技术特征：
1.一种薄膜沉积设备，其特征在于，其包括：薄膜沉积腔体，用于提供薄膜沉积环境；样品架，用于固定基片，所述样品架可x、y、z三维移动，360度连续旋转并且可调整角度；若干沉积模块，用于在所述基片上沉积薄膜，且所述沉积模块可伸缩并且可调整角度；反馈模块，用于监测薄膜的生长过程和状态；以及控制模块，用于接收所述反馈模块的反馈信息，并根据所述反馈信息对所述沉积模块和/或样品架进行控制。2.如权利要求1所述的薄膜沉积设备，其特征在于，所述反馈模块包括：膜厚测试模块，用于检测薄膜厚度；以及可视化模块，用于识别薄膜沉积过程。3.如权利要求1所述的薄膜沉积设备，其特征在于，所述薄膜沉积设备还包括：第一真空获得模块，用于提供薄膜沉积腔体内的真空环境；第一真空测量模块，用于测量并显示所述薄膜沉积腔体内的真空参数；以及第一冷却模块，用于冷却所述薄膜沉积设备。4.一种物理气相沉积装置，其特征在于，其包括：如权利要求1-3任一项所述的薄膜沉积设备；快速进样设备，所述快速进样设备与所述薄膜沉积腔体密封连接；薄膜调控设备，所述薄膜调控设备与所述薄膜沉积腔体密封连接，用于调控薄膜的性能。5.如权利要求4所述的物理气相沉积装置，其特征在于，所述快速进样设备包括：快速进样腔体；以及分别与所述快速进样腔体法兰密封连接的第二真空获得模块、第二真空测量模块和样品停放台。6.如权利要求4所述的物理气相沉积装置，其特征在于，所述薄膜调控设备包括：反应腔体；以及分别与所述反应腔体法兰密封连接的第三真空获得模块、第三真空测量模块、气压控制模块和加热模块。7.一种薄膜沉积方法，其特征在于，包括下列步骤：参数设定步骤：根据材料需求，设定目标沉积速率，设置第一参数作为调节对象并固定其他参数；参数采集步骤：调节沉积模块和/或样品架实现第一参数的调节，并由控制模块采集参数；第一次速率判断步骤：控制模块判断实际沉积速率满足目标沉积速率，则固定第一参数为最优参数之一；参数判断步骤：控制模块判断需要调整其他参数，固定第一参数并调节其他参数；第二次速率判断步骤：控制模块判断实际沉积速率满足设定沉积速率，则传输至薄膜调控设备中调控薄膜性能。8.如权利要求7所述的薄膜沉积方法，其特征在于，在所述第一次速率判断步骤中，控
制模块判断沉积速率不满足设定沉积速率，则返回参数采集步骤。9.如权利要求7所述的薄膜沉积方法，其特征在于，在所述第二次速率判断步骤中，控制模块判断沉积速率不满足设定沉积速率，则返回参数判断步骤。10.如权利要求7所述的薄膜沉积方法，其特征在于，在所述参数判断步骤中，若控制模块判断不需要调整其他参数，则传输至薄膜调控设备中调控薄膜性能。
技术总结
本发明公开了一种薄膜沉积设备、物理气相沉积装置以及薄膜沉积方法，薄膜沉积设备包括用于提供薄膜沉积环境的薄膜沉积腔体，用于固定基片且可实现X、Y、Z三维移动，360度连续旋转并调整角度的样品架，用于在所述基片上沉积薄膜且可伸缩并调整角度的若干沉积模块，用于监测薄膜的生长过程和状态的反馈模块，以及用于接收所述反馈模块的反馈信息并根据所述反馈信息对所述沉积模块和/或样品架进行控制的控制模块。该薄膜沉积设备可实现薄膜沉积和反应参数的自动调整，对沉积条件进行优化，可以自动调节薄膜的生长调节和反应条件从而制备高质量的薄膜，并针对特点的材料选择最优的沉积条件，实现薄膜沉积过程的闭环控制，获得高性能沉积薄膜。能沉积薄膜。能沉积薄膜。
技术研发人员：程厚义 艾梅尔 李成 杜寅昌 赵巍胜 姚宇暄 许人友 汪建 王燕
受保护的技术使用者：北京航空航天大学合肥创新研究院（北京航空航天大学合肥研究生院）
技术研发日：2021.11.01
技术公布日：2022/2/15