钢板：
[0064] 清洁，Chemkleen 2010LP(1.25%v/v)/Chemkleen 181ALP(0.125%)，在 120 叩喷 涂纷钟；
[00化]DI浸没冲洗，15秒，环境溫度；
[0066] DI喷涂冲洗，15秒，环境溫度；
[0067] 活化剂，1分钟浸泡，环境溫度；
[006引 Chemfos 700AU2分钟浸泡，125 叩
[0069] DI喷涂冲洗，15秒，环境溫度；
[0070] 喷出（blowoff)暖空气直到干燥
[0071] 实施例1
[0072] 憐酸锋活化剂洗液是通过将2.6g的分散体A分散到化去离子水中来制备的。所得 的洗液的理论浓度是〇.5g/L的分散的憐酸锋。将运个浴作为活化剂用于上面详细描述的标 准憐酸锋化方法，来在冷社钢(CRS)和电锻锋钢化G)的4" X6"面板上产生憐酸盐涂层。 [007；3] 实施例2
[0074]将实施例1的分散体用去离子水稀释到它初始浓度的30%，或者0.149g/L的分散 的憐酸锋。如实施例1那样，将运个浴作为活化剂用于标准憐酸锋化方法中来在CRS和EG面 板上产生憐酸盐涂层。该EG面板具有可接受的外观，但是CRS面板上的憐酸锋涂层是不完整 和不可接受的。
[00巧]实施例3
[0076] 将3g的分散体B加入实施例2的分散体中，并且混合直到均匀，来产生含有0.149g/ L的憐酸锋和0.25g/L的二氧化娃的浴。将运个浴作为活化剂用于标准憐酸锋化方法中来在 CRS和EG面板上产生憐酸盐涂层。两种面板都具有完整的憐酸盐涂层，且具有良好的晶体细 化（crystal refinement)。
[0077] 实施例4
[0078] 将3g的分散体B混入化去离子水中来产生含有0.25g/L的二氧化娃的稳定分散体。 将运个浴作为活化剂用于标准憐酸锋化方法中来处理CRS，EG和侣面板(合金6111)。该分散 体没有使憐酸锋涂层活化;CRS几乎不具有晶体，并且EG和侣具有极大的和较差细化的晶 体。全部Ξ个基底是不可接受的。
[0079] 实施例5
[0080] 将0.54g的分散体A加入到实施例4的分散体中，来产生含有0.25g/L的二氧化娃和 0.105g/L的憐酸锋的分散体。将运个浴作为活化剂用于标准憐酸锋化方法中来处理CRS，EG 和侣面板。全部Ξ个基底具有完整的憐酸盐涂层，且具有良好的晶体细化。
[0081 ] 实施例6
[0082] 将2.8g的分散体C加入化去离子水中来产生含有0.5g/L的憐酸锋的分散体。将运 个浴作为活化剂用于标准憐酸锋化方法中来处理CRS，EG和侣面板。全部Ξ个基底具有完整 的憐酸盐涂层，且具有良好的晶体细化。
[0083] 下表1提供了在实施例1-6中所产生的憐酸盐涂层的涂层重量和晶体尺寸。
[0084] 表1.
[0085]
[0086] *表示不完整的涂层
[0087] 实施例7
[0088] 憐酸锋洗液调节剂浴是如实施例6所述，使用分散体C来制备的，并且如下所述来 老化。
[0089] 对比例
[0090] 作为对比例，通过将获自PPG Industries，Inc .的3g的洗液调节剂（Rinse Conditioner)溶解在去离子水中来制备常规的Jernstedt盐基洗液调节剂浴。该浴的一部 分是如上面在实施例6(即，"新鲜的"）中所述来测试的，且一部分是如下所述老化的。
[0091] 将来自于实施例7和对比例的浴静置(sit in)于封闭容器中8周。在8周后，将它们 每个作为活化剂用于上面详细描述的标准憐酸锋化方法中，来用于由冷社钢和锻锋钢制成 的憐酸盐面板。对于实施例7方法来说，晶体尺寸和涂层覆盖率类似于新鲜浴(实施例6)，但 是常规材料在8周后不再活化。晶体尺寸显示在下表2中：
[0092] 表2.
