1.一种tft-lcd基板用无碱硼铝硅酸盐玻璃，基板玻璃包含以下质量百分比的组分：sio254.0~58.2wt%,b2o32.0~8.0wt%,p2o54.0~6.0wt%,al2o311.8~21.8wt%,mgo4.7~7.0wt%,cao5.8~8.0wt%,sro7.8~9.0wt%,zno0.85~1.05wt%,sno20.2~0.25wt%,sb2o30.45~0.6wt%，其中，sio2，b2o3和p2o5的总含量为58.2~68.2wt%，mgo，cao，sro和zno的总含量为18.50~19.35wt%，sno2和sb2o3的总含量为0.65~1.50wt%。
2.根据权利要求1所述的一种tft-lcd基板用无碱硼铝硅酸盐玻璃，其特征在于，b2o3由硼酸引入，纯度为ar分析纯。
3.根据权利要求1所述的一种tft-lcd基板用无碱硼铝硅酸盐玻璃，其特征在于，p2o5由磷酸氢二铵引入，纯度为ar分析纯。
4.根据权利要求1所述的一种tft-lcd基板用无碱硼铝硅酸盐玻璃，其特征在于，sro由电子级碳酸锶引入，碳酸锶粒度为0.8~1.0μm，纯度≥99.5%。
5.一种如权利要求1所述tft-lcd基板用无碱硼铝硅酸盐玻璃的制备方法，其特征在于包括以下步骤：
步骤1）按照原料质量百分比称取原料；
步骤2）将称量的原料在研钵中研磨搅拌30min至混合均匀，形成配合料；
步骤3）将配合料加入刚玉坩埚中，置于箱式硅钼棒高温电阻炉中进行熔制，（1）升高至熔制温度1650~1680℃；（2）在熔化温度下保温时间2~3h，用于玻璃液澄清；（3）在熔化温度下进行铁板浇铸成型；
步骤4）将成型的玻璃置于680~700℃退火炉中进行退火处理，保温时间2~3h；
步骤5）随炉冷却至室温，经切割、研磨、抛光即得到基板用无碱硼铝硅酸盐玻璃；
制得的tft-lcd基板玻璃密度2.57~2.67g/cm3；维氏硬度601~675kgf/mm2；抗弯强度56~71mpa；抗压强度251~429mpa；热膨胀系数3.41~3.59×10-6；玻璃应变点664~755℃；抗hf腐蚀4.94~6.26mg/cm2；抗naoh腐蚀性0.538~1.688mg/cm2；透过率保持在85%以上。