分别设置两套独立的工件输送系统，且两套工件输送系统交替运行，可有效提高生产效率，大幅度提尚广能。
[0037]其中，镀膜室内的上部设有多套磁控溅射靶6，磁控溅射靶的靶材为单块状的靶材或多块拼接状的双跑道式大口径旋转圆柱靶(如图3及图4所示)，可大幅度降低稀有金属的加工难度，提高稀有金属利用率。
[0038]传动辊组包括多个并排设置的传动辊，如图3所示，各传动辊分别包括传动辊套7和传动辊轴8，传动辊套设于传动辊轴外周，传动辊轴两端分别设置支撑座9，传动辊轴一端通过传动轮10外接驱动机构，驱动机构可采用与现有设备相同的驱动机构。传动辊轴两端还分别设有绝缘座11，绝缘座位于支撑座与传动辊套的端面之间。传动辊的两端还分别设有屏蔽板12，各屏蔽板分别设于支撑座上方。
[0039]如图1所示，进出料架与进出料室之间设有真空锁13，进出料室与缓冲室之间也设有真空锁，镀膜室与其两端的缓冲室连通形成相连的真空室。真空锁可采用目前市面通用的真空锁。
[0040]进出料室一侧设有抽真空机组14，缓冲室或镀膜室一侧也设有抽真空机组，进出料室内设有离子处理组件。抽真空机组和离子处理组件均采用与现有镀膜装置所采用的抽真空机组和离子处理组件即可。
[0041]进出料室一侧还设有对流快速冷却方式的快速冷却装置15，如图2所示，快速冷却装置包括相连接的压缩机17和冷凝器18，压缩机的出口端还与进出料室的一侧连接，冷凝器的出口端通过冷却管19与进出料室的另一侧连接；当进出料室处于进料状态时，开启抽真空机组对进出料室进行抽真空处理；当进出料室处于出料状态时，开启快速冷却装置对工件进行快速冷却处理。
[0042]本实施例通过上述装置实现一种双向进出交替镀膜方法，如图1中的箭头所示，包括以下步骤:
[0043](1)工件通过进出料架送入进出料室，先对进出料室进行抽真空处理，再对工件表面进行离子处理；
[0044](2)然后将工件依次送入缓冲室和镀膜室，通过传动辊组的带动，工件在镀膜室内来回运动，进行多层镀膜；
[0045](3)完成镀膜后，工件反向运动，依次送入缓冲室和进出料室；同时，位于镀膜室另一端的工件由相应的进出料架开始进行输送；
[0046](4)完成镀膜的工件进入进出料室时，在进出料室内进行快速冷却，然后送至进出料架，送出双向进出交替镀膜装置；对完成镀膜的工件进行快速冷却时，采用惰性气体对流快速冷却的方式，其冷却效率较高，可提高工件的出片速度，并且大幅度降低工件表面吸附杂志的能力，有效提尚广品质量；
[0047](5)重复步骤(1)至(4)，位于镀膜室两端的工件5交替进入镀膜室，进行镀膜处理。
[0048]实施例2
[0049]本实施例一种双向进出交替镀膜装置，如图5所示，与实施例1相比较，其不同之处在于:镀膜室4有两个，分别配合其左右两端的工件输送系统(即进出料架、进出料室和缓冲室)使用，同时，两个镀膜室的外侧面还分别设有缓冲室，可实现左右两端工件在镀膜时交换位置的来回镀膜，大幅提高生产效率。
[0050]实施例3
[0051]本实施例一种双向进出交替镀膜装置，与实施例2相比较，其不同之处在于:两个镀膜室外侧的缓冲室为一个整体，可实现左右两端工件循环转换位置的来回镀膜，大幅提高生产效率。
[0052]如上所述，便可较好地实现本发明，上述实施例仅为本发明的较佳实施例，并非用来限定本发明的实施范围；即凡依本
【发明内容】
所作的均等变化与修饰，都为本发明权利要求所要求保护的范围所涵盖。
【主权项】