[0093]
[0094]虽然上面出于说明的目的已经描述了本发明的特定实施方案，但是对本领域技术 人员来说显然的是可W对本发明的细节进行诸多的改变，而不背离附加的权利要求所限定 的本发明。
【主权项】
1. 一种用于处理基底的活化洗液，包含： (a) 第一组分，其包含二价或者三价金属的磷酸盐颗粒或者其组合的分散体，所述金属 磷酸盐颗粒的平均粒度不大于?ομπι;和 (b) 第二组分，其包含： (i)第一共聚物，其是通过环氧乙烷、环氧丙烷或者其组合聚合来形成的，其中该第一 共聚物的一端是通过胺基、羟基或者烷基封端的;和 (i i)第二共聚物，其是通过苯乙烯和第二单体聚合来形成的，该第二单体含有至少一 个羧酸酯基团、酸酐基团或者其组合，其中该第二单体的存在量小于该第二组分总重量的 50重量％。2. 根据权利要求1的活化洗液，其中该金属磷酸盐的存在量是50-5000ppm，基于该活化 洗液的总重量计。3. 根据权利要求1的活化洗液，其中该金属磷酸盐的存在量是150-1500ppm，基于该活 化洗液的总重量计。4. 根据权利要求1的活化洗液，其中该二价或者三价金属包括锌、铁或者其组合。5. 根据权利要求1的活化洗液，其中该第一共聚物的存在量是lOppm-lOOOOppm，基于该 活化洗液的总重量计。6. 根据权利要求1的活化洗液，其中该第一共聚物的存在量是50ppm-1000ppm，基于该 活化洗液的总重量计。7. 根据权利要求1的活化洗液，其中该第二共聚物的存在量小于该活化洗液总重量的 30重量％。8. 根据权利要求1的活化洗液，其中该第二单体包括二元酸、二元酸的酸酐或者其组 合。9. 根据权利要求1的活化洗液，其中该第一组分与第二组分的重量比是1:1至20:1。10. 根据权利要求1的活化洗液，其进一步包含二氧化硅。11. 根据权利要求10的活化洗液，其中该二氧化硅的存在量是50ppm-5000ppm，基于该 活化洗液的总重量计。12. 根据权利要求10的组合物，其中该二氧化硅是沉淀的。13. 根据权利要求10的组合物，其中该二氧化硅在剪切下是易碎的。14. 一种处理基底的方法，其包括：（i)将活化洗液施用到该基底的至少一部分上，其中 该活化洗液包含： (a) 第一组分，其包含二价或者三价金属的磷酸盐颗粒或者其组合的分散体，所述金属 磷酸盐颗粒的平均粒度不大于?ομπι;和 (b) 第二组分，其包含： (i)第一共聚物，其是通过环氧乙烷、环氧丙烷或者其组合聚合来形成的，其中该第一 共聚物的一端是通过胺基、羟基或者烷基封端的;和 (i i)第二共聚物，其是通过苯乙烯和第二单体聚合来形成的，该第二单体含有至少一 个羧酸酯基团、酸酐基团或者其组合，其中该第二单体的存在量小于该第二组分总重量的 50重量％。15. 根据权利要求14的方法，其中该二价或者三价金属包括锌、铁或者其组合。16. 根据权利要求14的方法，其中该第二单体包括二元酸、二元酸的酸酐或者其组合。17. 根据权利要求14的方法，其中该活化洗液进一步包含二氧化硅。18. 根据权利要求14的方法，其进一步包括（ii)用磷酸锌溶液磷化该基底的至少一部 分。19. 一种基底，其是用权利要求1的活化洗液处理的。20. 权利要求19的基底，其进一步包含磷酸盐涂层。
【专利摘要】公开了一种用于处理基底的活化洗液。该活化洗液包含：包含平均粒度不大于10μm的二价或者三价金属磷酸盐颗粒的分散体的第一组分，和包含第一和第二共聚物的第二组分。该第一共聚物是通过环氧乙烷、环氧丙烷或者其组合聚合来形成的，其中该第一共聚物的一端是通过胺基、羟基或者烷基封端的。该第二共聚物是通过苯乙烯和第二单体聚合来形成的，该第二单体含有至少一个羧酸酯基团、酸酐基团或者其组合。该第二单体的存在量小于第二组分总重量的50重量％。还公开的是用该活化洗液处理基底的方法和用该活化洗液处理的基底。
【IPC分类】C23C22/78
【公开号】CN105518181
【申请号】CN201480048764
【发明人】M·W·麦克米伦, N·J·西尔弗奈尔, P·L·沃特鲁巴-德扎尔
【申请人】Ppg工业俄亥俄公司
【公开日】2016年4月20日
【申请日】2014年9月5日
【公告号】CA2921991A1, EP3041974A1, US9255332, US20150064445, WO2015035124A1