本实用新型涉及单晶生长技术领域，具体为一种扩散速率可控的培养配合物单晶的装置。
背景技术：
设计和合成具有预期结构和性能的功能配合物单晶，一直是配位化学研究的一个热点，目前国内外有众多科研院所正在开展相关的研究工作，单晶的生产快慢和质量主要依赖晶核形成和生长的速率，如果晶核形成速率大于生长速率，就会形成大量的微晶，并容易出现晶体团聚，相反，太快的成长速率会引起晶体出现缺陷，为避免这两种问题，常常需要不断的实验，因为在开始研究一个新化合物时，我们往往不知道这种新化合物的结晶规律，通常不容易预测并避免微晶或团聚问题的发生，合成配合物单晶有很多方法，例如蒸发结晶法和降温结晶法，传统的蒸发结晶法是选择两种对目标化合物溶解度不同的容积，并且该两种溶剂具有一定的互溶性，把要结晶的化合物溶解在溶解度大的溶剂中并放置在小容器内，然后放置在大容器内，大容器内盛有溶解度较小的溶剂，大容器内的溶剂的蒸气会扩散到小容器内，从而降低化合物的溶解度，迫使其不断的结晶，但是传统的配合物单晶蒸发结晶时其扩散速率不易控制，并且由于外界环境的影响容易导致配合物单晶的生长，鉴于上述提到的问题，本实用新型设计一种扩散速率可控的培养配合物单晶的装置，以解决上述提到的问题。
技术实现要素：
本实用新型的目的在于提供一种扩散速率可控的培养配合物单晶的装置，以解决上述背景技术中提出的传统的配合物单晶蒸发结晶时其扩散速率不易控制，并且由于外界环境的影响容易导致配合物单晶的生长的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种扩散速率可控的培养配合物单晶的装置，包括外部容器，所述外部容器的底部均匀设置有支架，所述外部容器的顶部设置有密封罩，所述外部容器的内腔设置有内部容器，所述内部容器的内腔横向设置有放置盘，所述放置盘的外壁均匀设置有放置槽，所述外部容器的内腔左右侧壁均安装有恒温控制器，所述内部容器的底部安装有连接板，所述连接板的底部设置有转轴，所述转轴的底部贯穿外部容器的底部，所述转轴的底部安装有手柄，所述转轴的外壁套接有轴承，所述轴承设置在外部容器的底部。
优选的，所述放置槽的内壁设置有橡胶耐磨垫。
优选的，所述外部容器和转轴之间设置有密封垫。
优选的，所述外部容器的底部开设有轴承槽，所述轴承设置在轴承槽的内腔。
优选的，所述外部容器的顶部开设有卡槽，所述密封罩的底部卡接在卡槽的内腔。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该种扩散速率可控的培养配合物单晶的装置通过人工对手柄进行调节，从而带动内部容器的转速，增加内部容器内的配合物单晶的蒸发速率，并通过恒温控制器来控制实验要求进行温度的设定，恒温控制器的温度可调节来控制培养物单晶的蒸发速率，克服了外界环境对单晶生长的影响，有助于结构完美的单晶的生长，给单晶结构解析带来方便，有助于搞笑开展探索性试验，节省了大量的人力、物力和财力。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图。
图中：1外部容器、2支架、3密封罩、4内部容器、5放置盘、6放置槽、7恒温控制器、8连接板、9转轴、10手柄、11轴承。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1，本实用新型提供一种技术方案：一种扩散速率可控的培养配合物单晶的装置，包括外部容器1，所述外部容器1的底部均匀设置有支架2，所述外部容器1的顶部设置有密封罩3，所述外部容器1的内腔设置有内部容器4，所述内部容器4的内腔横向设置有放置盘5，所述放置盘5的外壁均匀设置有放置槽6，所述外部容器1的内腔左右侧壁均安装有恒温控制器7，所述内部容器4的底部安装有连接板8，所述连接板8的底部设置有转轴9，所述转轴9的底部贯穿外部容器1的底部，所述转轴9的底部安装有手柄10，所述转轴9的外壁套接有轴承11，所述轴承11设置在外部容器1的底部。
其中，所述放置槽6的内壁设置有橡胶耐磨垫，便于放置盛放培养物单晶的容器，防止滑动，所述外部容器1和转轴9之间设置有密封垫，防止外部容器1内的溶剂发生渗漏，所述外部容器1的底部开设有轴承槽，所述轴承11设置在轴承槽的内腔，所述外部容器1的顶部开设有卡槽，所述密封罩3的底部卡接在卡槽的内腔，便于对密封罩3的安装和拆卸。
工作原理：人工通过手柄10带动转轴9进行转动，转轴9通过轴承11设置在外壁容器1的底部内腔，便于转轴9的转动，转轴9通过连接板8与内部容器4连接，因此通过调节手柄10来调节内部容器4的转动，从而使得内部容器4内的培养物单晶蒸发速率加快，可以更快的进行结晶，在进行结晶时，外部容器1通过密封罩3进行密封，防止外界环境影响培养物单晶的蒸发，通过恒温控制器7可控制实验要求进行温度的设定，也可通过对恒温控制器7的温度调节来控制培养物单晶的蒸发速率。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。