质量％ (不含有）~〇. 3质量％。这是为了提高氧化锆烧结体的强度。多于0.3质量％ 时，氧化锆烧结体的透明度会降低。
[0058] 组合物和预烧体中的氧化钛的含有率相对于氧化锆晶粒和稳定剂的总质量优选 为〇质量％ (不含有）~〇. 6质量％。这是为了使氧化锆晶体的晶粒生长。多于0.6质量％ 时，氧化锆烧结体的强度会降低。
[0059] 在本发明的组合物和预烧体中，氧化硅的含有率相对于氧化锆晶粒和稳定剂的总 质量优选为〇. 1质量％以下，组合物和预烧体优选实质上不含氧化硅（SiO2;:氧化硅)。这 是因为：含有氧化硅时，氧化锆烧结体的透明度会降低。此处，"实质上不含有"是指对本发 明性质、特性没有特别影响的范围内这一意义，优选为不超过杂质水平地含有这一主旨，自 不必说是低于检测限。
[0060] 本发明的组合物中还包括粉体、将粉体添加于溶剂的流体、以及将粉体成形为规 定形状的成形体。即，组合物可以是粉末状，也可以是浆料状或湿式组合物（即，可以在溶剂 中，也可以包含溶剂)。另外，组合物可以含有粘结剂、颜料等添加物。需要说明的是，在上 述含有率的计算中，未考虑溶剂、粘结剂等添加物的质量。
[0061] 本发明的组合物为成形体时，可以利用任意成形方法进行成形，例如可以利用压 制成形、注射成形、光造形法来进行成形，也可以实施多阶段成形。例如，可以在将本发明组 合物进行压制成形后，进一步实施CIP (Cold Isostatic Pressing;冷等静压制）处理。
[0062] 本发明的预烧体可以通过将本发明的组合物在常压下以800°C ~1200°C进行煅烧 来得到。
[0063] 本发明的预烧体通过在常压下以1350°C ~1600°C进行煅烧，从而成为本发明的氧 化锆烧结体。
[0064] 接着，针对本发明的组合物、预烧体和烧结体的制造方法的一例进行说明。
[0065] 首先，粉碎氧化锆来制作氧化锆粉末。在粉碎之前，可以向氧化锆中添加稳定 剂。此时，制作平均粒径大的大粒径粉末和平均粒径小的小粒径粉末。大粒径粉末的平 均粒径优选为0. 1 μm~0. 7 μm、更优选为0. 2 μm~0. 6 μm。小粒径粉末的平均粒径优选为 0. 05 μm~0. 11 μm、更优选为0. 06 μm~0. 10 μm。大粒径粉末和小粒径粉末例如可以通过变 更粉碎时间来分别制作。将氧化锆粉碎后使其干燥，例如以900°C ~1100°C进行煅烧。
[0066] 接着，将大粒径粉末与小粒径粉末进行混合。大粒径粉末与小粒径粉末的混合比 例如可以设为1:2~2:1。向该氧化锆粉末中添加氧化钛、氧化铝、粘结剂、颜料等，进行湿式 混合。在粉碎时未添加稳定剂的情况下，可以在此处添加。接着，利用喷雾干燥器等进行干 燥，制作本发明的组合物。组合物可以在干燥后进行成形。
[0067] 氧化锆粉末的平均粒径、粒径分布、以及大粒径粉末与小粒径粉末的混合比不限 定于上述例。
[0068] 制作预烧体时，通过将组合物以1400°C ~1600°C、优选以1450°C ~1550°C进行煅 烧，使氧化锆粉末发生烧结，从而制造本发明的氧化锆烧结体。
[0069] 制作预烧体时，将组合物以800°C ~1200°C进行煅烧，制作预烧体。接着，通过将预 烧体以1400°C ~1600°C、优选以1450°C ~1550°C进行煅烧，从而使氧化锆粉末发生烧结，从 而制造本发明的氧化锆烧结体。可以在预烧体的阶段进行成形，也可以在烧结后进行成形。
[0070] 本发明的氧化锆烧结体可以利用其它方法来制造。 实施例
[0071] 制作氧化锆烧结体，测定弯曲强度、断裂韧性和水热处理后的单斜晶的峰比。另 外，在一部分实施例中，测定氧化锆烧结体的透射率或Lab色空间。表1中示出相对于氧化 锆的作为稳定剂的氧化钇添加率、氧化铝的添加率、氧化钛的添加率和氧化硅的添加率。实 施例ι~27中，使用y y夕力y a二一 y s亍卜''公司制造的氧化锆粉末来制作氧化锆烧 结体。氧化钇的添加率是相对于氧化锆与氧化钇的总mol数的添加率。氧化铝、氧化钛和 氧化硅是相对于氧化锆与氧化钇的总质量的添加率。另外，还示出大粒径粉末和小粒径粉 末的平均粒径。进而，示出制造氧化锆烧结体时的煅烧温度。在实施例14~21中，有时少量 添加用于着色的氧化物。在实施例1中，大粒径粉末与小粒径粉末的混合比设为1:1。
