技术特征：
技术总结
本发明提供一种蒸镀源、蒸镀装置，属于显示技术领域，其可解决现有的真空成膜装置的成膜均一性较差的问题。本发明的蒸镀源包括蒸镀本体，其与待进行镀膜的基板相对设置，用于向所述基板表面沉积蒸镀材料，所述蒸镀源还包括：设置在所述蒸镀本体与所述基板之间的治具，所述治具包括多个开口，多个所述开口围绕所述治具的中心区域排布，且沿着远离所述中心区域的方向，所述开口的宽度逐渐增大。
技术研发人员：刘晓云
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司
技术研发日：2018.10.09
技术公布日：2018.12.18