一种蒸镀产线的挡板机构的制作方法

本发明属于镀膜技术领域，具体涉及一种蒸镀产线的挡板机构。

背景技术：

有机薄膜电致发光显示器件(oled)，是有机半导体材料在电场作用下发光的一项新兴技术，近年来得到了迅速发展。oled照明产品的低能耗、环保、超薄、高色彩饱和度、面光源等优点，使其成为未来照明产品发展的主流趋势之一。现如今oled照明器件主要通过蒸发镀膜的方法制备，在实际生产中，因为其要在高真空条件下生产，并且具有多道蒸镀工艺，产线方案主要是采用团簇式(cluster)结构及线性传递结构(inline)，团簇式结构即多个八角腔体相连，每个八角腔体的各个边上安装不同功能的蒸镀腔体，处于中间的八角腔体作为传输用，内部安装有传输用机械手，所蒸镀的产品(玻璃基片)依次通过每个八角腔体。现如今八角腔体作为传递腔体，其主要靠真空机械手完成基片从一个功能腔体到另外一个功能腔，对于大型蒸镀生产线来说，真空机械手价格昂贵，而且传递的重量较轻，一般是传递玻璃基片，这就导致每个功能的蒸镀腔体都需对位装置，效率较低，价格昂贵，而且此传递方式导致，蒸发源只能为点源，无法实现线蒸发源方式蒸发，效率低，材料利用率低等问题。而线性结构主要是多个功能腔体连接在一起，基片和掩膜板在对位腔体中完成对位，流转卡夹载着对位后的基片和掩膜板一起在蒸镀腔体导轨上运动，实现有机材料的沉积。线性结构采用线性蒸发源，其效率及材料利用率较高，但2个功能腔体蒸镀不同材料，材料容易从一个功能腔体到另一个功能腔体，造成交叉污染。

技术实现要素：

为此，本发明所要解决的技术问题在于克服现有技术中的材料容易从一个功能腔体到另一个功能腔体，造成交叉污染的问题。

为解决上述技术问题，本发明提供了一种蒸镀产线的挡板机构，所述蒸镀产线包括多个蒸镀腔和流转卡夹，所述蒸镀腔内设置有蒸发组件及蒸镀通道，所述流转卡夹承载基片依次经过所述蒸镀通道上方进行蒸镀工作，

所述挡板机构包括多个挡板组件，所述挡板组件对应所述蒸镀通道设置，所述挡板组件动态遮挡其所对应的所述蒸镀通道形成工作通道，所述工作通道与所述基片在蒸镀通道的暴露部分相匹配。

进一步的，所述挡板组件包括第一挡板及第二挡板，所述第一挡板和所述第二挡板沿与所述基片运动方向相同的方向运动以调节所述工作通道的大小和位置，所述第一挡板和所述第二挡板沿与所述基片运动方向相反的方向运动以回到初始位置。

进一步的，所述挡板机构还包括用于带动所述第一挡板运动的第一驱动组件和用于带动所述第二挡板运动的第二驱动组件，所述第一驱动组件包括第一电机和第一传动装置，所述第二驱动组件包括第二电机和第二传动装置。

进一步的，所述挡板机构还包括用于导向所述第一挡板运动的第一挡板导向装置和用于导向所述第二挡板运动的第二挡板导向装置。

进一步的，所述第一挡板与所述第二挡板错层设置，避免相邻挡板组件干扰。

进一步的，所述蒸镀腔内设置有多个蒸发组件及多个蒸镀通道。

进一步的，所述蒸发组件为线性蒸发源。

进一步的，所述挡板机构还包括用于检测所述基片位置的传感器。

进一步的，所述传感器为光电开关。

本发明还提供另外一个技术方案：一种蒸镀产线，包括如上所述的挡板机构。

由于上述技术方案运用，本发明与现有技术相比具有下列优点：

1)本发明提供的蒸镀产线的挡板机构中，通过为每个蒸镀腔配置一个挡板组件，挡板组件形成与基片匹配的工作通道，防止蒸镀腔中的蒸发源泄露出去，本发明可以有效的阻止在蒸镀的过程中材料从一个功能腔体到另一个功能腔体去，造成交叉污染；

2)本发明提供的蒸镀产线的挡板机构中，每个挡板组件的第二挡板和第一挡板可与流转卡夹同步运动，进而实现每个蒸镀腔的蒸镀通道始终被基片、第一挡板以及第二挡板中的至少一者所封堵；

3)本发明提供的蒸镀产线的挡板机构中，每块第一挡板和每块第二挡板各自设置独立的驱动组件，可实现第一挡板和第二挡板的独立控制；

4)本发明提供的蒸镀产线的挡板机构中，通过设置第一挡板导向装置和第二挡板导向装置，可保证第一挡板和第二挡板按照精确的轨道移动；

5)本发明提供的蒸镀产线的挡板机构中，第一挡板与第二挡板错层设置，避免相邻挡板组件干扰，可以节省整个蒸镀产线沿基片运动方向的尺寸；

6)本发明提供的蒸镀产线的挡板机构中，采用线性蒸发源，线性蒸发源的效率及材料利用率较高；

7)本发明提供的蒸镀产线的挡板机构中，根据检测到的基片的位置实时控制第一挡板和第二挡板。

附图说明

构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本申请的进一步理解，本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请，并不构成对本申请的不当限定。

