一种应用于氧化钒物理沉积的载片台的制作方法

1.本实用新型涉及物理气相沉积领域，特别涉及一种应用于氧化钒物理沉积的载片台。


背景技术：

2.载片台是一种应用在应用材料物理气相沉积设备磁控溅射生长氧化钒过程中的设备，其主要功能是对供氧化钒生长的衬底进行承托，并保证氧化钒可以均匀地生长在衬底上；
3.传统的载片台的固定方式会出现由于洋气分布不均匀的问题导致生长在衬底上的氧化钒薄膜方块电阻均匀性难以调整，出现一边高一边低或者部分区域偏高或者偏低的问题，为解决该问题，现有技术通常采用在氧化钒沉积过程中改变衬底的上下位置来改变氧化钒沉积的位置，但是该方法在将氧化钒生长偏低的地方改善的同时会使生长合格的位置的氧化钒沉积过量，需要后续加工才可以满足要求，工作效率低。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的是提供一种应用于氧化钒物理沉积的载片台，其优点是可以使转载衬底的载片台实现自转、工装和上下滑移，保证氧化钒沉积的均匀性。
5.本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：
6.一种应用于氧化钒物理沉积的载片台，包括真空筒和设置在真空筒内的载片组件；所述载片组件包括载片盘，所述载片盘的下方转动叠设有公转盘，所述载片盘的中心位置设置有转动轴，所述转动轴穿出所述公转盘后设置有自转齿轮；所述公转盘远离所述转动轴的一侧固定设置于传动杆，所述传动杆上设置有传动齿轮，所述传动齿轮与所述自转齿轮啮合传动连接。
7.通过上述技术方案：传动杆与公转盘偏心设置，在传动杆转动时可以带动公转盘绕传动杆公转，载片盘通过转动轴与公转盘同轴转动，可以实现公转盘在绕传动杆公转的同时带动载片盘绕传动杆公转，由于传动杆上设置的传动齿轮与载片盘通过转动轴设置的自转齿轮驱动连接，可以实现载片盘在公转的同时可以绕转动轴进行自转，通过载片盘的自转和公转，可以使载片盘上的衬底与真空筒内的不同区域的氧化钒接触，从而实现在氧化钒沉积时，均匀地落到载片盘上。
8.本实用新型进一步设置为：所述传动杆上远离所述传动齿轮的一端转动和滑移套置有密封轴承，所述密封轴承密封内嵌在所述真空筒的底面。
9.通过上述技术方案：由于传动杆需从真空筒内穿出至外部大气中，密封轴承可以保证真空筒内不会进入杂质，同时可以实现传动杆的转动和上下滑动。
10.本实用新型进一步设置为：所述真空筒的下方设置有支撑架，所述支撑架上设置有直线轴承，所述直线轴承内滑移转动设置有主动轴，所述传动杆穿出所述密封轴承的端部与所述主动轴连接。
11.通过上述技术方案：直线轴承可以保证主动轴的竖向方向的稳定，可以保证其通过在直线轴承内上下滑动带动传动杆上下滑动的稳定性，有利于保证密封轴承的密封性。
12.本实用新型进一步设置为：所述主动轴的端部设置有驱动架，所述主动轴通过轴承与所述驱动架转动连接，所述驱动架上设置有驱动电机，所述驱动电机伸出轴上设置有驱动齿轮，所述主动轴上设置有第二传动齿轮，所述驱动齿轮与所述第二传动齿轮啮合驱动连接。
13.通过上述技术方案：驱动电机通过驱动齿轮驱动主动轴上设置的第二传动齿轮，可以带动主动轴在轴承和直线轴承内转动，进而带动传动杆转动。
14.本实用新型进一步设置为：所述支撑架位于所述驱动架的一侧设置有伺服滑台，所述驱动架的一端通过滑块与所述伺服滑台滑动连接。
15.通过上述技术方案：伺服滑台可以通过其上的滑块带动驱动架上下滑动，从而带动主动轴上下滑动，进而主动轴可以推动传动杆上下滑动，在传动杆上下滑动时可以带动盘上下运动，有利于氧化钒均匀的沉积在载片盘的目标位置。
16.本实用新型进一步设置为：所述支撑架远离所述伺服滑台的一端设置有滑轨，所述驱动架远离所述伺服滑台的一端与所述滑轨滑动连接。
17.通过上述技术方案：在伺服滑台推动驱动架上下移动时，滑轨可以保证驱动架滑移的稳定性。
18.本实用新型进一步设置为：所述载片盘上设置有多个用于氧化钒沉积的衬底。
19.本实用新型进一步设置为：所述传动齿轮，第二传动齿轮和直线轴承同轴设置。
