低辐射镀膜玻璃的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明设及锻膜玻璃的技术领域，尤其设及低福射锻膜玻璃。
【背景技术】
[0002] 20世纪70年代W来，世界能源危机日渐显露，人类愈加意识到节约能源的重要 性，节能作为国家战略问题己引起各国高度重视。
[0003]现代建筑采用大面积采光已成为趋势，但在整个建筑围护结构中透过玻璃传递的 热能远高于其他围护体。因此大面积采光带来的直接后果是，整个建筑物的耗能明显增大。 低福射锻膜玻璃具有极好的光学和热反射性能，被广泛应用到玻璃幕墙当中。
[0004]低福射锻膜玻璃包括基片W及锻在基片上的膜层，低福射锻膜玻璃的膜层中含有 至少一层远红外福射反射层，通常为Ag层等，远红外福射反射层上下一般分别设有阻挡 层，阻挡层通常由化0、Ni化、Ni化化等材料组成，阻挡层的主要作用是保护远红外福射反 射层免于氧化，增加远红外福射反射层和介质层之间的结合力。然而为了使低福射锻膜玻 璃具有良好的可见光透过性能，阻挡层厚度通常需要非常薄。
[0005]现有技术中，市场上常见的低福射锻膜玻璃，已具备良好的光学性能和隔热性能， 但是在其它性能方面，比如，抗氧化性、耐用性、及抗机械刮擦性能等等，则存在较多的欠 缺，也导致膜层稳定性较差。
【发明内容】
[0006]本发明的目的在于提供低福射锻膜玻璃，旨在解决现有技术中的低福射锻膜玻璃 存在机械刮擦性能差W及膜层稳定性差的问题。
[0007]本发明是运样实现的，低福射锻膜玻璃，包括基片、至少一层远红外福射反射膜层W及外覆盖膜层，基片上锻设有第一电介质层，远红外福射反射膜层锻设在第一电解质层 上；远红外福射反射膜层包括远红外福射反射层W及两层阻挡层，两层阻挡层分别对应锻 设在远红外福射反射层的上表面及下表面；外覆盖层包括两层Zrojl，两层Zrojl之间锻 设有至少一层第二电介质层；外覆盖膜层锻设在远红外福射反射膜层上，且两者之间设有 第Ξ电介质层。
[0008]与现有技术相比，本发明提供的低福射锻膜玻璃中，外覆盖膜层通过第Ξ电介质 层与远红外福射发射膜层隔开，从而，ZrOjl不会直接与金属层或远红外福射发射层直接 接触；两层Zr化层之间设置有第二电介质层；外覆盖膜层改善了整个低福射锻膜玻璃膜层 的耐用性，杜绝了对远红外福射反射层的划痕、划痕腐蚀、指纹腐蚀、湿热环境破坏W及机 械损伤等，同时，不会明显地降低低福射锻膜玻璃的光学特性，在保证低福射锻膜玻璃的光 学性能的同时，改善膜层的耐用性，保证低福射锻膜玻璃的稳定性。
【附图说明】
[0009]图1是本发明实施例提供的具有单层远红外福射发射膜层的低福射锻膜玻璃的 简易结构示意图；
[0010]图2是本发明实施例提供的具有Ξ层远红外福射发射膜层的低福射锻膜玻璃的 简易结构示意图。
【具体实施方式】 W11] 为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，W下结合附图及实施例，对 本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用W解释本发明，并 不用于限定本发明。
[0012] W下结合具体实施例对本发明的实现进行详细的描述。
[0013] 如图1~2所示，为本发明提供的较佳实施例。
[0014] 本实施例提供的低福射锻膜玻璃可用于汽车、住宅、建筑的窗户、层叠窗口、天窗、 透明的冰箱口等运用中。
[0015] 参照图1及图2所示，本实施例提供的低福射锻膜玻璃包括基片、至少一个远红外 福射反射膜层W及外覆盖膜层，其中，基片上锻设有第一电介质层，远红外福射反射膜层包 括远红外福射反射层W及两个阻挡层，两个阻挡层分别锻设在远红外福射反射层的上表面 及下表面；外覆盖膜层包括两层ZrOjl，两层ZrOjl之间设置有至少一层第二电介质层； 外覆盖膜层设置在远红外福射反射膜层上，且两者之间设有第Ξ电介质层。
