容部自所述托台的一所述端面沿平行于所述上表面的方向设置在所述托台内。

进一步的，所述第二收容部的末端设置在所述镭射孔的外侧。

进一步的，所述第一收容部自所述托台的上表面向主体内凹陷形成，所述镭射孔的中心线与所述第一收容部的中心线重合。

进一步的，所述传动装置包括与所述动力装置连接的第一传动件及组装于所述第一传动件上的第二传动件，所述第二传动件与所述遮挡件固定连接。

进一步的，所述第一传动件包括主体部及自所述主体部延伸形成的连接部，所述连接部与所述动力装置连接，所述主体部上设有滑槽，所述第二传动件通过设置在所述滑槽内的滑块与所述第一传动件固定连接。

进一步的，所述滑块具有突出于所述主体部的组装轴，所述组装轴上设有下平垫和上平垫，所述第二传动件套设在所述组装轴上并位于所述下平垫和上平垫之间。

进一步的，所述动力装置为步进电机，所述步进电机的基座包括组装所述托台的第一组装部及组装所述传动装置的第二组装部，所述第一组装部平行于所述第二组装部。

进一步的，所述托台上设有组装孔，所述托台通过设置于所述组装孔内的螺钉固定于所述基座上。

进一步的，所述托台上方进一步设有冷却机构，所述第一收容部还设有冷却块，所述冷却块的下表面与基材的上表面相贴合，所述冷却块的上表面与冷却机构相贴合。

与现有技术相比，本申请具有如下有益效果：通过遮挡件在镀膜过程中全部或部分遮挡射源，可直接在同一基片上生长出一系列不同厚度的薄膜区域，确保整个薄膜的生长状态是一致的。同时节约制备时间也便于装载、卸载。

附图说明

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本公开的实施例，并与说明书一起用于解释本公开的原理。

图1是本公开一示例性实施例示出的一种镀膜机的装配示意图；

图2是本公开一示例性实施例示出的一种镀膜机的立体分解图；

图3是本公开一示例性实施例示出的遮挡件的工作状态示意图。

具体实施方式

这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本公开相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本公开的一些方面相一致的装置和方法的例子。

在本公开使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本公开。在本公开和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。还应当理解，本文中使用的术语“和/或”是指并包含一个或多个相关联的列出项目的任何或所有可能组合。

应当理解，尽管在本公开可能采用术语第一、第二、第三等来描述各种结构，但这些结构不应限于这些术语。这些术语仅用来将同一类型的结构彼此区分开。例如，在不脱离本公开范围的情况下，第一收容部也可以被称为第二收容部，类似地，第二收容部也可以被称为第一收容部。取决于语境，如在此所使用的词语“如果”可以被解释成为“在……时”。

如图1和图2所示，本公开提供一种镀膜机100包括托台1、动力装置2以及传动装置3，所述托台1组装于所述动力装置2的基座21上，所述传动装置3与动力装置2传动连接；所述传动装置3的末端设置有遮挡件31，所述托台1上设置有收容基材的第一收容部11及收容所述遮挡件的第二收容部12，所述遮挡件31在所述传动装置3的推动下沿所述第二收容部12运动，完全或部分遮挡所述基材。

其中，在所述遮挡件31的滑动自由度内，所述遮挡件31在动力装置2以及传动装置3的作用下，可由第一位置滑动至第二位置，也可由第二位置滑动至第一位置，所述第一位置为完全遮挡所述基材的位置，所述第二位置为完全不遮挡所述基材的位置。该设计的好处在于，可以在给基材镀膜的过程中，通过完全遮挡或部分遮挡待镀膜基材接收镀膜时放射的原子或分子团簇，来调节所述基材上不同位置薄膜的生长速度，以实现在同一基片上制备一系列不同厚度的薄膜。

在一实施例中，所述托台1具有上表面16、下表面14及连接所述上下表面的若干端面，所述第一收容部11上设有贯穿所述下表面14的镭射孔13，所述第二收容部12自所述托台1的一所述端面15沿平行于所述上表面16的方向设置在所述托台内。

图3是本公开一示例性实施例示出的一种镀膜机的托台的结构示意图。

在一实施例中，如图3所示，所述第二收容部12的末端设置在所述镭射孔13的外侧。所述的外侧，是指沿托台的纵向方向所述第二收容部剖视图最外侧的切线与所述镭射孔中心线的距离大于所述镭射孔的半径。即为图3中所示所述第二收容部的端部位于所述镭射孔13的左侧。即：当所述遮挡件31在所述传动装置3的推动下沿所述第二收容部12运动至其末端时，可完全遮挡所述镭射孔13。

