技术特征：
1.一种用于调节涂层过程(201)的方法(100)，借助涂层过程对基底(102)涂层，所述方法(100)具有：
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基于涂层过程(201)的一组多个彼此并行地检测的调节参量驱控(101)第一调整元件(801a)，借助第一调整元件供应涂层过程(201)，并且调节参量中的每个调节参量在驱控第一调节元件(801a)时均被考虑到；和
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基于涂层过程(201)的一组多个彼此检测的调节参量驱控(103)第二调整元件(801b)，借助第二调整元件供应涂层过程(201)，并且调节参量中的每个调节参量在驱控第二调节元件(801b)时均被考虑到。2.根据权利要求1所述的方法(100)，其中，所述第一调整元件(801a)设置为，影响第一种材料对所述涂层过程(201)的供应，其中，所述第二调整元件(801b)设置为，用不同于第一种材料的第二种材料影响对所述涂层过程(201)的供应。3.根据权利要求1或2所述的方法(100)，其中，所述一组多个彼此并行地检测的调节参量中的调节参量彼此不同。4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法(100)，其中，所述一组多个彼此并行检测的调节参量中的一个或多于一个的调节参量代表了所述涂层过程(201)的气压。5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法(100)，其中，所述一组多个彼此并行检测的调节参量中的至少一个调节参量代表了所述涂层过程(201)的电参量。6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法(100)，其中，所述一组多个彼此并行检测的调节参量中的调节参量彼此相互影响。7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法(100)，其中，所述涂层过程(201)在真空中进行。8.根据权利要求1至7中任一项所述的方法(100)，
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其中，驱控所述第一调整元件(801a)影响所述多个调节参量中的每个调节参量；并且
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其中，驱控所述第二调整元件(801b)影响所述多个调节参量中的每个调节参量。9.根据权利要求1至8中任一项所述的方法(100)，其中，在使用一个或多于一个的调节元件的情况下驱控所述第一调整元件(801a)和所述第二调整元件(801b)，调节元件中的每个调节元件实现了所述一组多个彼此并行地检测的调节参量中的每个调节参量对所述第一调整元件(801a)的控制参量的影响。10.根据权利要求1至9中任一项所述的方法(100)，其中，在使用一个或多于一个的调节元件的情况下驱控所述第一调整元件(801a)和所述第二调整元件(801b)，调节元件中的每个调节元件实现了所述一组多个彼此并行地检测的调节参量中的每个调节参量对所述第二调整元件(801b)的控制参量的影响。11.根据权利要求9或10所述的方法(100)，其中，在使用一个或多于一个的调节元件的情况下驱控所述第一调整元件(801a)和所述第二调整元件(801b)，所述调节元件中的每个调节元件实现了所述第一调整元件(801a)的控制参量和所述第二调整元件(801b)的控制参量的结合。12.根据权利要求1至11中任一项所述的方法(100)，其中，在使用一个或多于一个的调节元件的情况下驱控所述第一调整元件(801a)和所述第二调整元件(801b)，调节元件考虑
到了在所述涂层过程(201)和附加的涂层过程(304a)之间的相互影响，借助附加的涂层过程对所述基底(102)涂层。13.用于调节涂层过程(201)的方法(100)，借助涂层过程对基底(102)涂层，所述方法(100)具有：
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基于涂层过程(201)的一组多个彼此并行地检测的调节参量驱控第一调整元件(801a)，借助第一调整元件供应涂层过程(201)；和
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基于涂层过程(201)的一组多个彼此检测的调节参量驱控第二调整元件(801b)，借助第二调整元件供应涂层过程(201)；
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其中，一组多个彼此并行地检测的调节参量的调节参量彼此相互影响。14.用于校准涂层过程(201)的方法(1300)，借助涂层过程对基底(102)涂层，该方法(1300)具有：
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当驱控第一调整元件(801a)时，第一次确定涂层过程(201)的第一调节参量和第二调节参量对涂层过程(201)从参考状态偏转的响应，其中，借助第一调整元件供应涂层过程(201)；
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当驱控第二调整元件(801b)时，第二次确定涂层过程(201)的第一调节参量和第二调节参量对涂层过程(201)从参考状态偏转的响应，其中，借助第二调整元件供应涂层过程(201)；
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其中，前后相继地进行第一次确定和第二次确定。15.用于提供模型生成器(1606)的方法(1700)，该方法具有：
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模拟(1701)一个或多于一个的涂层过程(201)；
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基于模拟的结果训练(1703)模型生成器(1606)，其中，模型生成器(1606)训练用于，确定所述一个或多于一个的涂层过程(201)的模型(2020)。16.用于校准涂层过程(201)的方法(2000)，借助涂层过程对基底(102)涂层，该方法(2000)具有：
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当驱控至少一个调整元件(801a)时，确定(2001)涂层过程(201)对涂层过程(201)从参考状态偏转的响应，其中，借助至少一个调整元件供应涂层过程(201)；
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基于所述响应和基于经训练的模型生成器(1606)确定(2003)调节模型(2020)。17.控制装置(228)，其设置用于执行根据权利要求1至16中任一项所述的方法。18.非易失性数据存储器，具有代码段，所述代码段具有指令，所述指令设置用于，在被处理器执行时，使处理器执行根据权利要求1至16中任一项所述的方法。19.至少一个涂层过程的模拟数据用于训练模型生成器(1606)使其确定至少一个涂层过程的模型的应用。
技术总结
根据不同的实施方式，一种方法(100)可以具有：基于涂层过程(201)的一组多个彼此并行地检测的调节参量驱控第一调整元件(801a)，借助第一调整元件供应涂层过程(201)，并且调节参量中的每个调节参量在驱控第一调节元件(801a)时均被考虑到；基于涂层过程(201)的一组多个彼此检测的调节参量驱控第二调整元件(801b)，借助第二调整元件供应涂层过程(201)，并且调节参量中的每个调节参量在驱控第二调节元件(801b)时均被考虑到。节元件(801b)时均被考虑到。节元件(801b)时均被考虑到。
技术研发人员：马丁
受保护的技术使用者：冯
技术研发日：2021.09.07
技术公布日：2022/3/29