氧化锆多孔陶瓷填料制备方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及氧化锆材料技术领域，特别是涉及一种氧化锆多孔陶瓷填料制备方法。
【背景技术】
[0002]目前，陶瓷材料一般具有天然的孔隙率，该天然的孔隙率是由原材料的组成和原材料的粒状结构，以及在干燥和焙烧过程中水分的逸出等因素决定的。此天然孔隙率在很多应用情况下可能不足，在这些情况下，重要的是，除了耐火特性外，还要保证良好的隔热性能、电绝缘性能以及机械性能，并且还要求重量减轻。
[0003]在现有技术中已经开发了多种具有较高孔隙率水平的陶瓷产品，孔的引入常见地是通过所谓的成孔剂，即形成孔的材料，例如，在现有技术中，成孔剂常见为石墨、聚合物粒或纤维等获得，成孔剂经加热而燃烧、蒸发或气化，而不会留下残余物。成孔剂一般与陶瓷前体进行预混合，而在焙烧步骤中挥发，由此在陶瓷体中留下孔，这些孔相当于起初被成孔剂颗粒所占据的空间。
[0004]所得的密度和重量降低的多孔陶瓷体，一般广泛用于各种领域，尤其是工业领域以及艺术品领域，例如，应用于填料塔中的填料、各种套管和多孔板等。此外，其还广泛应用于各类工艺品中，如，具有独特审美的花瓶等。
[0005]然而，采用现有方法制备的多孔陶瓷依然具有机械强度较差的缺陷，不利于应用于诸如陶瓷刀具等，对机械性能强度要求较高的陶瓷成品中。
【发明内容】
[0006]基于此，有必要提供一种可以制备得到机械性能强度较高的氧化锆多孔陶瓷填料制备方法。
[0007]—种氧化锆多孔陶瓷填料制备方法，包括如下步骤:
[0008]提供氧氯化错溶液、氧化乾溶液、氨水溶液、聚乙二醇、盐酸溶液、水、无水乙醇、造孔剂和定型剂；
[0009]将所述盐酸溶液加入至所述氧化钇溶液中，生成氯化钇溶液；
[0010]将所述氯化钇溶液、所述氧氯化锆溶液和所述聚乙二醇混合后，滴入所述氨水溶液，并控制pH为5.8?10，生成氢氧化钇沉淀和氢氧化锆沉淀；
[0011 ]将所述氢氧化钇沉淀和所述氢氧化锆沉淀水洗并过滤，再采用无水乙醇洗净并干燥，得到氧化锆陶瓷前驱体；
[0012]将所述氧化锆陶瓷前驱体分散于所述无水乙醇中，干燥并煅烧后，进行球磨，得到氧化锆陶瓷粉体；
[0013]将所述氧化锆陶瓷粉体、所述造孔剂和所述定型剂混合后，制成填料生坯；
[0014]将所述填料生坯进行煅烧，制备得到所述氧化锆多孔陶瓷填料。
[0015]在其中一个实施例中，滴入所述氨水溶液的操作中，还包括如下步骤:
[0016]量取所述氯化锆溶液、所述氧氯化锆溶液和所述聚乙二醇混合后得到的混合液的pH，当pH小于5.8时，对所述混合液进行搅拌操作。
[0017]在其中一个实施例中，所述搅拌操作采用磁力搅拌装置进行。
[0018]在其中一个实施例中，所述搅拌操作采用局部区域搅拌。
[0019]在其中一个实施例中，所述水洗为采用蒸馏水进行清洗。
[0020]在其中一个实施例中，进行多次所述水洗和所述过滤。
[0021 ]在其中一个实施例中，所述氧氯化锆溶液与所述氧化钇溶液的摩尔浓度比为1: (2
?10) ο
[0022]上述氧化锆多孔陶瓷填料制备方法通过共沉淀反应生成氢氧化钇沉淀和氢氧化锆沉淀，并煅烧后得到氧化锆陶瓷粉体，再采用造孔剂和定型剂制成生坯，将生坯再次煅烧后制备得到机械性能强度较高的氧化锆多孔陶瓷填料。
【附图说明】
