中，所述第二屏蔽件覆盖所述第一屏蔽件和/或所述移动设备。
[0126]27.根据前述特征中的任何一者所述的涂布室，
[0127]其中，所述第一屏蔽件覆盖围绕要被涂布的所述衬底的表面的区域和/或覆盖所述衬底支架。
[0128]28.根据前述特征中的任何一者所述的涂布室，
[0129]其中，所述第一屏蔽件的所述移动设备被设计为使得所述第一屏蔽件仅在所述室内移动。
[0130]29.一种操作涂布室的方法，包括以下步骤:
[0131]在衬底支架上提供衬底，
[0132]从不同的操作模式中选择一个操作模式，其中
[0133]第一操作模式包括在所述涂布室的可移动屏蔽件在涂布过程中保持静止的状态下，所述衬底支架连续移动通过所述涂布室的涂布区域，
[0134]第二操作模式包括
[0135]将所述衬底支架和所述衬底一同移动到连接位置，
[0136]将所述衬底支架与设置在所述涂布室中的可移动屏蔽件相连接，以及
[0137]将所述衬底支架和所述可移动屏蔽件移动到至少一个其他的位置，使得所述衬底在相对于涂布源的至少两个不同的位置中得到涂布，以及
[0138]第三操作模式包括在所述涂布室的所述可移动屏蔽件在涂布期间保持静止的状态下对所述衬底进行静止的涂布。
[0139]30.根据特征29所述的方法，
[0140]其中，在所述第二操作模式中，所述衬底支架和所述可移动屏蔽件摆动，使得所述衬底支架和所述可移动屏蔽件重复地移动通过所述涂布室的涂布区域。
[0141]虽然已经参照具体实施例描述了本发明，但是本领域技术人员显然知道本发明不局限于这些实施例，而是可以覆盖变化和修改(例如通过省略单个特征或者通过所示出的特征的不同的结合)而不超出所附权利要求的范围。特别地，本发明覆盖这里描述的特征的全部的组合。
【主权项】
1.一种涂布室，包括 涂布源， 传输装置，其用于将适合于能够承载要被涂布的衬底的衬底支架相对于所述涂布源移动到至少一个涂布位置中，使得所述衬底可被涂布，以及 至少一个第一屏蔽件，其设置在所述衬底的涂布位置与所述涂布源之间的区域中，以防止除了要被涂布的所述衬底的表面之外的区域受到涂布， 其中， 所述第一屏蔽件包括用于在平行于所述衬底的方向上移动所述第一屏蔽件的移动设备和用于将所述第一屏蔽件与所述衬底支架相连接的连接装置，使得所述第一屏蔽件和所述衬底支架可一同移动， 其中，所述移动设备设计成使得允许所述第一屏蔽件与所述衬底支架独立地移动。2.根据权利要求1所述的涂布室， 其中，所述涂布室是真空室。3.根据权利要求1或2所述的涂布室， 其中，所述涂布源是从包括CVD源、PECVD源、PVD源、溅射源和气相沉积源的组中选择的。4.根据前述权利要求中的任何一者所述的涂布室， 其中，所述涂布源限定了沉积速率高于预定值的涂布区域，所述涂布区域至少在一个维度上小于要被涂布的所述衬底表面。5.根据前述权利要求中的任何一者所述的涂布室， 其中，所述涂布源包括分布在所述涂布源上方的一个或多个处理工具。6.根据权利要求5所述的涂布室， 其中，所述处理工具是从包括电极、磁控管电极、喷头电极、可旋转电极、双电极、微波源、加热器、溅射靶、气体入口、蒸发源的组中选择的。7.根据前述权利要求中的任何一者所述的涂布室， 其中，所述传输装置适合于将所述衬底支架和要被涂布的所述衬底一同相对于所述涂布源设置在数个涂布位置。8.根据前述权利要求中的任何一者所述的涂布室， 其中，所述传输装置适合于使得所述衬底支架和所述衬底一同相对于所述涂布源摆动。9.根据前述权利要求中的任何一者所述的涂布室， 其中，所述传输装置的传输方向与所述涂布源的长度方向横交。10.根据权利要求4所述的涂布室， 其中，所述传输装置的传输方向与所述涂布区域小于要被涂布的所述衬底表面的方向平行。11.根据前述权利要求中的任何一者所述的涂布室， 其中，所述传输装置包括驱动器和/或引导装置。12.根据权利要求11所述的涂布室， 其中，所述传输装置适合于直立传输板状衬底和/或所述引导装置包括限定了传输路径的支撑件以及相对的引导轨。13.根据权利要求11或12所述的涂布室， 其中，所述传输装置包括用于支撑和/或驱动所述衬底支架的辊。14.