[0072] 另外，作为比较例，使用市售的氧化锆粉末来制作氧化锆烧结体，测定弯曲强度、 断裂韧性和水热处理后的单斜晶的峰比、以及光透射率。在比较例1~6中，直接使用市售 的氧化锆粉末。在比较例1~13中，不进行变更组合物中的粒径那样的操作。在比较例1~6 中，市售品的氧化锆粉末是1次颗粒发生聚集而形成的2次颗粒，无法测定平均粒径。表2 中示出比较例1~6所使用的氧化锆粉末的粒径的发布值(标称值)。比较例1中使用的氧化 锆粉末是东曹株式会社制造的TZ-3YS。比较例2中使用的氧化锆粉末是东曹株式会社制造 的TZ-4YS。比较例3中使用的氧化锆粉末是东曹株式会社制造的TZ-5YS。比较例4中使 用的氧化锆粉末是东曹株式会社制造的TZ-3YS和TZ-5YS。比较例5~6中使用的氧化锆粉 末是东曹株式会社制造的zpex。比较例7~13中使用的氧化锆粉末是y y夕力> A二一 y S亍卜''公司制造的粉末。表2中示出比较例中的相对于氧化锆的作为稳定剂的氧化钇添 加率、氧化铝的添加率、氧化钛的添加率、以及氧化硅的添加率。关于比较例1~6,比较例4 的氧化钇的含有率之外的数值均为市售品的公表值(标称值)。另外，表2中示出制造氧化 锆烧结体时的煅烧温度。在比较例4中，通过将氧化钇含有率为3mol%的氧化锆粉末与氧 化钇含有率为5mol%的氧化锆粉末以质量比计以1:1进行混合，从而制作氧化钇含有率为 4mol%的氧化锆粉末。
[0073] 将测定结果示于表3和表4。氧化锆烧结体的弯曲强度按照JISR1601来测定。氧 化锆烧结体的断裂韧性按照JISR1607来测定。氧化锆烧结体的光透射率按照JISK7361来 测定。测定透射率的试样厚度为〇.5mm，对其两面进行镜面加工。水热处理试验在180°C、 lMPa、5小时的条件下按照IS013356进行。实施水热处理试验后，利用CuKa射线来测定氧 化锆烧结体的X射线衍射图案，测定单斜晶的峰比、即利用水热处理试验相转变为单斜晶 的程度。Lab色空间如下测定：将氧化错烧结体加工成直径14_、厚度I. 2mm的圆板，对其 两面进行研磨后，使用奥林巴斯公司制造的测定装置CE100-DC/US进行测定。
[0074] 首先，观察氧化钇的含有率为3mol%的比较例1、5、6和9时，弯曲强度为1000 MPa 以上、断裂韧性约为4MPa · m1/2附近，但单斜晶的峰达到3以上。即可知：氧化钇含有率较 低时，能够提高弯曲强度和断裂韧性，但相转变容易推进。另一方面，观察氧化钇的含有 率为4mol%以上的比较例2~4、7、8和10~12时，单斜晶的峰比为1以下，但弯曲强度低于 lOOOMpa、断裂韧性也低于4。即可知：氧化钇含有率较高时，能够抑制相转变的推进，但弯 曲强度和断裂韧性变低。
[0075] 然而，根据实施例1~12,弯曲强度为1000 MPa以上、断裂韧性也为4MPa _m1/2以上， 且能够将单斜晶的峰比抑制为1以下。因此，根据本发明，弯曲强度、断裂韧性和相转变抑 制均能够提高。而且，还能够使透明度不差于比较例。
[0076] 在实施例13和比较例13中添加了氧化硅。氧化硅的添加率为0. 1质量％的实施 例13中，透射率达到27%，添加率为0. 2质量％的比较例13中，透射率达到26%。由此可知： 氧化硅的添加率优选为0. 1质量％以下。
[0077] 实施例1~10和13的氧化锆烧结体为白色，实施例11、12和14~21的氧化锆烧结 体为茶色。可知：本发明的氧化锆烧结体即使进行了着色，弯曲强度、断裂韧性和相转变抑 制效果也不会降低。
[0078] [表 1]
[008