一种用于PET薄膜涂覆铜层的装置的制作方法

文档序号:30903828发布日期:2022-07-26 23:47阅读:357来源:国知局
一种用于PET薄膜涂覆铜层的装置的制作方法
一种用于pet薄膜涂覆铜层的装置
技术领域
1.本实用新型涉及金属化薄膜处理技术领域,尤其是涉及一种用于pet薄膜涂覆铜层的装置。


背景技术:

2.pet薄膜具有优良的耐热、耐寒性,以及良好的耐化学药品性和耐药性,且气密性较佳。
3.pet薄膜也用于制备金属化薄膜,例如金银线、微型电容器薄膜等。薄膜电容器是一种性能优越的电容器,绝缘阻抗高,频率响应宽广,介质损失小。但现有pet薄膜表面涂覆铜层的装置中,不能同时进行双面涂覆,造成铜层涂覆工序复杂,涂覆效率低。
4.因此,本领域技术人员致力于开发一种用于pet薄膜涂覆铜层的装置,实现双面同时涂覆,涂覆效率高。


技术实现要素:

5.本实用新型所要解决的技术问题是提供一种用于pet薄膜涂覆铜层的装置,实现双面同时涂覆,涂覆效率高。
6.本实用新型解决上述技术问题的技术方案如下:一种用于pet薄膜涂覆铜层的装置,包括真空箱和蒸镀机构,所述真空箱内侧壁安装有放卷辊筒和收卷辊筒,所述真空箱内侧壁还安装有第一导向辊筒和第二导向辊筒,所述第一导向辊筒和所述第二导向辊筒分别位于所述放卷辊筒和所述收卷辊筒上侧,pet薄膜从所述放卷辊筒依次经过所述第一导向辊筒、所述第二导向辊筒后回到所述收卷辊筒;
7.所述蒸镀机构包括分别位于所述pet薄膜两侧的第一蒸镀件和第二蒸镀件,所述第一蒸镀件和所述第二蒸镀件分别安装在第一伸缩机构和第二伸缩机构输出端。
8.本实用新型的有益效果是:第一伸缩机构和第二伸缩机构伸出使得第一蒸镀件和第二蒸镀件分别靠近pet薄膜两侧后在真空作用下蒸镀铜层,从而实现两侧同时蒸镀涂覆,操作效率高,速率快。
9.在上述技术方案的基础上,本实用新型还可以做如下改进。
10.进一步,所述真空箱内安装有第一制冷件和第二制冷件,所述pet薄膜从所述第一制冷件和所述第二制冷件中穿过,且所述第一制冷件和所述第二制冷件分别位于所述第一蒸镀件和所述第二蒸镀件左侧。
11.采用上述进一步方案的有益效果是蒸镀前现将pet薄膜冷却,使得铜蒸汽能迅速粘接在pet薄膜表面形成铜层。
12.进一步,所述第一伸缩机构和所述第二伸缩机构均包括安装在所述真空箱侧壁的支撑板,所述支撑板上安装有第一气缸,两个所述第一气缸输出端分别安装有所述第一蒸镀件和所述第二蒸镀件。
13.采用上述进一步方案的有益效果是气缸控制蒸镀件上升或者下降,便于安装和拆
卸pet薄膜。
14.进一步,所述真空箱内还安装有阻挡机构,两个阻挡机构分别位于所述第一蒸镀件和所述第二蒸镀件对侧。
15.采用上述进一步方案的有益效果是阻挡机构减少铜蒸汽散发,提高蒸镀质量。
16.进一步,所述阻挡机构包括第二气缸以及安装在所述第二气缸输出端的阻挡件,所述阻挡件与蒸镀件之间形成通道,所述pet薄膜从所述通道中穿过。
17.采用上述进一步方案的有益效果是阻挡件减少铜蒸汽散发,提高蒸镀质量。
18.进一步,所述放卷辊筒和所述收卷辊筒均通过中间齿轮啮合连接有动力装置。
19.采用上述进一步方案的有益效果是动力装置驱动收卷辊筒和放卷辊筒转动。
20.进一步,所述第一蒸镀件和所述第二蒸镀件之间还安装有走料机构。
21.采用上述进一步方案的有益效果是走料机构驱动pet薄膜移动,防止pet薄膜摩擦过大,出现断裂。
22.进一步,所述真空箱外还安装有真空泵和真空表。
23.采用上述进一步方案的有益效果是真空泵使得真空箱内维持真空环境,真空表用于检测真空箱内的真空度。
24.进一步,所述真空箱外侧壁安装有控制器,所述控制器与所述真空泵、所述动力装置、所述第一蒸镀件和所述第二蒸镀件均电性连接。
25.采用上述进一步方案的有益效果是控制器控制各执行机构动作。
26.进一步,所述第一气缸和所述第二气缸通过压缩空气管连接有压缩空气控制机构。
27.采用上述进一步方案的有益效果是压缩空气控制机构控制各气缸动作。
附图说明
28.图1为本实用新型一具体实施例结构示意图;
29.图2为本实用新型一具体实施例内部结构示意图;
30.图3为本实用新型一具体实施例伸缩机构和蒸镀机构结构示意图。
31.附图中,各标号所代表的部件列表如下:
32.1、真空箱;2、放卷辊筒;3、收卷辊筒;4、第一导向辊筒;5、第二导向辊筒;6、pet薄膜;7、第一蒸镀件;8、第二蒸镀件;9、第一制冷件;10、第二制冷件;11、第一气缸;12、阻挡件;13、第二气缸;14、通道;15、中间齿轮;16、动力装置;17、走料机构;18、阻挡机构;19、真空泵;20、真空表;21、控制器。
具体实施方式