1.双向进出交替镀膜装置，其特征在于，包括进出料架、进出料室、缓冲室和镀膜室，镀膜室两端对称设置依次连接的缓冲室、进出料室和进出料架，位于镀膜室同一端的进出料架、进出料室和缓冲室独立完成同一个工件或同一组工件的进料和出料；镀膜室内的下部设有双向传动的传动辊组，通过传动辊组带动同一个工件或同一组工件在镀膜室内来回运动，进行多层镀膜。2.根据权利要求1所述的双向进出交替镀膜装置，其特征在于，所述镀膜室内的上部设有多套磁控溅射靶，磁控溅射靶的靶材为单块状的靶材或多块拼接状的双跑道式大口径旋转圆柱革巴。3.根据权利要求1所述的双向进出交替镀膜装置，其特征在于，所述传动辊组包括多个并排设置的传动辊，各传动辊分别包括传动辊套和传动辊轴，传动辊套设于传动辊轴外周，传动辊轴两端分别设置支撑座，传动辊轴一端通过传动轮外接驱动机构。4.根据权利要求3所述的双向进出交替镀膜装置，其特征在于，所述传动辊轴两端还分别设有绝缘座，绝缘座位于支撑座与传动辊套的端面之间。5.根据权利要求3所述的双向进出交替镀膜装置，其特征在于，所述传动辊的两端还分别设有屏蔽板，各屏蔽板分别设于支撑座上方。6.根据权利要求1所述的双向进出交替镀膜装置，其特征在于，所述进出料架与进出料室之间设有真空锁，进出料室与缓冲室之间也设有真空锁，镀膜室与其两端的缓冲室连通形成相连的真空室。7.根据权利要求6所述的双向进出交替镀膜装置，其特征在于，所述进出料室一侧设有抽真空机组，缓冲室或镀膜室一侧也设有抽真空机组，进出料室内设有离子处理组件。8.根据权利要求7所述的双向进出交替镀膜装置，其特征在于，所述进出料室一侧还设有对流快速冷却方式的快速冷却装置，快速冷却装置包括相连接的压缩机和冷凝器，压缩机的出口端还与进出料室的一侧连接，冷凝器的出口端通过冷却管与进出料室的另一侧连接； 当进出料室处于进料状态时，开启抽真空机组对进出料室进行抽真空处理；当进出料室处于出料状态时，开启快速冷却装置对工件进行快速冷却处理。9.根据权利要求1?8任一项所述装置实现的双向进出交替镀膜方法，其特征在于，包括以下步骤: (1)工件通过进出料架送入进出料室，先对进出料室进行抽真空处理，再对工件表面进行离子处理； (2)然后将工件依次送入缓冲室和镀膜室，通过传动辊组的带动，工件在镀膜室内来回运动，进行多层镀膜； (3)完成镀膜后，工件反向运动，依次送入缓冲室和进出料室；同时，位于镀膜室另一端的工件由相应的进出料架开始进行输送； (4)完成镀膜的工件进入进出料室时，在进出料室内进行快速冷却，然后送至进出料架，送出双向进出交替镀膜装置； (5)重复步骤(I)至(4)，位于镀膜室两端的工件交替进入镀膜室，进行镀膜处理。10.根据权利要求9所述的双向进出交替镀膜方法，其特征在于，所述步骤(4)中，对完成镀膜的工件进行快速冷却时，采用惰性气体对流快速冷却的方式。
【专利摘要】本发明公开一种双向进出交替镀膜装置及方法，其装置是在镀膜室两端对称设置依次连接的缓冲室、进出料室和进出料架，位于镀膜室同一端的进出料架、进出料室和缓冲室独立完成同一个工件或同一组工件的进料和出料；镀膜室内设有双向传动的传动辊组，带动同一个工件或同一组工件在镀膜室内来回运动，进行多层镀膜。其方法是在镀膜室一端，工件依次进入进出料架、进出料室、缓冲室和镀膜室，在镀膜室内通过传动辊组带动工件来回运动进行多层镀膜；完成镀膜后，工件反向运动送出；同时，位于镀膜室另一端的工件由相应的进出料架开始进行输送；镀膜室两端的工件交替进入镀膜室，进行镀膜处理。本发明可满足磁性材料的厚膜要求，并可有效提高加工效率。
【IPC分类】C23C14/56, C23C14/35
【公开号】CN105239051
【申请号】CN201510791028
【发明人】朱文廓, 朱刚劲, 朱刚毅
【申请人】广东腾胜真空技术工程有限公司
【公开日】2016年1月13日
【申请日】2015年11月17日