用离子枪轰击基板I的外表面3分钟。
[0023]通过上述方法制得的手机盖板上的各膜层在零下20°C时的附着力为2_4hrs，在80°C时的附着力为2-4hrs，具有很强的附着能力，同时各膜层的致密性好、纯净度高。而且，该手机盖板上的纳米银层对大肠杆菌、淋球菌、沙眼衣原体等数十种致病微生物都有强烈的抑制和杀灭作用，而且不会产生耐药性，纳米银层的膜材为银的氧化物，如Ag20、Ag0或Ag2O3,银的氧化物经过电子枪蒸镀后氧离子从银的氧化物中分离出来，并形成纳米银薄层，利用ITO层的设置有效的切断对人体有害的电子辐射、紫外线及远红外线，起到了防辐射的效果，其高硬度层能够显著提高手机盖板的耐磨性。
[0024]手机盖板的基板I为玻璃成型时，杀菌防辐射的耐磨手机盖板制造方法具体包括以下步骤:
1)对基板I的外表面进行清洗；
2)对基板I的外表面进行镀膜；
A、镀第一膜层2:
将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0 X 10—3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300°C，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，其中第一膜层的膜材为银的氧化物，在电子枪蒸镀的作用下，银的氧化物分解后以纳米银的形式附着于基板的表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为1A/S，第一膜层最终形成厚度为5-20nm的纳米银层;其中所述银的氧化物为Ag20、Ag0或Ag2〇3 ；
B、镀第二膜层3:
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0 X 10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300°C，采用电子枪轰击第二膜层3的膜材，第二膜层3的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层2的表面，同时控制第二膜层3蒸镀的速率为1A/S，第二膜层3最终形成后的厚度为lO-lOOnm，其中第二膜层3的膜材为ITO膜材，形成ITO层；
C、镀第三膜层4:
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0 X 10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300°C，采用电子枪轰击第三膜层4的膜材，第三膜层4的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层3的表面，同时控制第三膜层4蒸镀的速率为7A/S，第三膜层4最终形成后的厚度为10-50nm，其中第三膜层4的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，形成高硬度层。
[0025]步骤I)中，对基板I外表面清洗的具体方法如下:将基板I放在真空腔内，用离子枪轰击基板I的外表面5-10分钟。
[0026]通过上述方法制得的手机盖板上的各膜层在零下20°C时的附着力为6_9hrs，在80°C时的附着力为6-9hrs，具有很强的附着能力，同时各膜层的致密性好、纯净度高。而且，该手机盖板上的纳米银层对大肠杆菌、淋球菌、沙眼衣原体等数十种致病微生物都有强烈的抑制和杀灭作用，而且不会产生耐药性，纳米银层的膜材为银的氧化物，如Ag20、Ag0或Ag2O3,银的氧化物经过电子枪蒸镀后氧离子从银的氧化物中分离出来，并形成纳米银薄层，利用ITO层的设置有效的切断对人体有害的电子辐射、紫外线及远红外线，起到了防辐射的效果，其高硬度层能够显著提高手机盖板的耐磨性。
【主权项】
1.一种杀菌防辐射的耐磨手机盖板，包括基板，其特征在于:所述基板的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层和第三膜层，所述第一膜层为纳米银层，第一膜层的厚度为5-20nm;所述第二膜层为ITO层，第二膜层的厚度为1-1OOnm;第三膜层为高硬度层，第三膜层的厚度为10_50nmo2.根据权利要求1所述的一种杀菌防辐射的耐磨手机盖板，其特征在于:所述纳米银层的膜材为银的氧化物，并由电子枪蒸镀成型。3.根据权利要求1所述的一种杀菌防辐射的耐磨手机盖板，其特征在于:所述银的氧化物为Ag2〇、AgO或Ag2〇3 ο4.根据权利要求1所述的一种杀菌防辐射的耐磨手机盖板，其特征在于:所述高硬度层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，并由电子枪蒸镀成型。5.根据权利要求1所述的一种杀菌防辐射的耐磨手机盖板，其特征在于:所述基板为树脂或玻璃成型。6.根据权利要求5所述手机盖板的制造方法，其特征在于:所述手机盖板的基板为树脂成型时，所述制造方法具体包括以下步骤: 1)对基板的外表面进行清洗； 2)对基板的外表面进行镀膜； A、镀第一膜层: 将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0 X 10—3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70°C，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，其中第一膜层的膜材为银的氧化物，在电子枪蒸镀的作用下，银的氧化物分解后以纳米银的形式附着于基板的表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为1A/S，第一膜层最终形成厚度为5-20nm的纳米银层;其中所述银的氧化物为 Ag20、Ag0 或 Ag2〇3 ； B、镀第二膜层: 保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70°C，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为1A/S，第二膜层最终形成后的厚度为I O-1OOnm，其中第二膜层的膜材为ITO膜材，形成ITO层； C、镀第三膜层: 保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70°C，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为7A/S，第三膜层最终形成后的厚度为10-50nm，其中第三膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，形成高硬度层。7.根据权利要求6所述的一种杀菌防辐射的耐磨手机盖板的制造方法，其特征在于:所述步骤I)中，对基板外表面清洗的具体方法如下:将基板放在真空腔内，用离子枪轰击基板的外表面3分钟。8.根据权利要求5所述的一种杀菌防辐射的耐磨手机盖板的制造方法，其特征在于:所述手机盖板的基板为玻璃成型时，所述制造方法具体包括以下步骤: I)对基板的外表面进行清洗； 2)对基板的外表面进行镀膜； A、镀第一膜层: 将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0 X 10—3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300°C，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，其中第一膜层的膜材为银的氧化物，在电子枪蒸镀的作用下，银的氧化物分解后以纳米银的形式附着于基板的表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为1A/S，第一膜层最终形成厚度为5-20nm的纳米银层;其中所述银的氧化物为Ag2〇、AgO或Ag2〇3 ； B、镀第二膜层: 保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300°C，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为1A/S，第二膜层最终形成后的厚度为I O-1OOnm，其中第二膜层的膜材为ITO膜材，形成ITO层； C、镀第三膜层: 保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300°C，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为7A/S，第三膜层最终形成后的厚度为10-50nm，其中第三膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，形成高硬度层。9.根据权利要求8所述的一种杀菌防辐射的耐磨手机盖板的制造方法，其特征在于:所述步骤I)中，对基板外表面清洗的具体方法如下:将基板放在真空腔内，用离子枪轰击基板的外表面5-10分钟。
【专利摘要】本发明公开了一种杀菌防辐射的耐磨手机盖板及其制造方法，手机盖板包括基板，基板的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层和第三膜层，第一膜层为纳米银层，第二膜层为ITO层，第三膜层为高硬度层。其制造方法包括以下步骤：1）对基板的外表面进行清洗；2）对基板的外表面进行镀膜。本发明的手机盖板利用纳米银层保证了手机盖板具有足够的杀菌能力，利用ITO层的设置有效的切断对人体有害的电子辐射、紫外线及远红外线，起到了防辐射的效果，其高硬度层能够显著提高手机盖板的耐磨性。
【IPC分类】C23C16/06, C23C14/10, C23C28/00, C23C14/08, C23C14/30, H04M1/02
【公开号】CN105624673
【申请号】CN201511028311
【发明人】吴晓彤, 方俊勇
【申请人】奥特路（漳州）光学科技有限公司
【公开日】2016年6月1日
【申请日】2015年12月31日