蒸镀机的载台及蒸镀遮罩系统的制作方法
【技术领域】
[0001 ] 本申请涉及PVD(Physical Vapor Deposit1n)领域，尤其涉及一种蒸镀机的载台O
【背景技术】
[0002]真空镀膜是一种由物理方法产生薄膜材料的技术。在真空室内蒸发材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。
[0003]蒸发镀膜是通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面的一种真空镀膜技术。蒸发材料如金属、化合物等置于坩祸内或挂在热丝上作为蒸发源。待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩祸前方。待坩祸抽至高真空后，加热坩祸使其中的蒸发材料进而从喷嘴喷出。蒸发材料的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。
[0004]在蒸镀过程中，对于基片的非蒸镀的部位，则需要遮罩片将该非蒸镀的部位遮挡。或者，在对于基片的已蒸镀部位，在后续对其他部位进行蒸镀的过程中，需要对该已蒸镀部位使用遮罩片进行遮挡，以防止在对其他部位进行蒸镀的过程中，对已蒸镀部位产生不利影响。
[0005]遮罩片可以通过载台进行限位。具体的，载台设有限位槽，遮罩片设有可插置入限位槽的定位销，定位销插入限位槽内，可以固定遮罩片与载台的相对位置。
[0006]在实现现有技术过程中，发明人发现现有技术中至少存在如下问题:
[0007]由于遮罩片的定位销与载台的限位槽之间是一一对应的关系，这就导致对于其他类型的遮罩片。例如，定位销直径不同的遮罩片，或者遮罩片的两个定位销之间的距离不同的遮罩片无法限位于载台，以便后续进行蒸镀工艺流程。
[0008]因此，需要提供一种不同规格的遮罩片无法在载台上通用的技术问题的技术方案。
【实用新型内容】
[0009]本实用新型提供一种解决不同规格的遮罩片无法在载台上通用的技术问题的技术方案。
[0010]具体的，用于对遮挡非蒸镀区域的第一遮罩片、第二遮罩片进行限位，包括:
[0011]载台基体；
[0012]所述载台基体设有中心定位孔，用以对第一遮罩片限位；
[0013]所述载台基体还设有自中心定位孔沿载台基体表面方向延展的扩展槽，用以对与第一遮罩片规格不同的第二遮罩片限位。
[0014]优选的，所述扩展槽至少包括第一子槽和与第一子槽交叉的第二子槽，所述中心定位孔位于第一子槽与第二子槽交叉的部分。
[0015]优选的，所述扩展槽在载台基体的投影呈十字型、一字型或王字型。
[0016]优选的，所述扩展槽用于与第一遮罩片的定位件、第二遮罩片的定位件配接，所述扩展槽的槽宽与所述遮罩片的定位件宽度相当。
[0017]本申请实施例还提供一种蒸镀机的蒸镀遮罩系统，包括:
[0018]载台基体，用于对遮挡非蒸镀区域的遮罩片进行限位，所述载台基体设有中心定位孔，用以对第一遮罩片限位;所述载台基体还设有自中心定位孔沿载台基体表面方向延展的扩展槽，用以对与第一遮罩片规格不同的第二遮罩片限位；
[0019]遮罩片，包括第一遮罩片和第二遮罩片，所述第一遮罩片和第二遮罩片均设有可以插入中心定位孔并在扩展槽内滑动的定位件；
[0020]推进装置，用于安装第一遮罩片或第二遮罩片，推动第一遮罩片或第二遮罩片至载台基体的预设位置并锁定第一遮罩片或第二遮罩片在载台基体的所述预设位置。
[0021]优选的，所述扩展槽至少包括第一子槽和与第一子槽交叉的第二子槽，所述中心定位孔位于第一子槽与第二子槽交叉的部分。
[0022]优选的，所述扩展槽在载台基体的投影呈十字型、一字型或王字型。
[0023]优选的，所述扩展槽用于与第一遮罩片的定位件、第二遮罩片的定位件配接，所述扩展槽的槽宽与遮罩片的定位件宽度相当。
[0024]本申请实施例提供的蒸镀机的载台和蒸镀机的蒸镀遮罩系统，至少具有如下有益效果:
[0025]所述载台基体设有中心定位孔，用以对第一遮罩片限位；
[0026]载台基体设有的中心定位孔可以供专用的第一遮罩片的定位件插入，而与专用的第一遮罩片的定位件规格不同的其他第二遮罩片的定位件可以在扩展槽允许的范围内调整插入位置，从而，蒸镀机的载台可以加载不同的遮罩片进行生产，提高了载台对不同规格遮罩片的通用性。
【附图说明】
[0027]此处所说明的附图用来提供对本申请的进一步理解，构成本申请的一部分，本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请，并不构成对本申请的不当限定。在附图中:
[0028]图1为本实用新型提供的喷嘴系统示意图。
[0029]图2为图1的剖视图。
[0030]图3为本实用新型提供的载台的示意图。
[0031 ]图4为本实用新型提供的遮罩片的示意图。
【具体实施方式】
[0032]为使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请具体实施例及相应的附图对本申请技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
[0033]蒸镀工艺是一种通过加热蒸发某种物质，使其沉积在作为基片的固体表面的一种真空镀膜技术。
[0034]蒸镀机是一种执行该蒸镀工艺的专用设备。蒸镀机在执行该蒸镀工艺时，抽取真空，然后加热蒸发材料使蒸发材料升华或汽化，升华或汽化蒸发材料的从喷嘴内喷出到待镀工件即基片的表面。
[0035]在生产过程中，待镀工件置于喷嘴正对的位置。在执行蒸镀工艺的过程中，蒸镀的部分与非蒸镀的部分通常泾渭分明的，为了解决这种问题，可以设置遮罩片将该非蒸镀的部位遮挡，从喷嘴喷出的蒸发材料从遮罩片的开口部分喷涂到待镀工件。
[0036]请参照图1和图2，线源21作为蒸发材料收纳于坩祸12内。待坩祸12抽至高真空后，加热器13加热坩祸12使线源21蒸发进而从喷嘴11喷出，线源21的原子或分子以冷凝的方式沉积在待镀工件表面。
[0037]在生产的蒸镀过程中，对于待镀工件的非蒸镀的部位，需要用遮罩片将该非蒸镀的部位遮挡。或者，在对于基片的已蒸镀部位，在后续对其他部位进行蒸镀的过程中，需要对该已蒸镀部位使用遮罩片进行遮挡，以防止在对其他部位进行蒸镀的过程中，对已蒸镀部位产生不利影响。
[0038]由于蒸镀机的载台与遮罩片的规格是定制的，也就是说，载台与遮罩片的位置是预先固定的，然而，生产过程中随着工艺要求的变更，遮罩片的位置等规格需要改变。
[0039]因此，需要设计一种能够适应变更后的遮罩片的蒸镀机载台。
[0040]请参见图3，图3揭示了一种蒸镀机的载台14。请参见图4，图4揭示了第一遮罩片15。该载台14用于对遮挡非蒸镀区域的第一遮罩片15、第一遮罩片15进行限位。载台14包括载台基体140。载台基体140设有中心定位孔141，用以对第一遮罩片15限位。载台基体140还设有自中心定位孔141沿载台基体140表面方向延展的扩展槽142，用以对与第一遮罩片15规格不同的第二遮罩片限位。载台基体140设有的中心定位孔141可以供专用的第一遮罩片15的定位件插入，而与专用的第一遮罩