一种连续抛光设备的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种连续抛光设备。
【背景技术】
[0002]石墨稀是2004年曼切斯特大学的Novoselov和Geim发现，其具有优良的物理、化学、电学、力学等各方面的优异性能，在新能源、新材料和电子元器件等诸多领域有着广泛的应用前景。石墨烯目前制备方法主要有:微机剥离法、外延法、氧化还原法、溶剂剥离法和化学气相沉积法(CVD)等，而CVD法是目前主要的生产方法，也是最具有前景的方法。
[0003]在以铜为基底的CVD法制备石墨烯时，高温下碳源裂解出的碳分子在金属表面催化的作用下形核并长大，最终连接形成二维的石墨烯结构。未经抛光处理的铜箔表面粗糙度较大，退火后表面铜晶粒显著小于抛光铜箔退火后的晶粒，存在更多的晶界，高温裂解的活性碳氢基团更倾向于在铜的晶界和台阶处吸附成核长大，在晶界和台阶处晶核容易堆积形成更多的缺陷。由于表面粗糙度很大，因此生长的石墨烯存在更多的缺陷，较难于连接形成面积较大的晶畴，而经过抛光处理之后的铜箔，表面粗糙度明显降低，也减少了缺陷的产生，因此有利于生长大面积均勾的尚质量石墨稀。
[0004]同时卷对卷技术是大规模生产石墨烯降低成本的有效手段，但目前市场上的抛光设备需要对铜箔等样品进行裁剪后分别进行抛光，不但造成人力成本及时间成本的浪费，而且每一片抛光样品的边缘部分需废弃，造成原材料的浪费。由于没有针对卷对卷样品抛光的设备，不能对成卷铜箔等样品进行预处理，造成使用卷对卷铜箔等样品生长的石墨烯有较多缺陷，因此急需要设计一种能对成卷铜箔等样品进行抛光的连续抛光设备。
【实用新型内容】
[0005]本实用新型的目的是提供一种能够对成卷铜箔等样品进行抛光的连续抛光设备，有效节约人力成本、时间成本和材料成本。
[0006]实现本实用新型目的的技术方案是:一种连续抛光设备，包括供电系统、抛光系统、清洗系统、风干回收系统和操作控制系统；所述抛光系统的抛光工位、清洗系统的清洗工位、风干回收系统的风干回收工位依次设置；所述清洗系统的清洗工位设有一个，或者依次设置至少两个；所述供电系统为整机供电；所述操作控制系统控制整机的动作。
[0007]所述抛光系统包括抛光槽、储液池、机械栗和排废液管；所述抛光槽为抛光系统的抛光工位；所述抛光槽的进液管通过机械栗连通储液池，抛光槽的排液管连通储液池，储液池的排液管连通排废液管；所述抛光槽内设有多根用于驱动样品运动的滚轴；所述抛光槽内液面下方两根滚轴为金属滚轴，其他滚轴为绝缘滚轴；所述两根金属滚轴的下方设有平板电极；所述两根金属滚轴以及平板电极均与供电系统电连接；所述抛光槽的进液管和排液管上均设有电磁阀；所述滚轴的启停、滚轴的转速、以及电磁阀的启闭均由操作控制系统控制。
[0008]所述抛光系统的抛光槽内的平板电极与两根金属滚轴所在平面平行设置。
[0009]所述抛光系统的抛光槽内的两根金属滚轴与平板电极之间的距离可调，该距离由操作控制系统控制。
[0010]所述抛光系统的抛光槽内的抛光液内含有磷酸和聚乙二醇。
[0011]所述清洗系统包括进水总管和排水总管，以及至少一个清洗槽；所述清洗槽为清洗系统的清洗工位；所述清洗槽的进水管连通进水总管，清洗槽的排水管连通排水总管；所述清洗槽的进水管和排水管上均设有电磁阀；所述清洗槽内设有多根用于驱动样品运动的滚轴；所述滚轴的启停、滚轴的转速、以及电磁阀的启闭均由操作控制系统控制。
[0012]所述清洗系统的清洗槽包括第一清洗槽和第二清洗槽；所述第一清洗槽和/或第二清洗槽的内底部设有由操作控制系统控制的鼓泡装置或者超声装置；所述鼓泡装置的开关由操作控制系统控制。
[0013]所述第一清洗槽和第二清洗槽的清洗液均为去离子水。
[0014]所述风干回收系统包括风干槽以及设置在风干槽内的缠绕装置、多个风枪以及多根用于驱动样品运动的滚轴；所述风干槽为风干回收系统的风干回收工位，样品从多个风枪之间经过；所述风枪的开关由操作控制系统控制。
[0015]所述相邻两个工位中，位于上道的工位与位于下道的工位的连通处设有能将样品上下表面残留的液体吹回位于上道的工位的风枪；所述风枪的开关由操作控制系统控制。
[0016]采用了上述技术方案，本实用新型具有以下的有益效果:(1)本实用新型能够实现对成卷铜箔等样品进行抛光，有效节约了人力成本、时间成本和材料成本。
[0017](2)本实用新型的抛光系统的抛光槽中的两根金属滚轴以及平板电极均与供电系统电连接，从而能够控制两根金属滚轴上的样品与平板电极之间的输出电流及电压大小。
[0018](3)本实用新型的抛光系统的抛光槽内的平板电极与两根金属滚轴所在平面平行设置，并且二者之间的距离可调，从而可通过调节距离与样品的运动速度来实现对样品的均勾抛光。
[0019](4)本实用新型的第一清洗槽和/或第二清洗槽的内底部设有鼓泡装置或者超声装置，能够提升清洗效率和清洗有效性。
[0020](5)本实用新型的相邻两个工位中，位于上道的工位与位于下道的工位的连通处设有能将样品上下表面残留的液体吹回位于上道的工位的风枪，能够减少上道工位的液体对下道工位的液体的污染，有效提尚了抛光后的样品的品质。
【附图说明】
[0021]为了使本实用新型的内容更容易被清楚地理解，下面根据具体实施例并结合附图，对本实用新型作进一步详细的说明，其中
[0022]图1为本实用新型的结构示意图。
[0023]附图中的标号为:
[0024]配电箱1、抛光槽2、第一清洗槽3、第二清洗槽4、风干槽5、操作控制系统6、储液池7、机械栗8、进水总管9、排水总管10、排废液管11、机架12、滚轴13、金属滚轴13_1、绝缘滚轴13-2、平板电极14、电磁阀15、风枪16、鼓泡装置17、铜箔18。
【具体实施方式】
[0025](实施例1)
[0026]见图1，本实施例的连续抛光设备，连续抛光设备，包括供电系统1、抛光系统、清洗系统、风干回收系统和操作控制系统6。
[0027]抛光系统的抛光工位、清洗系统的清洗工位、风干回收系统的风干回收工位依次设置。清洗系统的清洗工位设有一个，或者依次设置至少两个。供电系统1为整机供电。操作控制系统6控制整机的动作。相邻两个工位中，位于上道的工位与位于下道的工位的连通处设有能将样品18上下表面残留的液体吹回位于上道的工位的风枪16。风枪16的开关由操作控制系统6控制。
[0028]抛光系统包括抛光槽2、储液池7、机械栗8和排废液管11。抛光槽2为抛光系统的抛光