20.通过上述技术方案：所述传动齿轮，第二传动齿轮和直线轴承同轴设置可以保证上下滑移动作时竖向位移的稳定，不会破坏密封轴承的密封效果，可以有效防止杂质掺入真空筒内。
21.综上所述，本实用新型具有以下有益效果：
22.通过将载片盘上的转动轴和驱动其转动的传动杆错位设置，并且传动杆与叠设在载片盘下方的公转盘固定连接，可以实现传动杆驱动载片盘自转的同时通过公转盘带动载片盘绕传动杆公转，从而实现氧化钒可以均匀的生长在衬底上，不会出现衬底上的氧化钒某个区域高或低的问题。
附图说明
23.图1是本实施例载片台整体示意图；
24.图2是本实施例载片台侧视示意图。
25.附图标记：1、真空筒；2、载片组件；3、载片盘；4、公转盘；5、转动轴；6、自转齿轮；7、传动杆；8、传动齿轮；9、密封轴承；10、支撑架；11、直线轴承；12、主动轴；13、驱动架；14、驱动电机；15、驱动齿轮；16、第二传动齿轮；17、伺服滑台；18、滑轨；19、衬底。
具体实施方式
26.以下结合附图对本实用新型作进一步详细说明。
27.实施例：
28.参考图1和图2，一种应用于氧化钒物理沉积的载片台，包括真空筒1和设置在真空
筒1内的载片组件2,载片组件2包括载片盘3，载片盘3的内侧均匀设置有十二个用于氧化钒沉积的衬底19，本实施例中衬底19的材质选择为硅片，载片盘3的下方转动叠设有与其大小相同的公转盘4，载片盘3的中心位置设置有转动轴5，转动轴5上设置有卡箍，转动轴5从公转盘4的中心穿出，且公转盘4通过卡箍与转动轴5固定连接，转动轴5穿出公转盘4后设置有自转齿轮6，公转盘4远离转动轴5二分之一半径距离的位置固定设置有传动杆7，传动杆7上设置有传动齿轮8，传动齿轮8与自转齿轮6啮合传动连接。
29.参考图2，传动杆7上远离传动齿轮8的一端转动和滑移套置有密封轴承9，传动杆7与密封轴承9的内侧密封连接，密封轴承9密封内嵌在真空筒1的底面中心位置。
30.参考图2，真空筒1的下方设置有支撑架10，支撑架10的下侧面设置有直线轴承11，直线轴承11内滑移转动设置有主动轴12，传动杆7穿出密封轴承9的端部与主动轴12连接，主动轴12的外径大于传动杆7的外径，在传动杆7相对于密封轴承9上下滑动时，主动轴12在抵接到密封轴承9的时候达到最大的上滑位置。
31.参考图2，主动轴12的下端设置有驱动架13，驱动架13为上下双层结构，驱动架13的上下两层的中心位置固定设置有轴承，主动轴12通过轴承与驱动架13转动连接，驱动架13下层位于主动轴12穿出的位置设置有挡块，挡块用于对主动轴12进行限位，驱动架13的上层设置有驱动电机14，驱动电机14伸出轴的端部位于驱动架13之间设置有驱动齿轮15，主动轴12位于驱动架13之间设置有第二传动齿轮16，驱动齿轮15与第二传动齿轮16啮合驱动连接。
32.参考图1和图2，支撑架10位于驱动架13的一侧设置有伺服滑台17，其上滑块的滑动方向主动轴12的长度方向相同，驱动架13的一端通过滑块与伺服滑台17滑动连接，支撑架10远离伺服滑台17的一端设置有滑轨18，滑轨18的长度与伺服滑台17的滑动长度形同，驱动架13远离伺服滑台17的一端与滑轨18滑动连接。
33.本实施例的工作过程和原理：
34.在工序开始时，操作人员操作外部设备将真空筒1进行抽真空操作，由于传动杆7需要由真空端延伸出至大气端，故设置密封轴承9进行密封，通过将公转盘4与驱动其转动的传动杆7偏心设置，可以实现公转盘4绕传动杆7公转，同时在公转盘4上转动设置载片盘3，并同样由传动杆7上的传动齿轮8驱动转动，从而同时实现了传动杆7驱动载片盘3自转，公转盘4驱动载片盘3绕传动杆7公转，从而可以保证即使在真空筒1内注入的氧气分布不均匀的情况下，载片盘3上的衬底19上的氧化钒依旧可以生长均匀，进而实现了提升氧化钒薄膜方块电阻的均匀性，同时本实施例中的载片台结构简单，其硬件的维护效率更高。
35.本具体实施例仅仅是对本实用新型的解释，其并不是对本实用新型的限制，本领域技术人员在阅读完本说明书后可以根据需要对本实施例做出没有创造性贡献的修改，但只要在本实用新型的权利要求范围内都受到专利法的保护。