33.以下结合附图对本实用新型的原理和特征进行描述,所举实例只用于解释本实用新型,并非用于限定本实用新型的范围。
34.在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“长度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“内”、“外”、“周侧”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的系统或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能
理解为对本实用新型的限制。
35.在本实用新型的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。
36.在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
37.如图1、图2和图3所示,一种用于pet薄膜涂覆铜层的装置,包括真空箱1和蒸镀机构,真空箱1内侧壁安装有放卷辊筒2和收卷辊筒3,放卷辊筒2和收卷辊筒3处于同一直线上,放卷辊筒2和收卷辊筒3均通过中间齿轮15啮合连接有动力装置16,动力装置16多采用低速电机,且中间齿轮15为减速齿轮。
38.真空箱1内侧壁还安装有第一导向辊筒4和第二导向辊筒5,第一导向辊筒4和第二导向辊筒5也处于同一直线上,第一导向辊筒4和第二导向辊筒5分别位于放卷辊筒2和收卷辊筒3上侧,pet薄膜6从放卷辊筒2依次经过第一导向辊筒4、第二导向辊筒5后回到收卷辊筒3。蒸镀机构包括分别位于pet薄膜6两侧的第一蒸镀件7和第二蒸镀件8,蒸镀件用于向pet薄膜6表面蒸镀铜层,第一蒸镀件7和第二蒸镀件8分别安装在第一伸缩机构和第二伸缩机构输出端。
39.本实用新型中,第一伸缩机构和第二伸缩机构伸出使得第一蒸镀件7和第二蒸镀件8分别靠近pet薄膜6两侧后在真空加热作用下蒸镀铜层,从而实现两侧同时蒸镀涂覆,操作效率高,速率快。
40.一些实施例中,真空箱1内安装有第一制冷件9和第二制冷件10,制冷件可采用半导体制冷件,pet薄膜6从第一制冷件9和第二制冷件10中穿过,且第一制冷件9和第二制冷件10分别位于第一蒸镀件7和第二蒸镀件8左侧,哪一侧需要蒸镀铜层时,与pet薄膜6相对应的那一面制冷件开始制冷。第一蒸镀件7和第二蒸镀件8之间还安装有走料机构17,具体的,走料机构17为上下对称的辊筒,pet薄膜6从两个滚筒之间穿过,且滚筒表面与pet薄膜6表面接触,其中一个滚筒连接有驱动装置。
41.具体实施例中,第一伸缩机构和第二伸缩机构均包括安装在真空箱1侧壁的支撑板,支撑板与真空箱1侧壁固定连接,支撑板上安装有第一气缸11,两个第一气缸11输出端分别安装有第一蒸镀件7和第二蒸镀件8,为了便于安装蒸镀件,第一气缸11输出端安装有安装板,蒸镀件安装在安装板上,需要蒸镀铜层时,第一气缸11伸出,使得第一蒸镀件7和第二蒸镀件8靠近pet薄膜6两侧后开始蒸镀铜层。需要更换pet薄膜6或者不需要蒸镀时,第一气缸11收缩,从而便于将pet薄膜6取下。
42.另一实施例中,真空箱1内还安装有阻挡机构18,两个阻挡机构18分别位于第一蒸镀件7和第二蒸镀件8对侧,阻挡机构18减少铜蒸汽挥发,最大限度的将铜蒸汽涂覆于pet薄膜6表面。具体的,阻挡机构18包括第二气缸13以及安装在第二气缸13输出端的阻挡件12,阻挡件12呈凵型,且阻挡件12的中间宽度略宽于蒸镀件的宽度。阻挡件12与蒸镀件之间形成通道14,pet薄膜6从通道14中穿过,通道14能有效的减少铜蒸汽散发,第一气缸11和第二气缸13通过压缩空气管连接有压缩空气控制机构,压缩空气控制机构提供压缩空气并控制
第一气缸11和第二气缸13伸缩。
43.真空箱1外还安装有真空泵19和真空表20,真空泵19使得真空箱1内维持真空环境,真空表20用于检测真空箱1内的真空度。真空箱1外侧壁安装有控制器21,控制器21与真空泵19、动力装置16、第一蒸镀件7和第二蒸镀件8均电性连接,控制器21控制各执行机构协同动作。
44.在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外,在不相互矛盾的情况下,本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
45.以上所述仅为本实用新型的较佳实施例,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
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