[0016] 运样，也就是说，沿基片自下而上的方向，依序布置第一电介质层、至少一层远红 外福射反射层、第二电介质层W及外覆盖膜层。
[0017] 上述提供的低福射锻膜玻璃中，外覆盖膜层通过第Ξ电介质层与远红外福射发射 膜层隔开，从而，ZrOjl不会直接与金属层或远红外福射发射层直接接触；两层Zr化层之 间通过第二电介质层隔离开；外覆盖膜层改善了整个低福射锻膜玻璃膜层的耐用性，杜绝 了对远红外福射反射层的划痕、划痕腐蚀、指纹腐蚀、湿热环境破坏W及机械损伤等，同时， 不会明显地降低低福射锻膜玻璃的光学特性，在保证低福射锻膜玻璃的光学性能的同时， 改善膜层的耐用性，保证低福射锻膜玻璃的稳定性。
[0018] 本实施例提供的低福射锻膜玻璃的见光透过率大于等于30%，优选可见光透过率 大于40%较为适宜，可见光透过范围在40~70%，优选范围在45~65%。钢前钢后面电 阻小于50Ω/m2,优选面电阻小于30Ω/m2,最好小于20Ω/m2。
[0019] 本实施例中，当远红外福射反射膜层只有一层时，则为单远红外福射反射膜层的 低福射锻膜玻璃；当然，远红外福射反射膜层也可W是两个层或Ξ层或Ξ层W上，运样，远 红外福射反射膜层之间则设置有第四电介质层。
[0020] 本实施例中，远红外福射反射层为Ag材料制成，当然，也可W是Au或化等其它金 属材料制成，远红外福射反射层有助于锻膜玻璃可见光的透过和隔热性能等。
[0021] 在远红外福射反射层优选为Ag材料制成，因为Ag材料反射率相对低，且基本上在 可见光范围内恒定色散，并且，Ag材料制成远红外福射反射层通常是最敏感的层，它的热稳 定性和化学稳定性都较差，由于氧化和腐蚀Ag材料的光学和电学性质很容易被劣化，并在 远红外福射反射层上形成可见的闪亮的白点。
[0022] 阻挡层通常可W是由Ni或化或Ni化或Ni化Οχ等材料制成，当然，阻挡层中也可 W含有NiMO阻挡层的主要作用是保护Ag层免于氧化，增加Ag和介质层的结合力。然而为 了使锻膜玻璃具有良好的可见光透过性能，阻挡层厚度通常非常薄。
[0023] 或者，阻挡层中的也可W采用ZnO代替Ni化；或者，在Ni化材料形成的阻挡层中， 化含量70%~81 %，Cr含量15%~19%，A1含量3%~6%，也可含0%~4%的Fe。
[0024] 具体地，基片可选用超白或白玻或灰玻或浅蓝等，基片的厚度范围可选用 4mm-25mm，优选范围是 4mm-12mm。
[0025] 第一电介质层、第二电介质层、第Ξ电介质层W及第四电介质层有SiOy或SiNy或 SiNOy等材料制成，其目的在于增加了低福射锻膜玻璃的耐用性，第一电介质层、第二电介 质层、第Ξ电介质层W及第四电介质层分别对其下面的膜层起到保护作用W及对光线起到 减反射作用。第Ξ电介质层对远红外福射发射膜层与外覆盖膜层之间起到粘合的作用。具 体地，第一层电介质层中含有SiNy。
[00%] 具体地，第Ξ电介质层比第二电介质层至少厚约20nm，W提供较低的得热因子 (SHGC)，提高耐用性。或者，在其它实施例中第Ξ电介质层的厚度约为5nm~200nm，更优选 约40皿~160皿厚。第二电介质层的厚度范围约10皿~80皿，更优选约20皿~40皿。 [0027] 另外，第二电介质层中含有的Si含量多于第Ξ电介质层中含有的Si含量，一般情 况下，第二电介质层中含有的Si含量是第Ξ电介质层中含有的Si含量的两倍到Ξ倍之间。 在实际加工中，第二电介质层可由娃侣祀在一个气氛为氧气氮气比为5/5的腔室中进行瓣 射，第Ξ电介质层