图1为本发明中蒸镀产线的外部示意图；

图2为本发明中蒸镀产线的内部示意图；

图3为本发明中相邻两个挡板组件均为第一工作状态时的示意图；

图4为本发明中前一个挡板组件为第二工作状态，后一个挡板组件为第一工作状态时的示意图一；

图5为本发明中前一个挡板组件为第二工作状态，后一个挡板组件为第一工作状态时的示意图二；

图6为本发明中前一个挡板组件为第二工作状态，后一个挡板组件为第一工作状态时的示意图三；

图7为本发明中前一个挡板组件为第三工作状态，后一个挡板组件为第一工作状态时的示意图一；

图8为本发明中前一个挡板组件为第三工作状态，后一个挡板组件为第一工作状态时的示意图二；

图9为本发明中前一个挡板组件为第三工作状态，后一个挡板组件为第二工作状态时的示意图一；

图10为本发明中前一个挡板组件为第三工作状态，后一个挡板组件为第二工作状态时的示意图二；

图11为本发明中前一个挡板组件的第二挡板到达终点位置，第一挡板回到起点位置，后一个挡板组件为第二工作状态时的示意图；

图12为本发明中前一个挡板组件的第二挡板和第一挡板均回到起点位置，后一个挡板组件为第二工作状态时的示意图。

其中，10、蒸镀腔；11、蒸镀通道；20、流转卡夹；30、基片；40、挡板组件；41、第一挡板；42、第二挡板；43、第一电机；44、第二电机；45、第一挡板导向装置；46、第二挡板导向装置。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。

应该指出，以下详细说明都是例示性的，旨在对本申请提供作为进一步改进说明。除非另有指明，本文使用的所有技术和科学术语具有与本申请所属技术领域的普通技术人员通常理解的相同含义。需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合。在本公开中，术语如“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”、“竖直”、“水平”、“侧”、“底”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，只是为了便于叙述本公开各部件或元件结构关系而确定的关系词，并非特指本公开中任一部件或元件，不能理解为对本公开的限制。本公开中，术语如“固接”、“相连”、“连接”等应做广义理解，表示可以是固定连接,也可以是一体地连接或可拆卸连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的相关科研或技术人员，可以根据具体情况确定上述术语在本公开中的具体含义，不能理解为对本公开的限制。

以下为用于说明本发明的一较佳实施例，但不用来限制本发明的范围。

实施例一

如图1和图2所示，一种蒸镀产线的挡板机构，蒸镀产线包括多个蒸镀腔10和流转卡夹20，蒸镀腔10内设置有蒸发组件(图中未示出)及蒸镀通道11，流转卡夹20承载基片30依次经过蒸镀通道11上方进行蒸镀工作；

挡板机构包括多个挡板组件40，挡板组件40对应蒸镀通道11设置，挡板组件40动态遮挡其所对应的蒸镀通道11形成工作通道，工作通道与基片30在蒸镀通道11的暴露部分相匹配。

上文中，工作通道与基片30在蒸镀通道11的暴露部分相匹配，是指得形状、大小及位置相匹配，当基片行进至蒸镀通道上方时，镀膜材料通过工作通道被蒸发到基片上，当基片离开蒸镀通道上方时，上述蒸镀通道被完全遮挡，即此时不存在工作通道。

本实施例中优选的实施方式，挡板组件40包括第一挡板41及第二挡板42，第一挡板41和第二挡板42沿与基片30运动方向相同的方向运动以调节工作通道的大小和位置，第一挡板41和第二挡板42沿与基片30运动方向相反的方向运动以回到初始位置。

上文中，第一挡板41具有靠近基片30输入侧的后端和靠近基片30输出侧的前端，第二挡板42具有靠近基片30输入侧的后端和靠近基片30输出侧的前端；

挡板组件40为第一工作状态时，第一挡板41封堵整个蒸镀通道；

挡板组件40为第二工作状态时，基片前端与第一挡板后端齐平，第一挡板41与流转卡夹20沿基片运动方向同步运动直至第一挡板后端与蒸镀通道前端齐平；

挡板组件40为第三工作状态时，基片后端与第二挡板42前端齐平，第二挡板42与流转卡夹20沿基片运动方向同步运动直至第二挡板前端与蒸镀通道前端齐平；

挡板组件40为第四工作状态时，第二挡板42封堵整个蒸镀通道。

挡板组件再第一工作状态、第二工作状态、第三工作状态以及第四工作状态之间循环切换。

本实施例中优选的实施方式，挡板机构还包括用于带动第一挡板41运动的第一驱动组件和用于带动第二挡板42运动的第二驱动组件，第一驱动组件包括第一电机43和第一传动装置(图中未示出)，第二驱动组件包括第二电机44和第二传动装置(图中未示出)。