[0023]图1为一实施方式的氧化锆多孔陶瓷填料制备方法的流程图。
【具体实施方式】
[0024]为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的【具体实施方式】做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施的限制。
[0025]如图1所示，一实施方式的氧化锆多孔陶瓷填料制备方法，包括如下步骤:
[0026]S110:提供氧氯化锆(ZrOCl2)溶液、氧化钇(Y203)溶液、氨水(ΝΗ4ΟΗ)溶液、聚乙二醇、盐酸溶液、水、无水乙醇、造孔剂和定型剂。
[0027]例如，提供lmo 1?1.5mo 1的氧氯化错，2mo 1?1 Omo 1的氧化I乙，8mo 1?40mo 1的氨水，12mol?60mol的盐酸。
[0028]S120:将所述盐酸溶液加入至所述氧化钇溶液中，生成氯化钇溶液。
[0029]通过向氧化钇溶液中加入盐酸溶液，可以生成氧化钇(YC13)溶液，用于后续与氧氯化锆发生共沉淀反应。
[0030]S130:将所述氯化钇溶液、所述氧氯化锆溶液和所述聚乙二醇混合后，滴入所述氨水溶液，生成氢氧化钇沉淀和氢氧化锆沉淀。
[0031]当滴入氨水溶液后，氧氯化锆溶液和所述氧氯化锆溶液在碱性环境下，发生共沉淀反应，反应式如下:
[0032]Zr0Cl2+2NH40H+H20^Zr (0H) 4丄+2NH4C1
[0033]YC13+3NH40H^Y (OH) 3|++3NH4C 1
[0034]这样，可以生成氢氧化钇沉淀(Y(0H)3丨)和氢氧化锆沉淀(Zr(0H)4丨)，例如，所述氧氯化错溶液与所述氧化乾溶液的摩尔浓度比为1: (2?10)，这样，利用摩尔浓度比为1: (2?10)的氯化锆溶液与氧化钇溶液制备得到的氢氧化钇沉淀和氢氧化锆沉淀，即采用如此配比，可以得到实用价值更高的氧化锆陶瓷粉料。优选的，所述氧氯化锆溶液与所述氧化钇溶液的摩尔浓度比为1:3，可以制备得到3mol%钇稳定氧化锆粉体(3YSZ)，其实用价值更高。
[0035]其中，聚乙二醇(PEG)用于起到分散剂的效果，在可溶性锆盐和钇盐的混合溶液中引入适量的聚乙二醇可以起到位阻的作用，来阻碍胶粒进一步聚集长大，有效地改善胶体的分散性和均匀性。
[0036]可以理解，在水溶液中，氢氧化错Zr(0H)4出现沉淀的PH范围值为2.2?3.7，氢氧化钇Υ(0Η)3开始沉淀的pH值为5.8?6.8，为了控制氢氧化锆和氢氧化钇同时沉淀出来，以在后续制备得到稳定的氧化钇和氧化锆前驱体，例如，将所述氯化钇溶液、所述氧氯化锆溶液和所述聚乙二醇混合后，滴入所述氨水溶液，并控制pH为5.8?10，这样，可以使氢氧化锆和氢氧化钇同时沉淀出来，以确保氢氧化锆和氢氧化钇维持稳定且预期的摩尔比。
[0037]为了进一步确保氢氧化错和氢氧化乾同时沉淀出来，例如，滴入所述氨水溶液的操作中，还包括如下步骤:量取所述氯化锆溶液、所述氧氯化锆溶液和所述聚乙二醇混合后得到的混合液的pH，当pH小于5.8时，对所述混合液进行搅拌操作，可以理解，在加入所述氨水溶液的操作中，由于采取的是滴入操作，即滴定操作，这样，就会造成溶液中的pH出现局部过大的问题，从而导致氢氧化锆即羟基氧化锆Zr(0H)4优先于氢氧化钇即羟基氧化钇Y(oh)3沉淀出来，这样，氢氧化钇y(oh)3就不能很好的起到稳定剂的作用，从而导致合成的氧化锆粉体中含有一定量m.Zr02，不利于生成稳定的氧化锆粉体，通过量取所述氯化锆溶液、所述氧氯化锆溶液和所述聚乙二醇混合后得到的混合液的PH，并且当pH小于5.8时，对所述混合液进行搅拌操作，可以确保溶液的整体pH均衡，从而使沉淀反应也更均衡，进而可以确保氢氧化锆和氢氧化钇维持稳定且预期的摩尔比。
