本实用新型涉及精密磨床技术领域，尤其涉及一种精密磨床加工用防护罩。
背景技术：
磨床(grinder,grinding machine)是利用磨具对工件表面进行磨削加工的机床，大多数的磨床是使用高速旋转的砂轮进行磨削加工，少数的是使用油石、砂带等其他磨具和游离磨料进行加工，如珩磨机、超精加工机床、砂带磨床、研磨机和抛光机等，磨床能加工硬度较高的材料，如淬硬钢、硬质合金等；也能加工脆性材料，如玻璃、花岗石。磨床能作高精度和表面粗糙度很小的磨削，也能进行高效率的磨削，如强力磨削等，随着高精度、高硬度机械零件数量的增加，以及精密铸造和精密锻造工艺的发展，磨床的性能、品种和产量都在不断的提高和增长，外圆磨床：是普通型的基型系列，主要用于磨削圆柱形和圆锥形外表面的磨床，内圆磨床：是普通型的基型系列，主要用于磨削圆柱形和圆锥形内表面的磨床。此外，还有兼具内外圆磨的磨床，坐标磨床：具有精密坐标定位装置的内圆磨床等。
精密磨床加工用防护罩就是磨床加工用的防护罩，传统的精密磨床加工用防护罩结构较为简单，功能单一，仅仅只是具有防护作用。
技术实现要素：
本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种精密磨床加工用防护罩。
为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：一种精密磨床加工用防护罩，包括防护罩本体，所述防护罩本体的中心处嵌入设有钢化可视玻璃，所述防护罩本体顶端转动嵌入有转动连接轴，所述防护罩本体底部通过碎屑收集仓嵌入设有碎屑收集盒，且碎屑收集盒的前壳体中心处螺旋固定有抽拉碎屑收集盒使用的抽拉把手，所述防护罩本体两侧对称焊接有防护罩侧板，且两个防护罩侧板上的调节滑槽之间连接有转动轴，所述转动轴上套接有清洁套管，所述清洁套管外侧壳体上相间设有清洁毛刷和吹扫扇叶。
作为上述技术方案的进一步描述：
所述转动连接轴与转动轴的长度相等，且转动连接轴与转动轴相互平行。
作为上述技术方案的进一步描述：
所述调节滑槽共开设有两个，且两个调节滑槽的长度和宽度均相等。
作为上述技术方案的进一步描述：
所述两个调节滑槽分别开设在两个防护罩侧板的中心处，两个调节滑槽位于同一水平线上。
作为上述技术方案的进一步描述：
所述清洁毛刷和吹扫扇叶均连接有两个，且两个清洁毛刷和两个吹扫扇叶均关于清洁套管相互对称。
本实用新型中，首先通过设有清洁套管，清洁套管通过其表面的清洁毛刷和吹扫扇叶可以对工件表面打磨出的碎屑进行清理，防止碎屑影响工件表面打磨的平整，使得打磨出的工件表面的平整光滑，提高该精密磨床加工用防护罩的实用性，其次，通过设有碎屑收集盒，可以对打磨飞溅的碎屑进行收集，方便工作人员进行清理，使得精密磨床表面干净整洁。
附图说明
图1为本实用新型提出的一种精密磨床加工用防护罩的结构示意图。
图2为本实用新型提出的一种精密磨床加工用防护罩的转动轴结构示意图。
图例说明：
1-防护罩本体、2-钢化可视玻璃、3-碎屑收集盒、4-抽拉把手、5-碎屑收集仓、6-调节滑槽、7-转动轴、8-防护罩侧板、9-转动连接轴、10-清洁套管、11-清洁毛刷、12-吹扫扇叶。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。
参照图1-2，一种精密磨床加工用防护罩，包括防护罩本体1，防护罩本体1的中心处嵌入设有钢化可视玻璃2，防护罩本体1顶端转动嵌入有转动连接轴9，防护罩本体1底部通过碎屑收集仓5嵌入设有碎屑收集盒3，且碎屑收集盒3的前壳体中心处螺旋固定有抽拉碎屑收集盒3使用的抽拉把手4，防护罩本体1两侧对称焊接有防护罩侧板8，且两个防护罩侧板8上调节滑槽6之间连接有转动轴7，转动轴7上套接有清洁套管10，清洁套管10外侧壳体上相间设有清洁毛刷11和吹扫扇叶12。
转动连接轴9与转动轴7的长度相等，且转动连接轴9与转动轴7相互平行，调节滑槽6共开设有两个，且两个调节滑槽6的长度和宽度均相等，两个调节滑槽6分别开设在两个防护罩侧板8的中心处，两个调节滑槽6位于同一水平线上，清洁毛刷11和吹扫扇叶12均连接有两个，且两个清洁毛刷11和两个吹扫扇叶12均关于清洁套管10相互对称。
工作原理：该精密磨床加工用防护罩使用时，首先通过转动连接轴9对该精密磨床加工用防护罩进行安装固定，固定完成后，精密磨床在进行工件加工时该精密磨床加工用防护罩可以进行防护保护，打磨出的碎屑可以在碎屑收集仓5内部的碎屑收集盒3内部进行收集，从而方便工作人员对碎屑进行收集盒清理，使得精密磨床更加干净整洁，在打磨的同时，可以通过转动轴7带动清洁套管10进行转动，这时转动套管10上的清洁毛刷和吹扫扇叶12可以对工件表面的碎屑进行清理，从而使得加工出的工件表面更加光滑平整。
以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。