在一实施例中，所述第一收容部11自所述托台的上表面16向主体内凹陷形成，所述镭射孔13的中心线与所述第一收容部11的中心线重合。其中，所述镭射孔13在第一收容部11的截面可以为圆形。

所述传动装置3包括与所述动力装置2连接的第一传动件32及组装于所述第一传动件上的第二传动件33，所述第二传动件33与所述遮挡件31固定连接。所述固定连接的连接方式可以是共轴的旋转连接。具体的，所述第二传动件33与所述遮挡件31分别设有连接孔，通过设置在所述连接孔内的螺钉将所述第二传动件33与所述遮挡件31连为一体。当所述第二传动件33在传动装置的作用下推动所述遮挡件31沿所述第二收容部12运动时，所述第二传动件33与所述遮挡件31可以绕同一轴旋转。

在一实施例中，所述第一传动件32包括主体部320及自所述主体部延伸形成的连接部322，所述连接部322与所述动力装置2连接，所述主体部320上设有滑槽321，所述第二传动件33通过设置在所述滑槽321内的滑块323与所述第一传动件32固定连接。

在一实施例中，所述动力装置2为步进电机，所述步进电机的输出轴与所述连接部322连接。镀膜时，启动所述步进电机，旋转的输出轴带动所述主体部320旋转，随着主体部的旋转所述滑块323在所述滑槽321内滑动带动所述第二传动件33运动，所述第二传动件的移动带动所述遮挡件31在所述第二收容部12内滑动。其中，所述滑槽321的任一末端距离所述主体部320中心线的距离需大于所述镭射孔13的半径。在这个基础上，通过调节所述遮挡件31的长度，可以保证在所述主体部320旋转时，所述遮挡件31可以完全遮挡或完全不遮挡所述镭射孔13。

在一实施例中，所述滑块323具有突出于所述主体部320的组装轴，所述组装轴上设有下平垫324和上平垫325，所述第二传动件33套设在所述组装轴上并位于所述下平垫324和上平垫325之间。

所述下平垫324和上平垫325上分别设有组装螺纹，用于所述滑块323与所述第二传动件33的固定，所述滑块323的组装轴末端设置有螺纹，与所述上平垫325的螺纹相匹配。镀膜时，所述第二传动件33受到所述滑块323组装轴的推动，并可绕所述滑块323的组装轴自由转动。

所述步进电机的本体上方设有基座21，所述基座21包括组装所述托台的第一组装部211及组装所述传动装置3的第二组装部212，所述第一组装部211平行于所述第二组装部212，所述第一组装部211上设有安装孔，所述托台1上设有组装孔17，所述托台1通过设置于所述组装孔内的螺钉固定于所述基座21上。所述第二组装部212上设有若干安装孔，通过设置在所述安装孔内的螺钉将所述基座与步进电机的主体部固定在一起，所述第二组装部212上进一步设有供电机轴穿设的通孔，所述第一传动件32的连接部322与电机轴组装后置于所述通孔内，且所述第一传动件32主体部320的下面边与所述第二组装部212的表面相贴合，以确保第一传动组件32运动的稳定性。

可选的，也可以通过焊接的方式将所述托台1固定在所述基座21上。

在一实施例中，所述托台1上方进一步设有冷却机构，所述第一收容部11还设有冷却块，所述冷却块的下表面与基材的上表面相贴合，所述冷却块的上表面与冷却机构相贴合。

其中，所述冷却块由导热材料制成，在镀膜过程中，一方面，所述冷却块可以将基材镀膜时产生的热量传导至所述冷却机构，另一方面，所述冷却块也可用于固定所述基材，减小镀膜时镀膜机的震动对镀膜质量的影响。具体的，所述冷却块的厚度可略高于所述第一收容部11在所述托台1的凹陷深度。

由以上技术方案可见，一方面，本公开实施例通过在镀膜机上设置快门机构，周期性地阻碍镀膜时原子或分子团簇在基片上的沉积，以调节基片上各处薄膜生长的速度，在同一基片上实现了一系列不同厚度的薄膜的制备。当需要对某薄膜样品进行大量的不同厚度的试样制备时，本公开实施例将大幅减少制备试样所需的时间、基片和原料，制备成本较低。另一方面，本公开通过设置冷却机构，同时在收容基材的收容部设置冷却块，实现了在镀膜过程中对基材的散热以及固定，减少了温度累积和震动对镀膜的影响，提高了镀膜的质量。

在上面的描述中，阐述了本公开的技术方案的细节，然而，本领域技术人员能够了解，本公开不限于上述实施例所列出的具体细节，而是可以在权利要求所限定的范围内变化。

以上所述仅为本公开的较佳实施例而已，并不用以限制本公开，凡在本公开的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本公开保护的范围之内。