根据权利要求11或12所述的涂布室， 其中，所述引导装置包括无接触引导件或磁性引导件。15.根据前述权利要求中的任何一者所述的涂布室， 其中，所述传输装置包括限定了被设置为彼此平行的数个传输路径的数个引导装置。16.根据前述权利要求中的任何一者所述的涂布室， 其中，用于所述第一屏蔽件的所述移动设备包括至少一个驱动器和/或至少一个引导设备。17.根据权利要求16所述的涂布室， 其中，所述移动设备适合于移动环状屏蔽件和/或引导设备包括限定屏蔽件传输路径的屏蔽件支撑件以及相对的屏蔽件引导轨。18.根据权利要求16或17所述的涂布室， 其中，所述移动设备包括用于支撑和/或驱动所述屏蔽件的辊。19.根据权利要求16或17所述的涂布室， 其中，所述引导设备包括无接触引导件或磁性引导件。20.根据前述权利要求中的任何一者所述的涂布室， 其中，所述传输装置和所述移动设备具有一个公共的驱动器或数个独立的驱动器。21.根据前述权利要求中的任何一者所述的涂布室， 其中，所述连接装置包括形状配合元件。22.根据前述权利要求中的任何一者所述的涂布室， 其中，所述传输装置和/或所述移动设备可至少部分地相对于彼此移动或者相对于所述涂布源移动。23.根据前述权利要求中的任何一者所述的涂布室， 其中，所述传输装置和/或所述移动设备可至少部分地与所述衬底支架的传输方向横向地移动和/或沿着从所述涂布源到要被涂布的所述衬底的涂布方向移动。24.根据前述权利要求中的任何一者所述的涂布室， 其中，所述传输装置和/或所述移动设备包括引导轨，所述引导轨彼此并排地设置并且与相对的支撑件具有相等的距离，或者所述引导轨中的一者被设置在其他者的后方并与相对的支撑件具有不同的距离。25.根据前述权利要求中的任何一者所述的涂布室， 其中，设置至少一个第二屏蔽件，所述第二屏蔽件相对于所述涂布源固定。26.根据权利要求25所述的涂布室， 其中，所述第二屏蔽件覆盖所述第一屏蔽件和/或所述移动设备。27.根据前述权利要求中的任何一者所述的涂布室， 其中，所述第一屏蔽件覆盖围绕要被涂布的所述衬底的表面的区域和/或覆盖所述衬底支架。28.根据前述权利要求中的任何一者所述的涂布室， 其中，所述第一屏蔽件的所述移动设备被设计为使得所述第一屏蔽件仅可在所述室内移动。29.一种操作涂布室的方法，所述方法包括以下步骤: 在衬底支架上提供衬底， 从不同的操作模式中选择一个操作模式，其中 第一操作模式包括在所述涂布室的可移动屏蔽件在涂布过程中保持静止的状态下，所述衬底支架连续移动通过所述涂布室的涂布区域， 第二操作模式包括 将所述衬底支架和所述衬底一同移动到连接位置， 将所述衬底支架与设置在所述涂布室中的可移动屏蔽件相连接，以及将所述衬底支架和所述可移动屏蔽件移动到至少一个其他的位置，使得所述衬底在相对于涂布源的至少两个不同的位置中得到涂布，以及 第三操作模式包括在所述涂布室的所述可移动屏蔽件在涂布期间保持静止的状态下对所述衬底进行静止的涂布。30.根据权利要求29所述的方法， 其中，在所述第二操作模式中，所述衬底支架和所述可移动屏蔽件摆动，使得所述衬底支架和所述可移动屏蔽件重复地移动通过所述涂布室的涂布区域。
【专利摘要】本发明涉及具有可移动屏蔽件的涂布室。本发明涉及操作涂布室的方法以及一种涂布室，该涂布室包括：涂布源；传输装置，其用于将适合于承载要被涂布的衬底的衬底支架相对于涂布源移动到至少一个涂布位置中，使得衬底可以被涂布；以及至少一个第一屏蔽件，其设置在衬底的涂布位置与涂布源之间的区域中，以防止除了要被涂布的衬底的表面之外的区域受到涂布，其中，第一屏蔽件包括移动设备和用于将第一屏蔽件与衬底支架相连接的连接设备，使得第一屏蔽件和衬底支架可以一同移动。
【IPC分类】H01L21/687, C23C16/458, C23C14/50, C23C14/56
【公开号】CN104947061
【申请号】CN201510442799
【发明人】汉斯·沃尔夫, 拉尔夫·林德伯格
【申请人】应用材料公司
【公开日】2015年9月30日
【申请日】2009年8月13日
【公告号】CN102131955A, WO2010023109A1