技术总结
本实用新型涉及一种硅片水平提拉成型设备热场结构，包括炉体以及设置在炉体内的底座石墨和钳锅，钳锅设置在底座石墨的上端，钳锅的两侧经石墨钩子与底座石墨固定连接，钳锅上形成硅晶熔融区以及温度控制区，硅晶熔融区和温度控制区相通，钳锅下方设置有2根用于石墨加热棒；钳锅温度控制区下方设置有调温石墨毡块和保温石墨毡块，调温石墨毡块连接插杆；底座石墨的一侧设置开口，开口与钳锅的温度控制区连通，开口外侧安装用于水平提拉的基板。本实用新型的水平硅片提拉成型设备的热场结构，结构设计合理，实用性强，装配方便，有效提高硅片的品质,减少硅片的内部缺陷。
技术研发人员：丁建宁;沈达鹏;袁宁一;徐晓东
受保护的技术使用者：常州大学
文档号码：201621461518
技术研发日：2016.12.29
技术公布日：2017.08.11