磁性记录介质用玻璃基板及生产其的方法
【专利说明】磁性巧录介质用玻璃基板及生产其的方法
[0001] 本申请为2012年5月25日提交的、申请号为201210166594. 4的、发明名称为"周 表面抛光刷和生产磁性记录介质用玻璃基板的方法"的申请的分案申请。
技术领域
[0002] 本发明设及周表面抛光刷和使用周表面抛光刷生产磁性记录介质用玻璃基板的 方法。
【背景技术】
[0003] 随着近年来磁盘的高记录密度的增加，磁性记录介质用玻璃基板所需的特性变得 越来越严格。具体地，当其中屯、处具有圆形孔的用于磁性记录介质的盘形玻璃基板的边缘 表面被抛光时，玻璃基板的边缘表面的形状和尺寸的质量所需的精度增加。
[0004] 磁性记录介质用玻璃基板在生产所述玻璃基板的过程中经受周表面抛光，W便去 除玻璃基板的侧表面或倒角部分上的刮痕和粗糖部并从而将表面精加工成平坦的镜面。通 过将玻璃基板的侧表面或倒角部分精加工成平坦的镜面，玻璃基板的机械性能得到提高。 此外，侧表面或边缘表面上的粗糖部上存在的异物被减少且由侧表面或边缘表面的粗糖部 产生的树脂材料盒的磨损引起的颗粒被减少。
[0005] 在玻璃基板的内周表面抛光中，例如，玻璃基板被堆叠的玻璃基板堆被安装在周 表面抛光机器上，且抛光刷被插入玻璃基板堆中W抛光。然而，当抛光刷被推入玻璃基板堆 的内周表面中时，存在抛光刷的轴由于玻璃基板堆的排斥力而弯曲的问题。
[0006] 因此，专利文献1公开了通过在对抛光刷施加向下载荷的状态下抛光玻璃基板堆 来抑制抛光刷的弯曲。
[0007][专利文献1] JP-A-2006-007350
【发明内容】
[0008] 然而，在专利文献1的方法中，存在需要施加向下载荷的设备且周表面抛光机器 具有复杂构造的问题。此外，实际上不能评估抛光的变化和玻璃基板堆中的镜面缺陷。
[0009] 因此，本发明的目的是提供一种周表面抛光刷，其能够均匀地且稳定地抛光内周 倒角部分和内周侧表面而不必使用具有复杂构造的任何周表面抛光机器。
[0010] 本发明提供一种周表面抛光刷，用于对磁性记录介质用玻璃基板的内周表面进行 抛光，在所述玻璃基板的中屯、处具有圆形孔，
[0011] 其中所述周表面抛光刷包括轴，在所述轴上植入有刷丝，并且当对所述轴施加 19. 6N的载荷时，所述轴具有420 ym或更小的最大弯曲值。
[0012] 本发明的效果如下。
[0013] 本发明提供一种周表面抛光刷，其能够均匀地且稳定地抛光内周倒角部分和内周 侧表面而不必使用具有复杂构造的任何周表面抛光机器。
【附图说明】
[0014] 图1是示出通过根据本发明的生产磁性记录介质用玻璃基板的方法构造玻璃基 板的透视横截面图。
[0015] 图2是示出磁性记录介质用玻璃基板的内周表面被抛光的状态的示意图。
[0016] 图3是示出根据本发明的周表面抛光刷的示意性横截面视图。
[0017] 图4是根据本发明的周表面抛光刷的放大的横截面视图。
[0018] 附图标记说明
[0019] 1...玻璃基板
[0020] 2...主表面 阳OW3...圆形孔 阳0巧 4...外周表面 阳〇2引 5...外周侧表面 [0024] 6...外周倒角部分 阳0巧]7...内周表面
[0026] 8...内周侧表面
[0027] 9...内周倒角部分
[0028] 10...间隔件
[0029] 11...玻璃基板堆
[0030]12...周表面抛光刷 W31] 13...刷丝
[0032]14...轴
[0033] 15...通道部件
[0034]16...植入的丝的长度
[0035]17...通道部件的高度
[0036]18...植丝部分
[0037]19...通道部件的节距宽度
[0038] 20...周表面抛光刷的外径
[0039]21...刷丝的长度
【具体实施方式】
[0040] 在下文中，将描述本发明的优选实施例，但是本发明不限于此。
[0041] 首先，将描述使用周表面抛光刷抛光磁性记录介质用玻璃基板的构造。图1是示 出玻璃基板的构造的透视横截面视图。在图1中，玻璃基板1具有环状物形状，其在主表面 2的中屯、处具有圆形孔3。玻璃基板1的外周的侧表面是外周表面4,而圆形孔3的侧表面 是内周表面7。外周表面4包括与主表面2形成90度角度的外周侧表面5和在外周侧表面 5处接触主表面2的外周倒角部分6。而且，内周表面7包括：与主表面2形成90度角度的 内周侧表面8;和接触主表面2及内周侧表面8的内周倒角部分9。
