本发明涉及用于液晶显示屏玻璃基板蚀刻预处理的组合物。
背景技术：
在对液晶显示屏玻璃基板进行薄化处理时，采用的氢氟酸蚀刻进行薄化方时，在玻璃基板表面会因局部过蚀而出现凹坑，需要在进行长时间的抛光处理。且在薄化处理时玻璃基板已经完成了封装，一旦产生严重的过蚀(往往因玻璃的局部微小缺陷)，会造成整个报废，为了减少薄化处理出现的凹坑，提高薄化处理工序后的良品率，需要在薄化处理前对液晶屏的玻璃基板进行预处理，现有预处理工艺以浓硫酸为基础加入少量的氢氟酸、盐酸酸配制成预处理液，由于加入了大量的浓硫酸，预处理工序后产生的废液难于进行处理。因此提供一种新的液晶显示屏玻璃基板薄化预处理用产品，在提高处理效果的基础上降低污染排放，成为现有技术中亟待解决的问题。
技术实现要素：
为解决前述技术问题，本发明提供了用于液晶显示屏玻璃基板表面处理的组合物及其处理工艺，通过优化处方和处理工艺，成功的实现了避免了浓硫酸等造成严重污染且难于处理的原材料的使用。
本发明提供了用于液晶显示屏玻璃基板表面处理的组合物，其特征在于所述组合物由以下组分组成：
质量百分比含量5-8％的盐酸(HCl)，质量百分比含量2％～5％的氢氟酸(HF)，质量百分比含量1～2％的壳聚糖，质量百分比含量0.5～1％的聚二甲基硅氧烷、质量百分比0.5％～1％的羟丙基-β-环糊精及余量的水。
所述的用于液晶显示屏玻璃基板表面处理的组合物，其特征在于以如下方法配制，
1)将处方量盐酸、氢氟酸混合，并加入适量水稀释，
2)将处方量壳聚糖加入步骤1)得到的混合液中并溶解；
3)将处方量的羟丙基-β-环糊精溶于适量水中至完全溶解，再加入处方量聚二甲基硅氧烷；
3)将步骤2)得到的混合液分别缓慢加入步骤3)的混合液中，补足余量的水后搅拌至混合均匀。
所述的液晶显示屏玻璃基板优选为TFT玻璃基板
在研究中我们发现，本发明提供的组合物，仅在较低浓度的盐酸和氢氟酸基础上进行合理配方，采用该组合物对液晶显示屏玻璃基板进行预处理后，可以显著降低后续的氢氟酸蚀刻薄化工艺后基板表面的凹坑，从而在保证了预处理效果的同时，避免了现有技术中采用浓硫酸为主要成分的预处理剂在使用时的不安全性和废液难于处理的问题。本发明提供的组合物对玻璃基板的CF面和TFT面均有良好的预处理效果。且经过处方筛选我们发现，采用优选组分及处方量才能产生较好的预处理效果，尤其是羟丙基-β-环糊精、壳聚糖、聚二甲基硅氧烷及其配比，上述三种组分为能够实现良好预处理效果的关键组分，缺少其中任何一种或或改变其配比都会显著影响预处理效果。
具体实施方式
本发明提供的用于用于液晶显示屏玻璃基板表面处理的组合物，以如下方法配制，
1)将处方量盐酸、氢氟酸混合，并加入适量水稀释，
2)将处方量的羟丙基-β-环糊精溶于适量水中至完全溶解，再加入处方量聚二甲基硅氧烷；
3)将处方量乙二酸配制成为1％的溶液，加入处方量壳聚糖并溶解；
3)将步骤1)、2)得到的混合液分别缓慢加入步骤3)的混合液中，补足余量的水后搅拌至混合均匀。
实施例1～4配方见下表(质量百分比wt％)
本发明中采用的壳聚糖为符合GB 29941-2013的产品。
对实施例1～4得到的组合物进行薄化预处理的方法如下
取用原材料为康宁公司生产的同批次的用于TFT显示屏的玻璃面板，其厚度为1.000mm，尺寸为730mm×920mm。所采用的蚀刻及抛光设备分别为东莞鸿村蚀刻机和湖南永创抛光机。先在CF面玻璃基板和TFT面玻璃基板四周间隙中渗透UV胶水，再用UV光照固化完成玻璃基板的封装，将封装完成的玻璃基板用于后续的预处理及薄化工序
预处理方法为
1)配制用于液晶显示屏玻璃基板表面处理的组合物1000L(以下简称预处理剂)
2)将预处理剂打入蚀刻机酸槽并将预处理剂温度控制在50℃±2℃，把作为实验组样品的5片完成封装的玻璃基板(编号为I～V)浸泡在预处理剂中，去除玻璃表面双层60微米；在预处理时对预处理剂进行鼓泡搅拌。
3)：用清水洗净玻璃表面，在表面湿润的条件下再进入氢氟酸蚀刻液中，浓度为9mol/L，温度控制在30℃条件，薄化至0.5mm厚度。
另取5片完成封装的玻璃基板(编号i～v)清水清洗后直接进入氢氟酸蚀刻液中浓度为9mol/L，温度控制在30℃条件，薄化至0.5mm厚度，并作为对照组
在同一台永创抛光机1300-3#上，压力60g/cm2，下盘转速50，上盘转速40，研磨垫为环球LP-66型号，抛光粉为德乐士101型号，吸附垫为FUJIBO BPE211型号，实验组每研磨2分钟检验一次表面效果，对照组每研磨5分钟检验一次表明效果，记录研磨后检验没有凹坑的累计研磨时间如表1所示
实验结果表明，采用本发明提供的预处理剂进行预处理后的玻璃基板在进行薄化工艺处理后可以显著减少面板上的凹坑。