[0038]为了进一步确保氢氧化锆和氢氧化钇同时沉淀出来，例如，所述搅拌操作采用局部区域搅拌，以避免局部pH过高的问题，又如，所述搅拌操作采用磁力搅拌装置进行，其搅拌效果更加均匀，从而可以进一步确保氢氧化错和氢氧化乾同时沉淀出来。
[0039]为了确保氢氧化锆和氢氧化钇充分沉淀出来，例如，所述滴入所述氨水溶液的操作采用氨水溶液过量反向滴定法，这样，利用过量的氨水溶液可以使氢氧化锆和氢氧化钇充分沉淀出来，此外，采用上述方法还可以制备晶粒细小、化学均匀性良好且易烧结的粉料，过剩的沉淀剂，即氨水溶液可以使溶液中的全部阳离子同时沉淀下来，避免了有效阳离子的流失，最大限度的提高转化率，例如，反向滴定所述氯化锆溶液、所述氧氯化锆溶液的方法来保证阳离子的完全沉淀，同时在滴定过程中保持较慢的滴定速度，使得阳离子能够均勾沉淀。
[0040]S140:将所述氢氧化钇沉淀和所述氢氧化锆沉淀水洗并过滤，再采用无水乙醇洗净并干燥，得到氧化锆陶瓷前驱体。
[0041]通过将所述氢氧化钇沉淀和所述氢氧化锆沉淀进行水洗操作，不仅可以有效地消除多余的氯离子，而且还可以尽可能地消除团聚问题。例如，所述水洗为采用蒸馏水进行清洗，这样，可以避免引入其余离子。
[0042]在水洗并过滤的操作之后，采用无水乙醇进行洗净，可以使沉淀物胶体表面的羟基(-0H)基团被无水乙醇的氧乙基(-OC2H5)取代，从而可以在后续的粉体干燥过程中，阻止Zr-0-Zr键的形成，能够有效地降低团聚的形成。
[0043]为了进一步清除所述氢氧化钇沉淀和所述氢氧化锆沉淀中的氯离子，例如，进行多次所述水洗和所述过滤;又如，所述过滤为真空抽滤;又如，所述真空抽滤采用真空抽滤机进行，这样，可以进一步清除所述氢氧化钇沉淀和所述氢氧化锆沉淀中的氯离子。
[0044]为了充分除去所述氢氧化钇沉淀和所述氢氧化锆沉淀中的无水乙醇，例如，所述干燥采用干燥箱进行干燥;又如，所述干燥箱的参数设定为:干燥温度100°C?120°C，干燥时间10小时?12小时，这样，可以充分除去所述氢氧化钇沉淀和所述氢氧化锆沉淀中的无水乙醇。
[0045]为了进一步减少团聚问题的发生，例如，所述采用无水乙醇洗净的操作中，还对所述氢氧化钇沉淀和所述氢氧化锆沉淀进行搅拌操作，这样，可以进一步减少团聚问题的发生。
[0046]S150:将所述氧化锆陶瓷前驱体分散于所述无水乙醇中，干燥并煅烧后，进行球磨，得到氧化锆陶瓷粉体。
[0047]通过将所述氧化锆陶瓷前驱体分散于所述无水乙醇中，基于无水乙醇具有的分散剂的效果，尤其是对氧化锆陶瓷前驱体具有极好的润湿效果，可以均匀地将氧化锆陶瓷前驱体分散，以避免发生团聚问题。
[0048]通过干燥可以除去所述氧化锆陶瓷前驱体内含有的无水乙醇，利于后续的干燥，以及可以制备得到更洁净的氧化锆陶瓷粉体。
[0049]为了得到粒径更小更均匀的氧化锆陶瓷粉体，例如，所述球磨为湿法球磨工艺，这样，可以使氧化锆陶瓷粉体与研磨球，以及粉体粒子之间发生充分的接触和摩擦，从