1.一种阳极结构，其特征在于，包括：
第一阳极(1)，设置于阴极靶(13)与第二阳极(2)之间，用于遮挡向第二阳极(2)溅射的靶材粒子；
第二阳极(2)，用于吸收中和由所述阴极靶(13)溅射过来的电子；
磁体(4)，用于产生附加磁场以对所述电子的运动形成导向作用，以引导所述电子向所述第二阳极(2)运动。
2.根据权利要求1所述的阳极结构，其特征在于，所述磁体(4)位于所述第二阳极(2)的底部，所述第二阳极(2)对应所述磁体(4)的位置设有开口结构(23)。
3.根据权利要求1或2所述的阳极结构，其特征在于，
所述阳极结构还包括第三阳极(3)，所述第三阳极(3)将所述磁体(4)包围。
4.根据权利要求3所述的阳极结构，其特征在于，所述第一阳极(1)与第二阳极(2)之间形成第一间距D1，所述第二阳极(2)与第三阳极(3)之间形成第二间距D2，所述第一间距D1和所述第二间距D2均为1-3mm。
5.根据权利要求1所述的阳极结构，其特征在于，所述第一阳极(1)包括阻挡部(11)与折弯部(12)，所述折弯部(12)与阻挡部(11)连接，且所述折弯部(12)朝向所述第二阳极(2)。
6.根据权利要求2所述的阳极结构，其特征在于，所述开口结构(23)呈八字形或是喇叭形。
7.根据权利要求1所述的阳极结构，其特征在于，所述第一阳极(1)的表面形成有喷砂面。
8.根据权利要求3所述的阳极结构，其特征在于，所述第一阳极(1)接地，所述第三阳极(3)接地，所述第二阳极(2)外接附加电压。
9.根据权利要求3所述的阳极结构，其特征在于，所述第一阳极(1)采用不锈钢材料制成，所述第二阳极(2)、第三阳极(3)的材料分别选自铜，铝，银，铜合金，铝合金，银合金中的至少一种，第二阳极(2)与第三阳极(3)的材料可以相同或不同。
10.一种磁控溅射装置，其特征在于，包括权利要求1-9中任意一项所述的阳极结构。