上文中，第一传动装置包括相互啮合的第一齿轮和第一齿条，第一电机带动第一齿轮旋转，第一齿轮带动第一齿条平移，第一齿条带动第一挡板平移，第二传动装置包括相互啮合的第二齿轮和第二齿条，第二电机带动第二齿轮旋转，第二齿轮带动第二齿条平移，第二齿条带动第二挡板平移。

本实施例中优选的实施方式，挡板机构还包括用于导向第一挡板41运动的第一挡板导向装置45和用于导向第二挡板42运动的第二挡板导向装置46。

上文中，第一顶板导向装置和第二挡板导向装置可采用滑轨滑块导向装置或导杆滑套导向装置。

本实施例中优选的实施方式，第一挡板41与第二挡板42错层设置，避免相邻挡板组件40干扰。

相邻两个挡板组件40中，靠近基片30输入侧的挡板组件40为第三工作状态且靠近基片30输出侧的挡板组件40为第一或第二工作状态时，靠近基片30输出侧的挡板组件40的第二挡板42位于靠近基片30输入侧的挡板组件40的第一挡板41的正上方。上述技术方案中，通过将第一挡板和第二挡板错层设置，可以节省整个蒸镀产线沿基片运动方向的尺寸。

本实施例中优选的实施方式，每个蒸镀腔10内设置有多个蒸发组件，每个蒸镀腔的上端口处设有多个蒸镀通道11。上述蒸镀产线包括两个蒸镀腔10，每个蒸镀腔内设有两个蒸发组件和两个蒸镀通道。

本实施例中优选的实施方式，上述蒸发组件为线性蒸发源。线性蒸发源的效率及材料利用率较高。

本实施例中优选的实施方式，挡板机构还包括用于检测基片30位置的传感器(图中未示出)。传感器通过检测基片的位置或流转卡夹的位置或者卡夹开口的位置，进而控制第一挡板和第二挡板开启运动和停止运动。

本实施例中优选的实施方式，上述传感器为光电开关。

本发明还提供另外一个技术方案：一种蒸镀产线，包括如上的挡板机构。

参见图3，为本发明中两个挡板组件均为第一工作状态时的示意图。蒸镀开始时，流转卡夹带动基片向蒸镀区域移动。此时，两个挡板组件的第一挡板都正好挡住线源挡板顶部位置。

参见图4，为本发明中前一个挡板组件为第二工作状态，后一个挡板组件为第一工作状态时的示意图一。流转卡夹以恒定的速度移动，当基片到达前一个蒸镀腔的蒸镀位置时，光电开关检测到信号输入，此时，前一个挡板组件的第一挡板驱动装置开始启动，带动第一挡板移动，打开蒸镀区域，其可确保材料蒸镀到基片上。

参见图5，为本发明中前一个挡板组件为第二工作状态，后一个挡板组件为第一工作状态时的示意图二。随着流转卡夹继续运动，前一个挡板组件的第一挡板的侧边始终与基片的前端侧边平齐。

参见图6，为本发明中前一个挡板组件为第二工作状态，后一个挡板组件为第一工作状态时的示意图三。当流转卡夹带动基片的前部离开蒸镀区域时，光电开关检测到信号输入，第一挡板驱动装置带动第一挡板停止运动，流转卡夹带动基片继续运动。

参见图7，为本发明中前一个挡板组件为第三工作状态，后一个挡板组件为第一工作状态时的示意图一。当流转卡夹继续移动，带动基片后侧进入到蒸镀区域时，光电开关检测到信号输入，此时第二挡板驱动装置带动第二挡板运动，使其侧面始终与基片的后端侧面保持平齐。

参见图8，为本发明中前一个挡板组件为第三工作状态，后一个挡板组件为第一工作状态时的示意图二。流转卡夹继续移动。

参见图9，为本发明中前一个挡板组件为第三工作状态，后一个挡板组件为第二工作状态时的示意图一。流转卡夹继续带动基片向前运动，当基片前端进入到下个蒸镀区域时，光电开关检测到信号输入，后一个挡板组件的第一挡板驱动装置启动，将会带动第一挡板与流转卡夹一起移动。

参见图10，为本发明中前一个挡板组件为第三工作状态，后一个挡板组件为第二工作状态时的示意图二。流转卡夹继续带动基片向前运动，当基片后端离开第一个蒸镀区域时，光电开关检测到信号输入，第二挡板驱动装置停止前进。

参见图11，为本发明中前一个挡板组件的第二挡板到达终点位置，第一挡板回到起点位置，后一个挡板组件为第二工作状态时的示意图。流转卡夹带动基片继续向前移动，同时，前一个挡板组件启动第一挡板驱动装置带动第一挡板移动，使第一挡板完全挡住蒸镀区域。

参见图12，为本发明中前一个挡板组件的第二挡板和第一挡板均回到起点位置，后一个挡板组件为第二工作状态时的示意图。流转卡夹带动基片继续向前移动，同时，前一个挡板组件启动第二挡板驱动装置带动第二挡板移动，使第二挡板回到起点位置，等待下一流转卡夹。

以上为对本发明实施例的描述，通过对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。