[0042] 图2是示出磁性记录介质用玻璃基板的内周表面被抛光的状态的示意图。当磁性 记录介质用玻璃基板的内周表面被抛光时，多个盘形玻璃基板使圆形孔重叠，使得玻璃基 板对应于圆形孔的位置，从而形成玻璃基板堆。此时，如图2所示，间隔件10可W例如插入 相邻的盘形玻璃基板1之间。通过将间隔件10插入其间，刷丝和抛光浆料容易进入到主表 面2和内周倒角部分9之间的边界，且内周表面7能够被进一步均匀地抛光。此外，可防止 对玻璃基板的主表面的刮擦。通常，在玻璃基板堆中，间隔件10的圆形孔具有与玻璃基板 的圆形孔相同的中屯、轴线且中屯、轴线在垂直于玻璃基板1的主表面2的方向上延伸。
[0043] 优选地，间隔件10的圆形孔的内径略微大于由玻璃基板1的主表面2和主表面2 的内周倒角部分9之间的边界形成的直径。通过使间隔件10的圆形孔的内径略大于由玻 璃基板1的主表面2和主表面2的内周倒角部分9之间的边界形成的直径，内周倒角部分 9的整个表面可被均匀地抛光。而且，间隔件10的厚度优选地是0. 2mm至0. 5mm。当间隔 件10的厚度小于0. 2mm时，可能难W均匀地抛光内周倒角部分9的整个表面。另一方面， 当间隔件10的厚度大于0. 5mm时，由于玻璃基板堆的尺寸增加，所W不是优选的。同样，间 隔件10的材料具体不受限制，而是例如可使用橡胶、塑料、侣合金、不诱钢等。
[0044] 堆叠多个玻璃基板的玻璃基板堆11安装在保持部分中W将玻璃基板堆保持在众 所周知的内周表面抛光机器中。然后，将下述的周表面抛光刷12插入形成在玻璃基板堆11 的中屯、处的圆形孔3中，使得玻璃基板的内周侧表面8及内周倒角部分9与刷丝13接触。 之后，将包含研磨料的抛光浆料供应到玻璃基板的内周侧表面8和内周倒角部分9。在该状 态下，通过在相反的方向旋转玻璃基板堆11和周表面抛光刷12来执行抛光。
[0045] 此时，例如，周表面抛光刷12可被强有力地压到玻璃基板堆11上约1. 5mm至约 2.Omm的深度。而且，可通过使周表面抛光刷12在刷插入方向上往复运动来执行抛光。而 且，周表面抛光刷12往复运动的往复运动距离优选地为玻璃基板堆在堆方向上的长度的 15%或更多。当周表面抛光刷12往复运动的往复运动距离低于玻璃基板堆沿堆方向的长 度的15 %时，可能会由玻璃基板堆沿抛光刷的轴向方向的变化特性引起抛光的变化量。
[0046] 在图2中，通过堆叠六个盘形玻璃基板形成了玻璃基板堆，但是本发明不限于 此。待堆叠的多个盘形玻璃基板的堆叠数目具体不受限制且玻璃基板堆可形成为例如堆叠 100、200或300个玻璃基板。通常，通过增加堆叠的玻璃基板的数目，许多玻璃基板可被同 时抛光且鉴于经济效率和效能是更优选的。
[0047][周表面抛光刷]
[0048] 图3是示出根据本发明的周表面抛光刷12的示意性横截面视图。而且，图4是周 表面抛光刷12的放大的横截面视图。周表面抛光刷12通常包括周向轴14和安装在轴14 上的刷丝13。刷丝13在大体垂直于轴14的周向方向的方向上植入。 W例周向轴14在轴向方向上在中屯、处的最大弯曲值5 (ym)使用施加的载荷P㈱、 轴14在轴向方向上的长度L(Him)、轴的直径r(底部的半径）（mm)和构成材料的杨氏模量 E(GPa)定义为W下公式（1)。 阳0 加]5 =PLV(123ir4E) (1)
[0051] 测量公式（1)的最大弯曲值的方法在上面示出且本发明不限于此。例如，轴的在 轴向方向上的两端的IOmm内侧被支撑，在轴向方向上利用推拉规等将19.6N的载荷施加到 轴的中屯、且利用刻度表等测量运动距离（即，最大弯曲值）。
[0052] 在本发明的周表面抛光刷12中，在19. 6N的载荷被施加到轴14的情形中的弯曲 值优选地为420ym或更小，更优选地为400ym或更小，甚至更优选地为300ym或更小， 特别优选地为250ym或更小。通过使用其中当19. 6N的载荷被施加到轴14时弯曲值为 420ym或更小的周表面抛光刷，当内周表面被抛光时轴不会弯曲且玻璃基板堆因而可被均 匀地抛光。具体地，在同一玻璃基板堆批次中的抛光变化可被控制到7ym或更小，因而可 实现内周倒角部分和内周侧表面的均匀且稳定的抛光。此时，轴的杨氏模量E、轴的底部的 半径r和轴的长度L具体不受限制，只要轴的弯曲值5满足基于公式（1)的所有前述条件 即可。
[005引将刷丝13植入在周表面抛光刷12上的方法具体不受限制，且例如如图3